Extended defect sizing range for wafer inspection
Номер патента: WO2013119467A1
Опубликовано: 15-08-2013
Автор(ы): Alexander Slobodov, Anatoly Romanovsky, Yury Yuditsky, Zhongping Cai
Принадлежит: KLA-TENCOR CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-08-2013
Автор(ы): Alexander Slobodov, Anatoly Romanovsky, Yury Yuditsky, Zhongping Cai
Принадлежит: KLA-TENCOR CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Scratch filter for wafer inspection
Номер патента: US09442077B2. Автор: Lisheng Gao,Junqing Huang,Grace Hsiu-Ling Chen,Huan JIN. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-09-13.