• Главная
  • Plasma enhanced chemical vapor deposited vertical resistor

Plasma enhanced chemical vapor deposited vertical resistor

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Embedded Resistors for ReRAM Cells

Номер патента: US20150179937A1. Автор: Yun Wang,Chien-Lan Hsueh. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2015-06-25.

Chemical vapor deposition of perovskite thin films

Номер патента: US20190074439A1. Автор: Xiao Chen,Parag Banerjee,Peifu Cheng,Yoon Myung. Владелец: Washington University in St Louis WUSTL. Дата публикации: 2019-03-07.

Vapor deposition method for producing an organic EL panel

Номер патента: US09947904B2. Автор: Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Vapor deposition method and vapor deposition apparatus

Номер патента: US09458532B2. Автор: Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Vapor deposition device

Номер патента: US09315893B2. Автор: Chunyun Huang. Владелец: EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-19.

Vapor deposition source and method for making organic light-emitting diode display panel

Номер патента: US20190214562A1. Автор: Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-11.

Evaporation source and vapor deposition apparatus

Номер патента: US20190203343A1. Автор: Aiguo Tu,Jinchuan Li. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Preparation of p-zno film by plasma enhanced metal-organic chemical vapor deposition

Номер патента: KR100803950B1. Автор: 이영국,정택모,김창균,이선숙,안기석. Владелец: 한국화학연구원. Дата публикации: 2008-02-18.

Technique for high efficiency metalorganic chemical vapor deposition

Номер патента: US20030049932A1. Автор: Sam Yang,Weimin Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2002062593A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2002-08-15.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1397260A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-03-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: AU2003232015A1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2003-11-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1502292B1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2010-08-25.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA3192596A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-24.

Method of carrying out plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US6432493B1. Автор: Tetsuya Taguwa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-08-13.

Plasma enhanced wafer soak for thin film deposition

Номер патента: US12014921B2. Автор: Ming Li,Tu Hong,Arul N. Dhas. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma enhanced wafer soak for thin film deposition

Номер патента: WO2020081235A1. Автор: Ming Li,Tu Hong,Arul N. Dhas. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-04-23.

Method of making primary current detector using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US4851367A. Автор: David J. Wolf. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1989-07-25.

Unitary wafer plasma enhanced chemical vapor deposition holding device

Номер патента: US5478399A. Автор: Calvin K. Willard. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1995-12-26.

Deposition of silicon nitride by plasma-enchanced chemical vapor deposition

Номер патента: US5508067A. Автор: Atsushi Tabata,Tatsuya Sato,Naoaki Kobayashi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-04-16.

Plasma enhanced chemical vapor reactor with shaped electrodes

Номер патента: US5628869A. Автор: Thomas G. Mallon. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 1997-05-13.

Pulsed plasma enhanced CVD of metal silicide conductive films such as TiSi2

Номер патента: US5344792A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-09-06.

Plasma enhanced tungsten nucleation for low resistivity

Номер патента: WO2024005892A1. Автор: Yu Lei,Yi Xu,Xianmin Tang,Rongjun Wang,Tsung-Han Yang,Wenting Hou,Junyeong YUN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Equipment for chemical vapor deposition

Номер патента: KR20070002277A. Автор: 나민재. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-01-05.

Plasma enhanced tungsten nucleation for low resistivity

Номер патента: US20240006236A1. Автор: Yu Lei,Yi Xu,Xianmin Tang,Rongjun Wang,Tsung-Han Yang,Wenting Hou,Junyeong YUN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma-enhanced cyclic layer deposition process for barrier layers

Номер патента: US20060292864A1. Автор: Ming Xi,Michael Yang,Toshio Itoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Chemical vapor deposition tool and process for fabrication of photovoltaic structures

Номер патента: US09972740B2. Автор: Jianming Fu,Yongkee Chae. Владелец: Tesla Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Nitride film formed by plasma-enhanced and thermal atomic layer deposition process

Номер патента: US09865455B1. Автор: James Samuel Sims,Kathryn Merced Kelchner. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Chemical vapor deposition coating, article, and method

Номер патента: US09777368B2. Автор: David A. Smith,James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: WO2010088015A2. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM AMERICA, INC.. Дата публикации: 2010-08-05.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: US20140008803A1. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2014-01-09.

High density plasma chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020030033A1. Автор: Water Lur,Shih-Wei Sun,Chih-Chien Liu,Ta-Shan Tseng,W.B. Shieh,J.Y. Wu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-14.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: US09466574B2. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Oxide/organic polymer multilayer thin films deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: WO1999057330A9. Автор: Seshu B Desu,John J Senkevich. Владелец: Seshu B Desu. Дата публикации: 2000-02-10.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials

Номер патента: CA2595761A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-10.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US20200115800A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-04-16.

Plasma enhanced deposited, fully oxidized PSG film

Номер патента: US20060001127A1. Автор: Jack Linn,Mark Bordelon,Katie Pentas. Владелец: INTERSIL AMERICAS LLC. Дата публикации: 2006-01-05.

Techniques and systems for continuous-flow plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD)

Номер патента: US09972501B1. Автор: Birol Kuyel. Владелец: Nano Master Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

A chemical vapor deposition chamber article

Номер патента: WO2020242292A8. Автор: Marcus Gerardus Van Munster,Guiming SONG. Владелец: Schunk Xycarb Technology B.V.. Дата публикации: 2021-01-28.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A4. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-10-30.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A1. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-05-15.

METHOD OF PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION OF TaC AND TaCN FILMS HAVING GOOD ADHESION TO COPPER

Номер патента: WO2007111780A3. Автор: Tadahiro Ishizaka. Владелец: Tadahiro Ishizaka. Дата публикации: 2008-01-17.

Vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1274429A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-09-25.

Platinum source compositions for chemical vapor deposition of platinum

Номер патента: US5783716A. Автор: Thomas H. Baum,Peter S. Kirlin,Sofia Pombrik. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1998-07-21.

System and process for high-density, low-energy plasma enhanced vapor phase epitaxy

Номер патента: US09466479B2. Автор: Hans Von Känel. Владелец: OERLIKON METCO AG. Дата публикации: 2016-10-11.

Metal-organic (MO) chemical vapor deposition method and MO chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US6180541B1. Автор: Jae-Hyun Joo. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-30.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US6110283A. Автор: Takaaki Kawahara,Mikio Yamamuka,Tsuyoshi Horikawa,Masayoshi Tarutani. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2000-08-29.

Method and system for inline chemical vapor deposition

Номер патента: WO2012170166A3. Автор: Piero Sferlazzo,Thomas Michael Lampros. Владелец: AVENTA TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2013-04-25.

Low thermal budget chemical vapor deposition processing

Номер патента: US20080119059A1. Автор: Yuji Maeda,R. Suryanarayanan Iyer,Jacob W. Smith. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-05-22.

Localized atmospheric laser chemical vapor deposition

Номер патента: EP2842156A1. Автор: Selim Elhadj,Manyalibo Joseph Matthews. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2015-03-04.

Apparatus and concept for minimizing parasitic chemical vapor deposition during atomic layer deposition

Номер патента: EP1238421A4. Автор: Ofer Sneh,Carl Galewski. Владелец: Genus Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: WO2009131842A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: Lumenz, Inc.. Дата публикации: 2009-10-29.

Chemical Vapor Deposition Diamond (CVDD) Wires for Thermal Transport

Номер патента: US20210143080A1. Автор: Philip Andrew Swire,Nina Biddle. Владелец: Microsemi Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

In-situ p-type activation of iii-nitride films grown via metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: US20210151329A1. Автор: Manijeh Razeghi. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2021-05-20.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US20240209502A1. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-06-27.

Growth of carbon nanotube (cnt) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (cvd) process

Номер патента: US20170077370A1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-03-16.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: EP2279284A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: LUMENZ Inc. Дата публикации: 2011-02-02.

Multifunctional wafer pretreatment chamber and chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240337011A1. Автор: Yongjun Feng,Dongping Zhou,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09825210B2. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-21.

Reactor and method for production of silicon by chemical vapor deposition

Номер патента: US09793116B2. Автор: Werner O. Filtvedt,Josef Filtvedt. Владелец: Dynatec Engineering AS. Дата публикации: 2017-10-17.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09544998B1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-01-10.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US09410247B2. Автор: Jung Hyun Lee,Jong Hyun Lee,Young Sun Kim,Ki Sung Kim,Suk Ho Yoon,Hyun Seok Ryu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-09.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: WO2020096976A1. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S.H. Chen. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2020-05-14.

