用于制造用于远紫外-平版印刷的渗钛硅土玻璃构成的镜基质-坯料的方法以及用于坯料中的缺陷的位置确定的系统
Номер патента: CN105378464A
Опубликовано: 02-03-2016
Автор(ы): K.贝克
Принадлежит: Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-03-2016
Автор(ы): K.贝克
Принадлежит: Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
METHOD FOR PRODUCING A MIRROR SUBSTRATE BLANK OF TITANIUM-DOPED SILICA GLASS FOR EUV LITHOGRAPHY, AND SYSTEM FOR DETERMINING THE POSITION OF DEFECTS IN A BLANK
Номер патента: US20160151880A1. Автор: Becker Klaus. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-02.