Chemical vapor deposition method of raw material compound for CVD and iridium or iridium compound thin film
Номер патента: JP4054215B2
Опубликовано: 27-02-2008
Автор(ы): 威元 寒江, 昌幸 齋藤
Принадлежит: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-02-2008
Автор(ы): 威元 寒江, 昌幸 齋藤
Принадлежит: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Raw material compounds for use in cvd, and chemical vapor deposition for producing iridium or iridium compound thin films
Номер патента: US20030207552A1. Автор: Masayuki Saito,Takeyuki Sagae. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2003-11-06.