Method for tungsten chemical vapor deposition on a semiconductor substrate

Номер патента: EP1219725A1. Автор: Joris Baele,Hans Vercammen. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2002-07-03.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials via alternating layers

Номер патента: US20090022883A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Ovonyx Inc. Дата публикации: 2009-01-22.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: US11987878B2. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S. H. Chen. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Photo-chemical vapor deposition of silicon nitride film

Номер патента: US4588610A. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1986-05-13.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US11661655B2. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2023-05-30.

Metal organic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP3652358A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-05-20.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus for solar cell

Номер патента: US20160225933A1. Автор: Heonmin Lee,Dongjoo YOU,Wonki Yoon. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2016-08-04.

Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes

Номер патента: US12040177B2. Автор: Yoshio SUSA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma enhanced nitride layer

Номер патента: WO2006039028A1. Автор: Jian Chen,Tab A. Stephens,Stanley M. Filipiak,Yongjoo Jeon. Владелец: Freescale Semiconductor, Inc.. Дата публикации: 2006-04-13.

Chemical vapor deposition technique for depositing titanium silicide on semiconductor wafers

Номер патента: US5278100A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-01-11.

Temperature-controlled purge gate valve for chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20090205563A1. Автор: Chantal Arena,Christiaan Werkhoven. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2009-08-20.

Chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US8778079B2. Автор: Michael J. Begarney,Frank J. Campanale. Владелец: Valence Process Equipment Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Chemical vapor deposition of low density silicon dioxide films

Номер патента: US6054206A. Автор: Thomas Weller Mountsier. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2000-04-25.

Vapor phase epitaxial growth method by organometallic chemical vapor deposition

Номер патента: CA1242623A. Автор: Yoshinobu Matsuda,Akio Sasaki,Shigeo Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1988-10-04.

High throughput chemical vapor deposition electrode

Номер патента: US20160329456A1. Автор: Moon Chun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-10.

High throughput chemical vapor deposition electrode

Номер патента: WO2016182824A1. Автор: Moon Chun. Владелец: SunPower Corporation. Дата публикации: 2016-11-17.

RF Power Source Operation In Plasma Enhanced Processes

Номер патента: US20210125820A1. Автор: Farhad Moghadam,Hari Ponnekanti,Dmitry A. Dzilno. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-04-29.

Plasma enhanced ALD of tantalum nitride and bilayer

Номер патента: US20050095443A1. Автор: Hyungjun Kim,Stephen Rossnagel,Andrew Kellock. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-05-05.

Chemical vapor deposition of titanium

Номер патента: US20090039517A1. Автор: Gurtej Singh Sandhu,Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Inverted positive vertical flow chemical vapor deposition chamber

Номер патента: CA1209330A. Автор: James D. Parsons. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1986-08-12.

Chemical vapor deposition of titanium

Номер патента: US6903462B2. Автор: Gurtej Singh Sandhu,Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-06-07.

Chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020058413A1. Автор: Anand Srinivasan,Raj Narasimhan,Sujit Sharon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-16.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US11885018B2. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-01-30.

Cleaning apparatus of a high density plasma chemical vapor deposition chamber and cleaning thereof

Номер патента: US20050211279A1. Автор: Sung Hwang,Kyoung Chin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Wafer carrier for metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: EP3907308A1. Автор: Yuxi Wan,Zetao PENG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-10.

Laser-assisted metal-organic chemical vapor deposition devices and methods of use thereof

Номер патента: US20210355581A1. Автор: Hongping Zhao,Zhaoying Chen. Владелец: Ohio State Innovation Foundation. Дата публикации: 2021-11-18.

Chemical vapor deposition method for fabricating two-dimensional materials

Номер патента: EP3443138A1. Автор: Nigel Pickett,Ombretta Masala,Nicky Prabhudas SAVJANI. Владелец: Nanoco Technologies Ltd. Дата публикации: 2019-02-20.

Wafer support, chemical vapor phase growth device, epitaxial wafer and manufacturing method thereof

Номер патента: US10208398B2. Автор: Daisuke Muto,Jun NORIMATSU. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2019-02-19.

Very low dielectric constant plasma-enhanced CVD films

Номер патента: US20050153574A1. Автор: Robert Mandal. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-07-14.

Particle reduction in physical vapor deposition of amorphous silicon

Номер патента: WO2024081221A1. Автор: Mingdong Li,Chengyu Liu,Peijiao FANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-18.

Film quality control in a linear scan physical vapor deposition process

Номер патента: US20190311905A1. Автор: Joung Joo Lee,Xianmin Tang,Bencherki Mebarki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Toposelective vapor deposition using an inhibitor

Номер патента: US20220181163A1. Автор: Michael Givens,Varun Sharma,Shaoren Deng,Marko Tuominen,Andrea Illiberi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-06-09.

Vapor deposition apparatus and method associated

Номер патента: EP2839055A1. Автор: Masashi Mizuta. Владелец: Furukawa Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-25.

Vapor deposition apparatus and method associated

Номер патента: WO2013157057A1. Автор: Masashi Mizuta. Владелец: FURUKAWA CO., LTD.. Дата публикации: 2013-10-24.

Passivation against vapor deposition

Номер патента: US20210115559A1. Автор: Varun Sharma,Eva E. Tois. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-04-22.

Vapor Deposition Apparatus and Process for Continuous Indirect Deposition of a Thin Film Layer on a Substrate

Номер патента: US20130122630A1. Автор: Stacy Ann Black. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2013-05-16.

Method for changing physical vapor deposition film form

Номер патента: US20100022101A1. Автор: Yi-Hao Ting. Владелец: Inotera Memories Inc. Дата публикации: 2010-01-28.

Physical vapor deposition of low-stress nitrogen-doped tungsten films

Номер патента: US09938616B2. Автор: Michael Ng,Michael Rumer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Thin film vapor deposition method and thin film vapor deposition apparatus

Номер патента: US09506146B2. Автор: Ju-Hwan Park,Byung-Chul Cho,In-Hwan Yi. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Vapor deposition apparatus and process for continuous indirect deposition of a thin film layer on a substrate

Номер патента: US09412892B2. Автор: Stacy Ann Black. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Production method of epitaxial silicon wafer and vapor deposition apparatus

Номер патента: US20160083836A1. Автор: Hitoshi Takamiya,Kan Yoshitake,Motoki GOTO,Yusuke Kurozumi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2016-03-24.

Method of controlling contamination of vapor deposition apparatus and method of producing epitaxial wafer

Номер патента: US20200392618A1. Автор: Shota Kinose. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2020-12-17.

Physical vapor deposition system and methods of operating the same

Номер патента: US20240271271A1. Автор: Yen-Yu Chen,Chia-Hsi Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Indium electroplating on physical vapor deposition tantalum

Номер патента: US11753736B2. Автор: Eric R. Miller,Michael J. Rondon,Jon Sigurdson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2023-09-12.

Production method of epitaxial silicon wafer and vapor deposition apparatus

Номер патента: US09670581B2. Автор: Hitoshi Takamiya,Kan Yoshitake,Motoki GOTO,Yusuke Kurozumi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Chemical vapor condensation deposition of photoresist films

Номер патента: WO2022177704A1. Автор: Kelvin Chan,Lakmal Charidu KALUTARAGE,Mark Joseph Saly. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-25.

Particle Reduction in Physical Vapor Deposition of Amorphous Silicon

Номер патента: US20240128075A1. Автор: Mingdong Li,Chengyu Liu,Peijiao FANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Method and system for conditioning a vapor deposition target

Номер патента: EP2013373B1. Автор: Robert Huff,Milan Ilic,George McDonough. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2011-08-31.

Method and apparatus for depositing a layer on a semiconductor wafer by vapor deposition in a process chamber

Номер патента: MY166009A. Автор: Brenninger Georg. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2018-05-21.

A vapor deposition apparatus

Номер патента: US20170037508A1. Автор: Peng Zhang,Lifei Ma. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Physical vapor deposition chamber and physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US11732346B2. Автор: Bing Li,Qiwei Huang,Hongrui GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Indium electroplating on physical vapor deposition tantalum

Номер патента: US20240018684A1. Автор: Eric R. Miller,Michael J. Rondon,Jon Sigurdson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2024-01-18.

Vapor deposition and vapor deposition method

Номер патента: US09932672B2. Автор: Sang-Joon SEO,Myung-Soo Huh,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG,Jeong-Ho Yi,Cheol-Rae JO,Seung-Hun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Methods of vapor deposition with multiple vapor sources

Номер патента: US09873942B2. Автор: Mohith Verghese,Eric Shero,Jan Willem Maes,Christophe Pomarede,Chang-gong Wang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-01-23.

Vapor deposition method and method for producing an organic electroluminescence display device

Номер патента: US09741932B2. Автор: Satoshi Inoue,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Photoelectric conversion device vapor deposition material, photoelectric conversion device, sensor, and imaging device

Номер патента: US09691999B2. Автор: Mitsumasa Hamano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Physical vapor deposition of an aluminum nitride film

Номер патента: US09484198B1. Автор: Yung-Chin Yang,Chen-Te Chang,Jyh-Wei Lee. Владелец: Ming Chi University of Technology. Дата публикации: 2016-11-01.

Method of depositing copper using physical vapor deposition

Номер патента: US9728414B2. Автор: Wen Yu,Stephen B. Robie,Jeremias D. Romero. Владелец: Cypress Semiconductor Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Method and chamber for backside physical vapor deposition

Номер патента: US20230335393A1. Автор: Yong Cao,Kevin Vincent Moraes,Shane Lavan,Jothilingam RAMALINGAM,Chunming Zhou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Plasma vapor deposition system and method for making multi-junction silicon thin film solar cell modules and panels

Номер патента: WO2010008439A1. Автор: Mohd Aslami. Владелец: Mohd Aslami. Дата публикации: 2010-01-21.

Plasma vapor deposition system and method for making multi-junction silicon thin film solar cell modules and panels

Номер патента: EP2318561A1. Автор: Mohd Aslami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-05-11.

Vapor deposition routes to nanoporous silica

Номер патента: US6022812A. Автор: Douglas M. Smith,Teresa Ramos,Kevin H. Roderick. Владелец: AlliedSignal Inc. Дата публикации: 2000-02-08.

Vapor deposition reactor and method for forming thin film

Номер патента: US20100310771A1. Автор: Sang In LEE. Владелец: Synos Technology Inc. Дата публикации: 2010-12-09.

Method of producing particles by physical vapor deposition in an ionic liquid

Номер патента: CA2636662C. Автор: James J. Finley. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2011-08-16.

Method of vapor deposition

Номер патента: US3934059A. Автор: Murray Arthur Polinsky. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1976-01-20.

Low halide lanthanum precursors for vapor deposition

Номер патента: US20230382927A1. Автор: Sergei V. Ivanov,Neil Osterwalder. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-11-30.

Electromagnetic vapor deposition apparatus

Номер патента: US20140326178A1. Автор: ChiaChen LI,TeinWang HUANG. Владелец: EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-06.

Low halide lanthanum precursors for vapor deposition

Номер патента: US11753420B2. Автор: Sergei V. Ivanov,Neil Osterwalder. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-09-12.

Low Halide Lanthanum Precursors For Vapor Deposition

Номер патента: US20210363162A1. Автор: Sergei V. Ivanov,Neil Osterwalder. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2021-11-25.

EUV photopatterning of vapor-deposited metal oxide-containing hardmasks

Номер патента: US09996004B2. Автор: David Smith,Dennis M. Hausmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Method of manufacturing an electrode for vapor deposition

Номер патента: US09988719B2. Автор: Jae Bum Kim. Владелец: Dae San Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Particle reduction in a physical vapor deposition chamber

Номер патента: US09773665B1. Автор: Yong Cao,Thanh X. Nguyen,Weimin Zeng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Laser-enhanced chemical etching of nanotips

Номер патента: US20140242805A1. Автор: Jeffrey C. Lam,Zhihong Mai,Mohammed Khalid BIN DAWOOD,Tsu Hau NG. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2014-08-28.

Vapor deposition device

Номер патента: US11898246B2. Автор: Naoyuki Wada,Yu Minamide. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2024-02-13.

Vapor deposition method

Номер патента: US11910694B2. Автор: Shigeki Terada. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2024-02-20.

Acoustic streaming of condensate during sputtered metal vapor deposition

Номер патента: US20040173452A1. Автор: Mark Doczy,Justin Brask,Robert Turkot. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-09-09.

Film thickness test apparatus and method and vapor deposition device

Номер патента: US11092429B2. Автор: Chihwei SU. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-17.

Physical vapor deposition in-chamber electro-magnet

Номер патента: EP3791422A1. Автор: Michael S. Cox,Brian T. West,Dinkesh SOMANNA,Miroslav Gelo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-03-17.

Vapor deposition mask and method for manufacturing vapor deposition mask

Номер патента: US20210074919A1. Автор: Jun FUJIYOSHI. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Film thickness test apparatus and method and vapor deposition device

Номер патента: US20190025045A1. Автор: Chihwei SU. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-24.

High-Rate Chemical Vapor Etch of Silicon Substrates

Номер патента: US20140357082A1. Автор: Isaac Lauer,Stephen W. Bedell,Joseph S. Newbury,Gen P. Lauer. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-12-04.

Physical Vapor Deposition System And Processes

Номер патента: US20200277697A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-09-03.

Vapor deposition device and method for manufacturing epitaxial silicon wafer

Номер патента: US11846039B2. Автор: Masayuki Tsuji,Kazuhiro Narahara,Haku Komori. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Physical vapor deposition system and processes

Номер патента: WO2020180582A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-10.

Physical vapor deposition system and processes

Номер патента: WO2020180584A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-10.

Resonant antenna for physical vapor deposition applications

Номер патента: US20240136151A1. Автор: Masaki Takagi,Barton Lane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Method and system for operating a physical vapor deposition process

Номер патента: US20070072434A1. Автор: Chia Wen. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2007-03-29.

Method for manufacturing vapor deposition mask

Номер патента: US20190360087A1. Автор: Shinichi Esumi. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Physical Vapor Deposition System And Processes

Номер патента: US20200277698A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-09-03.

Low halide lanthanum precursors for vapor deposition

Номер патента: EP3659687A3. Автор: Sergei V. Ivanov,Neil Osterwalder. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2020-08-19.

Low halide lanthanum precursors for vapor deposition

Номер патента: EP3659687A2. Автор: Sergei V. Ivanov,Neil Osterwalder. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2020-06-03.

Resonant antenna for physical vapor deposition applications

Номер патента: US20240234089A9. Автор: Masaki Takagi,Barton Lane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US3659552A. Автор: Thomas F Briody. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1972-05-02.

Resonant antenna for physical vapor deposition applications

Номер патента: WO2024085938A1. Автор: Masaki Takagi,Barton Lane. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Plasma enhanced chemical vapor deposition of graphene on optical fibers

Номер патента: US20230212743A1. Автор: Nai-Chang Yeh,Deepan Kishore Kumar. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2023-07-06.

Plasma enhanced chemical vapour deposition apparatus; producing carbon nanotubes

Номер патента: GB2380494A. Автор: Jin Pyo Hong,Chae Ok Kim,Ho Suck Kang,Hyoung Joo Yoon. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-09.

Process for preparing contact lens with film by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20190310494A1. Автор: Wen-Pin Lin,Meng-Jiy WANG. Владелец: Brighten Optix Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Method for improving film uniformity in plasma enhanced chemical vapor deposition system

Номер патента: US20050025906A1. Автор: Hui-Chu Lin,Wen-Cheng Lu. Владелец: Toppoly Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2005-02-03.

Migration and plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA2756994C. Автор: Kenneth Scott Alexander Butcher. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-07.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process, system, and coated vessels

Номер патента: US20230340670A1. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SIO2 Medical Products Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A3. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-04-14.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A4. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-06-23.

RF powered plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and methods

Номер патента: US6112697A. Автор: Paul Smith,Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: US20060008594A1. Автор: Sung Kang,Woo Bae. Владелец: JAPAN ASIA INVESTMENT Co Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: WO2006017340A2. Автор: Sung Gu Kang,Woo Kyung Bae. Владелец: Cdream Corporation. Дата публикации: 2006-02-16.

Laser-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230203660A1. Автор: Rodney S. Harris,Stephen G. Topping. Владелец: River Electro Optics LLC. Дата публикации: 2023-06-29.

Physical vapor deposition chamber with capacitive tuning at wafer support

Номер патента: US09593411B2. Автор: Daniel J. Hoffman,Karl M. Brown,Ying Rui,John Pipitone. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Apparatus and method for inductively-coupled-plasma-enhanced ionized physical-vapor deposition

Номер патента: WO1999027153A1. Автор: Mehrdad M. Moslehi. Владелец: Cvc, Inc.. Дата публикации: 1999-06-03.

Apparatus and method for plasma enhanced chemical vapour deposition

Номер патента: NL2031257B1. Автор: Didden Arjen,Kudlacek Pavel. Владелец: Leydenjar Tech B V. Дата публикации: 2023-09-20.

Apparatus and method for plasma enhanced chemical vapour deposition

Номер патента: WO2023172140A1. Автор: Pavel KUDLACEK,Arjen DIDDEN. Владелец: Leydenjar Technologies B.V.. Дата публикации: 2023-09-14.

Plasma-enhanced chemical vapour deposition apparatus

Номер патента: WO2023128764A1. Автор: Pavel KUDLACEK,Arjen DIDDEN. Владелец: Leydenjar Technologies B.V. Дата публикации: 2023-07-06.

Electrode active material grown by plasma-enhanced chemical vapour deposition

Номер патента: GB2595877A. Автор: Paul Shashi. Владелец: De Montfort University. Дата публикации: 2021-12-15.

Method for efficiently eliminating graphene wrinkles formed by chemical vapor deposition

Номер патента: US12116281B2. Автор: Jie Xu,Libo GAO,Guowen Yuan. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-10-15.

Plasma enhancement member, and plasma supplying apparatus and medical instrument including the same

Номер патента: US20180366298A1. Автор: Youngmin Kim,Jeonghae CHOI,Seeun YUN. Владелец: Feagle Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

Combinatorial plasma enhanced deposition techniques

Номер патента: EP2279518A2. Автор: Tony Chiang,Sunil Shanker. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2011-02-02.

Combinatorial plasma enhanced deposition techniques

Номер патента: WO2009135182A2. Автор: Tony Chiang,Sunil Shanker. Владелец: INTERMOLECULAR, INC.. Дата публикации: 2009-11-05.

Microwave plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240158910A1. Автор: Zhiwen Kang,Bingfeng CAI,Kangfu GUO. Владелец: Wuhan Youmeike Automation Co ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

High density plasma chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20020112666A1. Автор: Pei-Ren Jeng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Chemical vapor deposition tool and operating method thereof

Номер патента: US20170032940A1. Автор: Chien-Ta Lee,Pen-Li HUNG,Yu-Shan SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-02.

Chemical vapor deposition of dense and transparent zirconia films

Номер патента: US5145720A. Автор: Toshio Hirai,Hisanori Yamane. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 1992-09-08.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US10151033B2. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-12-11.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20160376707A1. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11702749B2. Автор: Jing Lu,Jes Asmussen,Yajun Gu,Shreya Nad. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-07-18.

Chemical vapor deposition method of growing oxide films with giant magnetoresistance

Номер патента: US5487356A. Автор: Jiming Zhang,Yi-Oun Li. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1996-01-30.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11854775B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-12-26.

Diamond producing method and DC plasma enhanced CVD apparatus

Номер патента: US09534315B2. Автор: Hitoshi Noguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Chemical vapor deposition graphene foam electrodes for pseudo-capacitors

Номер патента: US9263196B2. Автор: Thomas A. Yager. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2016-02-16.

Multiple Chamber System for Plasma Chemical Vapor Deposition of Diamond and Related Materials

Номер патента: US20230392255A1. Автор: William Holber. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2023-12-07.

Diamond producing method and dc plasma enhanced cvd apparatus

Номер патента: US20170073836A1. Автор: Hitoshi Noguchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-16.

Lamp with particles coated by vapor deposition

Номер патента: US20030057824A1. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Vapor deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20150191822A1. Автор: Sang-Joon SEO,Jae-eung Oh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-09.

Conductive flakes by sputtering and vapor deposition

Номер патента: WO2004070733A2. Автор: Angelo Yializis,Michael G. Mikhael. Владелец: Sigma Laboratories Of Arizona, Inc.. Дата публикации: 2004-08-19.

Vacuum vapor deposition method

Номер патента: US09863034B2. Автор: Yuji Yanagi. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Physical vapor deposition chamber with rotating magnet assembly and centrally fed rf power

Номер патента: WO2011139439A3. Автор: Keith Miller,Alan Ritchie. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230175113A1. Автор: Sangwook Park,Kyuhee Han,Jaesuk KIM,Gukrok YUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US12065735B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Methods and apparatus for physical vapor deposition (pvd) dielectric deposition

Номер патента: US20210050195A1. Автор: Jothilingam RAMALINGAM,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-18.

Apparatus and method for physical vapor deposition

Номер патента: US20240339310A1. Автор: Wen-Cheng Yang,Chyi-Tsong Ni,Yu-Young Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Physical vapor deposition RF plasma shield deposit control

Номер патента: US09605341B2. Автор: Keith A. Miller. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Deflection magnetic field type vacuum arc vapor deposition device

Номер патента: US20070023282A1. Автор: Yasuo Murakami. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-01.

Conductive flakes manufactured by combined sputtering and vapor deposition

Номер патента: US7754106B2. Автор: Angelo Yializis,Michael G. Mikhael. Владелец: Sigma Labs Inc. Дата публикации: 2010-07-13.

Physical vapor deposition with impedance matching network

Номер патента: EP2398930A1. Автор: Youming Li,Jeffrey Birkmeyer,Takamichi Fujii,Takayuki Naono,Yoshikazu Hishinuma. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-12-28.

Physical vapor deposition with impedance matching network

Номер патента: WO2010096533A1. Автор: Youming Li,Jeffrey Birkmeyer,Takamichi Fujii,Takayuki Naono,Yoshikazu Hishinuma. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2010-08-26.

Container-shaped physical vapor deposition targets

Номер патента: US20030015432A1. Автор: Jianxing Li,Steven Wu,Michael Pinter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-23.

Lasing dye sensor for chemical vapors

Номер патента: US5185131A. Автор: Terence W. Barrett,John F. Giuliani. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1993-02-09.

Electrode for vapor deposition and vapor-deposition method using same

Номер патента: US4978556A. Автор: Eduard Pinkahsov. Владелец: Vapor Technologies Inc. Дата публикации: 1990-12-18.

Method and apparatus for pulsed energy induced vapor deposition of thin films

Номер патента: US5015492A. Автор: THIRUMALAI VENKATESAN,Xin D. Wu. Владелец: Bell Communications Research Inc. Дата публикации: 1991-05-14.

Vapor deposition source and method for making organic light-emitting diode display panel

Номер патента: US11800779B2. Автор: Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Physical vapor deposition processing systems target cooling

Номер патента: SG11201905739QA. Автор: Vishwas Kumar Pandey,Kartik Shah,Wei W Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-08-27.

Vapor deposition mask and method for producing organic electronic device

Номер патента: US20240084434A1. Автор: Shinichiro Watanabe,Takahiro Yajima,Tatsuro Uchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-14.

Optimized crucible assembly and method for physical vapor deposition

Номер патента: EP4078648A1. Автор: Philippe PAGNON. Владелец: Essilor International SAS. Дата публикации: 2022-10-26.

Optimized crucible assembly and method for physical vapor deposition

Номер патента: US20230002880A1. Автор: Philippe PAGNON. Владелец: Essilor International Compagnie Generale dOptique SA. Дата публикации: 2023-01-05.

Mgo Vapor Deposition Material

Номер патента: US20080003460A1. Автор: Hiroki Hirata,Hideaki Sakurai,Yoshitaka Mayuzumi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2008-01-03.

Physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US12077850B2. Автор: Wei-Chen Liao,Ming-Hsien Lin,Kuo-Lung Hou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20240360545A1. Автор: Wei-Chen Liao,Ming-Hsien Lin,Kuo-Lung Huo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Bipolar collimator utilized in a physical vapor deposition chamber

Номер патента: US09831074B2. Автор: Joung Joo Lee,Guojun Liu,Prashanth Kothnur,Wei W. Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Physical vapor deposition target assembly

Номер патента: WO2020154582A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-07-30.

Solid Electrolytic Capacitor Containing A Sequential Vapor-Deposited Dielectric Film

Номер патента: US20200176194A1. Автор: Jan Petrzilek,Mitchell D. Weaver. Владелец: AVX Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

Capacitor having a physical vapor deposited electrode and method of manufacture

Номер патента: US20020044405A1. Автор: Ashish Shah,Barry Muffoletto,Neal Nesselbeck. Владелец: Greatbatch Ltd. Дата публикации: 2002-04-18.

Coils utilized in vapor deposition applications and methods of production

Номер патента: US9659758B2. Автор: Eal Lee,Nicole Truong,Robert Prater,Norm Sand. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Method and apparatus for ionized physical vapor deposition

Номер патента: GB2359189A. Автор: Jason Smolanoff,Jim Zibrida,Bruce Gittleman,Thomas J Licata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-08-15.

Method and apparatus for physical-vapor deposition of material layers

Номер патента: US5354443A. Автор: Mehrdad M. Moslehi. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1994-10-11.

Isolator ring clamp and physical vapor deposition chamber incorporating same

Номер патента: US11670493B2. Автор: Keith A. Miller,Ilya Lavitsky. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-06.

Physical vapor deposition with a dual-shutter

Номер патента: US20200176235A1. Автор: Wei Wang,Hsueh-Chung Chen. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

Methods and apparatus for physical vapor deposition (PVD) dielectric deposition

Номер патента: US11842890B2. Автор: Jothilingam RAMALINGAM,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Physical vapor deposition processing systems target cooling

Номер патента: WO2018136395A1. Автор: Vishwas Kumar Pandey,Kartik Shah,Wei W. Wang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-07-26.

Methods and apparatus for physical vapor deposition (pvd) dielectric deposition

Номер патента: WO2021034736A1. Автор: Jothilingam RAMALINGAM,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-02-25.

Methods and apparatus for physical vapor deposition (pvd) dielectric deposition

Номер патента: US20240105433A1. Автор: Jothilingam RAMALINGAM,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

Apparatus and method for physical vapor deposition

Номер патента: US12014912B2. Автор: Wen-Cheng Yang,Chyi-Tsong Ni,Yu-Young Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Methods, Systems, and Apparatus for Fabricating a Physical Vapor Deposition Manrel-Target Assembly

Номер патента: US20180320263A1. Автор: Gerald L. Martinez. Владелец: Advanced Design Innovations Inc. Дата публикации: 2018-11-08.

X-ray system window with vapor deposited filter layer

Номер патента: US20140177809A1. Автор: Michael John Danyluk,William John Schaefer. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2014-06-26.

Solid Electrolytic Capacitor Containing A Sequential Vapor-Deposited Interior Conductive Polymer Film

Номер патента: US20190318879A1. Автор: Jan Petrzilek,Mitchell D. Weaver. Владелец: AVX Corp. Дата публикации: 2019-10-17.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US9617635B2. Автор: Seung-Yong Song,Cheol Jang,Jin-Kwang Kim,Seung-Hun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US20140123899A1. Автор: Seung-Yong Song,Cheol Jang,Jin-Kwang Kim,Seung-Hun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-08.

Solid electrolytic capacitor containing a sequential vapor-deposited interior conductive polymer film

Номер патента: EP3776611A1. Автор: Jan Petrzilek,Mitchell D. Weaver. Владелец: AVX Corp. Дата публикации: 2021-02-17.

Optimized crucible assembly and method for physical vapor deposition

Номер патента: WO2021123293A1. Автор: Philippe PAGNON. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2021-06-24.

Solid electrolytic capacitor containing a vapor-deposited barrier film

Номер патента: US11948756B2. Автор: Jan Petrzilek,Miloslav Uher,Mitchell D. Weaver. Владелец: Kyocera Avx Components Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Cathode arc vapor deposition

Номер патента: EP1055013A1. Автор: Viktor Khominich. Владелец: Phygen Inc. Дата публикации: 2000-11-29.

Methods of vapor deposition of metal halides

Номер патента: US20230386759A1. Автор: Roy G. Gordon,Luke M. DAVIS,Eliza Kate SPEAR. Владелец: Harvard College. Дата публикации: 2023-11-30.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: TW593737B. Автор: Douglas J Guerrero,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-06-21.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition methods for graphene deposition

Номер патента: US20170253962A1. Автор: Zhihong Chen,Sunny Chugh,Ruchit Mehta. Владелец: PURDUE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2017-09-07.

Method and system for plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: TW200932068A. Автор: Chun Wah FAN. Владелец: Dongguan Anwell Digital Machinery Ltd. Дата публикации: 2009-07-16.

Low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon-nitrogen-containing films

Номер патента: TWI271803B. Автор: Raymond Joe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-21.

Embedded wire chemical vapor deposition (ewcvd)

Номер патента: EP4363630A1. Автор: Joseph Pegna,Kirk L. Williams,Shay L. Harrison. Владелец: Free Form Fibers LLC. Дата публикации: 2024-05-08.

Chemical vapor deposition process for producing diamond

Номер патента: US11905594B2. Автор: Neil Fox,Hugo DOMINGUEZ ANDRADE,Thomas B SCOTT,Edward JD MAHONEY,Alexander CROOT. Владелец: University of Bristol. Дата публикации: 2024-02-20.

Vapor deposition method and vapor deposition container

Номер патента: US20240110274A1. Автор: Yoshihiko Mochizuki,Mitsuru Iwata,Yasunori Yonekuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Ion vapor deposition of aluminum on non-metallic materials

Номер патента: US09909207B1. Автор: Timothy Cranford. Владелец: Cametoid Technologies Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Vapor deposition source for vacuum vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230279536A1. Автор: Toshimitsu Nakamura,Jungo Onoda. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Vapor deposition device, vapor deposition method and organic EL display device

Номер патента: US8658545B2. Автор: Satoshi Inoue,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2014-02-25.

Evaporation source for use in vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230357919A1. Автор: Hironori Wakamatsu,Toshimitsu Nakamura,Fumitsugu Yanagihori,Masashi UMEHARA. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Film forming source, vapor deposition apparatus, and apparatus for manufacturing an organic el element

Номер патента: US20110042208A1. Автор: Toshio Negishi,Tatsuhiko Koshida. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-02-24.

Sensor stack having a graphical element formed by physical vapor deposition

Номер патента: US09871897B1. Автор: Benjamin B. Lyon,Scott A. Myers,Patrick E. O'Brien. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2018-01-16.

Vapor deposition mask, manufacturing method for vapor deposition mask, and manufacturing method for display device

Номер патента: US11877499B2. Автор: Takehiro Nishi. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for Structurally-Complex Substrates

Номер патента: US20230420219A1. Автор: Austin Lo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-28.

PLASMA SOURCE AND METHODS FOR DEPOSITING THIN FILM COATINGS USING PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

Номер патента: US20150002021A1. Автор: MASCHWITZ Peter. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-01.

Plasma source and methods for depositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: PH12015500542B1. Автор: Peter Maschwitz. Владелец: Agc Flat Glass Na Inc. Дата публикации: 2015-10-12.

Plasma source and methods for depositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: PH12015500540B1. Автор: Peter Maschwitz. Владелец: Agc Flat Glass Na Inc. Дата публикации: 2015-10-12.

Systems and methods for production of graphene by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20140255621A1. Автор: Peter V. Bedworth,Steven W. Sinton. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Low temperature plasma-enhanced formation of integrated circuits

Номер патента: US5975912A. Автор: Robert F. Foster,Joseph T. Hillman. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1999-11-02.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A3. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A4. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2009-01-07.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2005-01-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2003-10-23.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: US20220275509A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: EP4298665A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition process

Номер патента: US20100323127A1. Автор: John Matthew Warakomski,Christina Ann Rhoton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-12-23.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: WO2006116776A3. Автор: Eunsung Park,Kevin Casey,Catherine E Talor. Владелец: Catherine E Talor. Дата публикации: 2007-05-03.

Electrical insulator for a plasma enhanced chemical vapor processor

Номер патента: US4761301A. Автор: Charles E. Ellenberger,Hayden K. Piper. Владелец: Pacific Western Systems Inc. Дата публикации: 1988-08-02.

Plasma-enhanced CVD coating process

Номер патента: US5030475A. Автор: Volker Paquet,Ulrich Ackermann,Heinz-Werner Etzkorn,Ralf T. Kersten,Uwe Rutze. Владелец: Schott Glaswerke AG. Дата публикации: 1991-07-09.

Chemical vapor deposition system arrangement

Номер патента: US20160053375A1. Автор: William David Grove,Nicholas Peter Deskevich. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Shell connection device and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: LU505605B1. Автор: Haibo Huo. Владелец: Univ Zhengzhou Aeronautics. Дата публикации: 2024-05-24.

Compact head and compact system for vapor deposition

Номер патента: US12043894B2. Автор: David MUNOZ-ROJAS. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2024-07-23.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US09915001B2. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Fluoro-containing thermal chemical vapor deposition process and article

Номер патента: US20180163308A1. Автор: David A. Smith. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Silicon-nitride-containing thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20170167015A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: EP4395800A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-10.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US09975143B2. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF CuInXGa1- X(SeyS1-y)2 THIN FILMS AND USES THEREOF

Номер патента: WO2008151067A3. Автор: Tim Anderson,W K Kim. Владелец: W K Kim. Дата публикации: 2009-02-19.

Processing system and method for chemical vapor deposition

Номер патента: EP1100980A2. Автор: Joseph T. Hillman. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-05-23.

Microwave plasma chemical vapor deposition apparatus comprising an inclined rotating substrate holder

Номер патента: US5234502A. Автор: Osamu Mochizuki,Toshiharu Hoshi,Hiroaki Itoh. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Methods and systems for demulsification and generation of plasma enhanced treatment fluids using plasma

Номер патента: US20240199962A1. Автор: David Wragg,Jamie Kraus. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-20.

Saw for cutting silicon into seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2731770A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2014-05-21.

Method for preventing vacuum pump pipeline from blockage, and chemical vapor deposition machine

Номер патента: US20200208262A1. Автор: Jianfeng SHAN. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Chemical vapor deposition process for depositing a titanium oxide coating

Номер патента: US09938619B2. Автор: Jun Ni,Srikanth Varanasi,Douglas M. Nelson. Владелец: Pilkington Group Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Growth of silicon and boron nitride nanomaterials on carbon fibers by chemical vapor deposition

Номер патента: US09676627B2. Автор: Lingchuan Li. Владелец: University of Dayton. Дата публикации: 2017-06-13.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20020051847A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-02.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: US20220372201A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-11-24.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: EP4329948A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn LLC. Дата публикации: 2024-03-06.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: WO2021163025A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: Drexel Uniiversity. Дата публикации: 2021-08-19.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US20160060763A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Chemical vapor deposition of thick inorganic coating on a polarizer

Номер патента: US11746418B2. Автор: Brian Johnson,Matthew R. Linford,Anubhav Diwan. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Method of operating filament assisted chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2012112334A2. Автор: Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2012-08-23.

Corrosion-resistant coated article and thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US12036765B2. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20130341513A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2013-12-26.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP1204782A1. Автор: Robert J. Bailey,Thomas E. Kane,Lisa H. Michael. Владелец: Silicon Valley Group Thermal Systems LLC. Дата публикации: 2002-05-15.

Process for the deposition of thin layers by chemical vapor deposition

Номер патента: US20020127338A1. Автор: Annette Saenger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-09-12.

Chemical vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327986A1. Автор: Xueqin Pan,Xiaoliang Jin,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US20240359430A1. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Gas shower device, chemical vapor deposition device and method

Номер патента: US09945031B2. Автор: Yong Jiang,Zhiyou Du. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20180258529A1. Автор: James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone,Thomas F. Vezza,William David Grove. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20100200757A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-12.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20240175135A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: US20240209498A1. Автор: Paul Connolly Quayle. Владелец: Great Lakes Crystal Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: WO2024138229A1. Автор: . Владелец: Great Lakes Crystal Technologies, Inc.. Дата публикации: 2024-06-27.

Triangular deposition chamber for a vapor deposition system

Номер патента: CA2120092C. Автор: Jitendra S. Goela,Lee E. Burns,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1997-05-20.

Method of forming very reactive metal layers by a high vacuum plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: US09828673B2. Автор: Feng Niu,Peter Chow. Владелец: Svt Associates Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Prevention of low pressure chemical vapor deposition silicon dioxide undercutting and flaking

Номер патента: CA1166129A. Автор: Bernard M. Kemlage. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-04-24.

Selective area chemical vapor deposition

Номер патента: CA2028438C. Автор: Michael A. Pickering,Raymond L. Taylor,Joseph T. Keeley,Jitendra Singh Goela. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-11-30.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1251100A. Автор: Guy Brien,Richard Cloutier,Laszlo Szolgyemy,Edward C.D. Darwall. Владелец: Edward C.D. Darwall. Дата публикации: 1989-03-14.

Continuous chemical vapor deposition reactor

Номер патента: CA1068582A. Автор: Roger N. Anderson. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1979-12-25.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods

Номер патента: US20230072705A1. Автор: Prerna Goradia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-09.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US10556799B2. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-02-11.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: WO2023031951A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Prerna Goradia. Дата публикации: 2023-03-09.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20170096345A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-04-06.

Method of forming very reactive metal layers by a high vacuum plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: US20160083842A1. Автор: Feng Niu,Peter Chow. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-03-24.

Inverted diffusion stagnation point flow reactor for vapor deposition of thin films

Номер патента: CA2016970A1. Автор: Prasad N. Gadgil. Владелец: SIMON FRASER UNIVERSITY. Дата публикации: 1991-11-16.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US20160059260A1. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20180339907A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-11-29.

Manufacturing of diffractive pigments by fluidized bed chemical vapor deposition

Номер патента: US09732228B2. Автор: Alberto Argoitia. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Chemical vapor deposition coatings on titanium

Номер патента: US3787223A. Автор: C Reedy. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1974-01-22.

Organic polymeric antireflective coatings deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2400157A1. Автор: Ram W. Sabnis,Terry Brewer,Douglas Guerrero,Mary J. Spencer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-30.

Chemical vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1305910C. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1992-08-04.

Method of producing tungsten rhenium alloys by chemical vapor deposition

Номер патента: US3637374A. Автор: Frederick A Glaski,Robert A Holzi,James R Humphrey. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1972-01-25.

Method of forming a film on a substrate by chemical vapor deposition

Номер патента: US11885022B2. Автор: Waichi Yamamura,Chikara MORI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Gas injection system for chemical vapor deposition using sequenced valves

Номер патента: WO2012082225A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2012-06-21.

Gas Injection System For Chemical Vapor Deposition Using Sequenced Valves

Номер патента: US20160168710A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2016-06-16.

Atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4834020A. Автор: Lawrence D. Bartholomew,Nicholas M. Gralenski,Michael A. Richie,Michael L. Hersh. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1989-05-30.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20030165619A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-04.

Chemical vapor deposition method of silicon dioxide film

Номер патента: US5360646A. Автор: Katsumi Morita. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-11-01.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US8298338B2. Автор: Ji Hye Shim,Changsung Sean KIM,Sang Duk Yoo,Jong Pa HONG,Won Shin LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-10-30.

Apparatus for producing diamonds by chemical vapor deposition and articles produced therefrom

Номер патента: US5204145A. Автор: Steven M. Gasworth. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1993-04-20.

Combination gas curtains for continuous chemical vapor deposition production of silicon bodies

Номер патента: CA1178179A. Автор: Henry W. Gutsche. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1984-11-20.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: CA3217114A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-11-03.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: WO2022232583A8. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn, Llc. Дата публикации: 2023-12-21.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: US20240209567A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2023-04-13.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: MY174019A. Автор: Wenjun Qin,Aaron D Rhodes,Chad Fero,Jeffrey C Gum. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-04.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: WO2014100401A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron D. RHODES. Владелец: GTAT CORPORATION. Дата публикации: 2014-06-26.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A9. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-02-15.

Wafer carrier and metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20220064791A1. Автор: Yen-Lin LAI,Jyun-De Wu,Shen-Jie Wang,Chien-Chih Yen. Владелец: PlayNitride Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: EP4413177A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Methods and Systems for Stabilizing Filaments in a Chemical Vapor Deposition Reactor

Номер патента: US20140170337A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20200040447A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10975467B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-04-13.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20190085446A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Auxiliary gasline-heating unit in chemical vapor deposition

Номер патента: US20010042930A1. Автор: Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Peng-Yih Peng,Fu-Yang Yu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-22.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: WO2023160793A1. Автор: Hristo Strakov,Vasileios PAPAGEORGIOU,Manfred Pfitzner,Anja BÄUMCHEN. Владелец: Ihi Bernex Ag. Дата публикации: 2023-08-31.

Compounds for forming alumina films using chemical vapor deposition method and process for preparing the compound

Номер патента: US20030010256A1. Автор: Hyun-koock Shin. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-01-16.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US09701541B2. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Chemical vapor deposition using N,O polydentate ligand complexes of metals

Номер патента: US09528182B2. Автор: Gary S. Silverman,Roman Y. Korotkov,Martin E. Bluhm. Владелец: Arkema Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Shower head unit and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US09493875B2. Автор: Pyung-Yong Um. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Method of chemical vapor deposition of metal films

Номер патента: EP1021589A1. Автор: Chantal Arena,Joseph T. Hillman,Emmanuel Guidotti,Ronald T. Bertram. Владелец: Tokyo Electron Arizona Inc. Дата публикации: 2000-07-26.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: CA1234972A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1988-04-12.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4107352A. Автор: Mohammad Javid Hakim. Владелец: Westinghouse Canada Inc. Дата публикации: 1978-08-15.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5803974A. Автор: Tadahiro Ohmi,Nobumasa Suzuki,Nobuo Mikoshiba,Kazuo Tsubouchi,Kazuya Masu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-09-08.

Organometallic antimony compounds useful in chemical vapor deposition processes

Номер патента: US4960916A. Автор: John C. Pazik. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1990-10-02.

Apparatus and method for chemical vapor deposition control

Номер патента: EP2580368A1. Автор: Eric J. Strang,Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-04-17.

Metal organic chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240167159A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Chemical vapor deposition reactor in polysilicon production process

Номер патента: US20240084480A1. Автор: David Keck,Chad Fero. Владелец: Advanced Material Solutions. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods for forming a boron nitride film by a plasma enhanced atomic layer deposition process

Номер патента: US20230272527A1. Автор: Atsuki Fukazawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-31.

Apparatus for low pressure chemical vapor deposition

Номер патента: US5441570A. Автор: Chul-Ju Hwang. Владелец: Jein Technics Co Ltd. Дата публикации: 1995-08-15.

Chemical vapor deposition method

Номер патента: US3565676A. Автор: Robert A Holzl. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1971-02-23.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US5871586A. Автор: John A. Crawley,Victor J. Saywell. Владелец: Thomas Swan and Co Ltd. Дата публикации: 1999-02-16.

Plasma-enhanced vacuum drying

Номер патента: CA2160208A1. Автор: Robert M. Spencer,Tralance O. Addy. Владелец: Johnson & Johnson Medical, Inc.. Дата публикации: 1996-04-12.

Apparatus for growing epitaxial layers on wafers by chemical vapor deposition

Номер патента: US6547876B2. Автор: Michael Spencer,Ian Ferguson,Alexander Gurary. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2003-04-15.

Plasma enhanced polymer ultra-thin multi-layer packaging

Номер патента: CA2770610C. Автор: Juergen Burger,Herbert Keppner,Andreas Hogg,Thierry Aellen. Владелец: INTEGRA LIFESCIENCES SWITZERLAND SÀRL. Дата публикации: 2018-12-11.

Gas delivering apparatus for chemical vapor deposition

Номер патента: US6123776A. Автор: Kuen-Jian Chen,Horng-Bor Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-09-26.

Plasma-enhanced vacuum drying

Номер патента: US6060019A. Автор: Robert M. Spencer,Tralance O. Addy. Владелец: Ethicon Inc. Дата публикации: 2000-05-09.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4539933A. Автор: Dale R. DuBois,Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller,Ralph F. Manriquez. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1985-09-10.

Chemical vapor deposition of silicon nitride using a remote plasma

Номер патента: WO2024102586A1. Автор: Andrew J. McKerrow,Shane Tang,Gopinath Bhimarasetti. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-16.

Deposition metalizing bulk material by chemical vapor

Номер патента: US4606941A. Автор: William C. Jenkin. Владелец: Jenkin William C. Дата публикации: 1986-08-19.

Chemical vapor deposition manifold

Номер патента: US6024799A. Автор: Karl Anthony Littau,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-02-15.

Radiation heated reactor for chemical vapor deposition on substrates

Номер патента: US4263872A. Автор: Vladimir S. Ban. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1981-04-28.

Chemical vapor deposition method for the thin film of semiconductor

Номер патента: CA1268688A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-05-08.

Plasma-activated chemical vapor deposition of fluoridated cyclic siloxanes

Номер патента: US5230929A. Автор: Gerardo Caporiccio,Riccardo D'agostino,Pietro Favia. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 1993-07-27.

Method of chemical vapor deposition in a continuous treatment line

Номер патента: US5352490A. Автор: Masahiro Abe,Kazuhisa Okada,Shuzo Fukuda. Владелец: NKK Corp. Дата публикации: 1994-10-04.

Apparatus for chemical vapor deposition (CVD) with showerhead

Номер патента: US8298370B2. Автор: Chul Soo Byun. Владелец: Piezonics Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-30.

Chemical vapor deposition of mullite coatings and powders

Номер патента: AU4963496A. Автор: Rao Mulpuri,Vinod Sarin. Владелец: Boston University. Дата публикации: 1996-07-24.

Method for chemical vapor deposition of titanium nitride films at low temperatures

Номер патента: US5378501A. Автор: Robert F. Foster,Joseph T. Hillman. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1995-01-03.

Chemical vapor deposition process

Номер патента: US4547404A. Автор: Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1985-10-15.

Internal coating of a glass tube by plasma pulse-induced chemical vapor deposition

Номер патента: US5059231A. Автор: Volker Paquet,Ulrich Ackermann,Hartmut Bauch. Владелец: Schott Glaswerke AG. Дата публикации: 1991-10-22.

Chemical vapor deposition method for the thin film of semiconductor

Номер патента: US4705700A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-10.

Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond

Номер патента: US5071677A. Автор: Donald E. Patterson,Robert H. Hauge,John L. Margrave,C. Judith Chu. Владелец: Houston Advanced Research Center HARC. Дата публикации: 1991-12-10.

Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond

Номер патента: WO1992019791A1. Автор: Donald E. Patterson,Robert H. Hauge,Judith C. Chu,John L. Margrave. Владелец: Houston Advanced Research Center. Дата публикации: 1992-11-12.

Directed vapor deposition and assembly of polymer micro - and nanostructures

Номер патента: WO2023081751A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN,Tien Hong NGUYEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-05-11.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: EP3377671A1. Автор: Daniel J. DESROSIER,Chad R. FERO. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2018-09-26.

Additive chemical vapor deposition methods and systems

Номер патента: EP4208583A1. Автор: Dmitri S. Terekhov. Владелец: Tcm Research Ltd. Дата публикации: 2023-07-12.

Additive chemical vapor deposition methods and systems

Номер патента: CA3193161A1. Автор: Dmitri S. Terekhov. Владелец: Tcm Research Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

Methods of vapor deposition of ruthenium using an oxygen-free co-reactant

Номер патента: US11976352B2. Автор: Jacob Woodruff,Guo Liu,Ravindra Kanjolia. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-07.

Chemical vapor deposition apparatus for forming thin film

Номер патента: US5209182A. Автор: Tomohiro Ohta,Eiichi Kondoh,Kenichi Otsuka,Tohru Mitomo,Hiroshi Sekihashi. Владелец: Kawasaki Steel Corp. Дата публикации: 1993-05-11.

Method for etching and controlled chemical vapor deposition

Номер патента: US4468283A. Автор: Irfan Ahmed. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-08-28.

Cooled mirror construction by chemical vapor deposition

Номер патента: US4378626A. Автор: Frederick G. Eitel. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 1983-04-05.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: CA1216419A. Автор: Dale R. DuBois,Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller,Ralph F. Manriquez. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1987-01-13.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20040200413A1. Автор: Ho Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-10-14.

Thermal ink jet with chemical vapor deposited nozzle plate

Номер патента: CA2506728C. Автор: Kia Silverbrook. Владелец: SILVERBROOK RESEARCH PTY LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230105104A1. Автор: Jinsan Moon,Wonbae Park. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2023-04-06.

Selenophene-Based Low Band Gap Active Layers by Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20130089659A1. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-04-11.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2024008472A3. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Arun HARIDAS CHOOLAKKAL. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-02-29.

Multi-disc chemical vapor deposition system

Номер патента: US20240175132A1. Автор: Bojan Mitrovic,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A3. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-08-22.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: US4694778A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1987-09-22.

Exhaust system for chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4608063A. Автор: Takashi Kurokawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1986-08-26.

Chemical vapor deposition chamber having an adjustable flow flange

Номер патента: US6080241A. Автор: Tingkai Li,Dane C. Scott,Brian Wyckoff. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2000-06-27.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US7217326B2. Автор: Ho Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-05-15.

Chemical vapor deposition system cleaner

Номер патента: US5109562A. Автор: John W. Albrecht. Владелец: C V D System Cleaners Corp. Дата публикации: 1992-05-05.

Precursor for chemical vapor deposition and thin film formation process using the same

Номер патента: US20040086643A1. Автор: Hiroki Sato,Kazuhisa Onozawa. Владелец: Asahi Denka Kogyo KK. Дата публикации: 2004-05-06.

Chemical vapor deposition of aluminum films using dimethylethylamine alane

Номер патента: US5191099A. Автор: Everett C. Phillips,Wayne L. Gladfelter. Владелец: University of Minnesota. Дата публикации: 1993-03-02.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1087040A. Автор: Jeffrey N. Crosby,Robert S. Hanley. Владелец: Vale Canada Ltd. Дата публикации: 1980-10-07.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4250210A. Автор: Jeffrey N. Crosby,Robert S. Hanley. Владелец: International Nickel Co Inc. Дата публикации: 1981-02-10.

Pyrolytic chemical vapor deposition of silicone films

Номер патента: US6045877A. Автор: Karen K. Gleason,Michael C. Kwan. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2000-04-04.

Chemically vapor deposited saw guides

Номер патента: US5415069A. Автор: Jerry Collins,John Hoover,Al Latham. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-05-16.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: US4638762A. Автор: Montri Viriyayuthakorn,Myung K. Kim. Владелец: AT&T Technologies Inc. Дата публикации: 1987-01-27.

Chemical vapor deposition apparatus for flat display

Номер патента: CN101016622A. Автор: 金南珍,金俊洙. Владелец: SFA Engineering Corp. Дата публикации: 2007-08-15.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10480065B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-11-19.

Single ended ultra-high vacuum chemical vapor deposition (uhv/cvd) reactor

Номер патента: US5181964A. Автор: Bernard S. Meyerson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-01-26.

Vertical chemical vapor deposition apparatus having nozzle for spraying reaction gas toward wafers

Номер патента: US20090159004A1. Автор: Takahiro Yoshioka. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2009-06-25.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: SE2250842A1. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Choolakkal Arun Haridas. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-01-05.

Chemical vapor deposition during additive manufacturing

Номер патента: US11851763B2. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-12-26.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2024008472A2. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Arun HARIDAS CHOOLAKKAL. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-01-11.

In-situ solid chemical vapor deposition precursor delivery

Номер патента: US20240060178A1. Автор: Ying She,Olivier H. Sudre,Jun NABLE. Владелец: Raytheon Technologies Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

In-situ solid chemical vapor deposition precursor delivery

Номер патента: EP4328351A1. Автор: Ying She,Olivier H. Sudre,Jun NABLE. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-02-28.

System for machining seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: WO2013135631A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: MEMC Electronic Materials S.p.A.. Дата публикации: 2013-09-19.

Chemical vapor deposition during additive manufacturing

Номер патента: US20240076779A1. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-03-07.

Multi-disc chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2024118468A1. Автор: Bojan Mitrovic,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-06-06.

Multi-disc chemical vapor deposition system with cross flow gas injection

Номер патента: WO2024118472A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-06-06.

Multi-disc chemical vapor deposition system with cross flow gas injection

Номер патента: US20240175133A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Species controlled chemical vapor deposition

Номер патента: US20170327950A1. Автор: Keith Daniel Humfeld,De'Andre James Cherry. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-16.

System for machining seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2825350A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2015-01-21.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A2. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-06-27.

A plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: WO2006104863A3. Автор: Tadahiro Ishizaka,Kaoru Yamamoto,Tsukasa Matsuda,Jr Frankm Cerio. Владелец: Jr Frankm Cerio. Дата публикации: 2007-10-04.

A plasma enhanced atomic layer deposition system

Номер патента: WO2006104864A2. Автор: Tadahiro Ishizaka,Kaoru Yamamoto. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2006-10-05.

Heat-sealable chemical vapor-sensor bag

Номер патента: US11009493B2. Автор: Michael L. Bishop,Christopher H. Clark. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2021-05-18.

Heat-sealable chemical vapor-sensor bag

Номер патента: US20190234923A1. Автор: Michael L. Bishop,Christopher H. Clark. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2019-08-01.

Quantum dot-polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09958425B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Vapor-deposited film having barrier performance

Номер патента: US09650191B2. Автор: Shigenobu Yoshida,Koji Yamauchi,Shigeto Kimura,Tooru Hachisuka. Владелец: MITSUBISHI PLASTICS INC. Дата публикации: 2017-05-16.

Quantum dot—polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09599564B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Vapor deposition device and vapor deposition method

Номер патента: US20190233930A1. Автор: Jian Xu,Yaoyang Liu. Владелец: Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Coating particles in a fluidized bed by vapor deposition

Номер патента: EP1298182A3. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith-A Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2006-02-08.

Method of coating particles by vapor deposition

Номер патента: US20030059530A1. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Chromium -free passivation process of vapor deposited aluminum surfaces

Номер патента: EP2539488A1. Автор: John R. Kochilla,Jacob Grant Wiles. Владелец: Atotech Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2013-01-02.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US09447494B2. Автор: Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa,Takashisa Yamamoto. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical vapor trap and vacuum drying system including same

Номер патента: US5289641A. Автор: Richard C. Fuksa,John Balamuta. Владелец: Welch Vacuum Technology Inc. Дата публикации: 1994-03-01.

Incense and Chemical Vaporization Method Using Incense

Номер патента: MY195165A. Автор: Kawamori Hideo,Sugiura Masaaki,NISHIGUCHI Taihei. Владелец: Fumakilla Ltd. Дата публикации: 2023-01-11.

Automated conveyance of articles in chemical vapor processing

Номер патента: US11946141B2. Автор: Michael Anthony Crockett. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2024-04-02.

Vacuum vapor deposition apparatus

Номер патента: US20110005460A1. Автор: Yuji Yanagi,Tatsuya Hirano,Nobuyuki Shigeoka. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2011-01-13.

Device for vapor depositing metal

Номер патента: US20210348260A1. Автор: Lixia RUAN,Daoxu LIU. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Vapor deposition material

Номер патента: US6143437A. Автор: Yoshitaka Kubota,Satoshi Kondou. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2000-11-07.

Vapor deposition method and vapor deposition apparatus for forming organic thin films

Номер патента: US20030131796A1. Автор: Toshitaka Kawashima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-17.

Base paper for vapor deposition paper and vapor deposition paper

Номер патента: US20240309588A1. Автор: Yasutomo Noishiki,Yuta SHAMOTO,Miyoko Tanaka,Misaki Wakabayashi. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Techniques for marking a substrate using a physical vapor deposition material

Номер патента: US09849650B2. Автор: Stephen Paul Zadesky,Douglas Weber,Christopher Prest,David Pakula. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Magnetic device, vapor deposition device and vapor deposition method

Номер патента: US09650709B2. Автор: Jie Yin,Dejiang Zhao,Jianwei Yu,Haoran GAO. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

System and Method for Sealing a Vapor Deposition Source

Номер патента: US20110255950A1. Автор: Joseph D. LoBue,Robert A. Enzenroth,Lawrence J. Knipp. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-20.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US20190169747A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-06.

Vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327987A1. Автор: Wenjun Xie,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Transparent vapor-deposited film

Номер патента: US09822440B2. Автор: Shigeki Matsui,Hiroshi Miyama,Hiroshi Matsuzaki,Kaoru Miyazaki,Takakazu Goto,Teruhisa Komuro,Tatsuo Asuma. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of producing articles by vapor deposition of multiconstituent material

Номер патента: CA1209949A. Автор: Robert P.H. Chang. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1986-08-19.

Method and apparatus for monitoring generation of liquid chemical vapor

Номер патента: EP1015659A1. Автор: John Vincent Schmitt. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-07-05.

Method and apparatus for measuring the insect repellent properties of chemical vapors

Номер патента: US3572131A. Автор: Robert H Wright,Francis E Kellogg,Donald J Burton,Philip N Daykin. Владелец: USA. Дата публикации: 1971-03-23.

Quantum dot-polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09970939B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US5264039A. Автор: Raymond W. Gobush,Bryan J. Lovejoy. Владелец: Union Carbide Chemicals and Plastics Technology LLC. Дата публикации: 1993-11-23.

A vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1531189A1. Автор: Dennis R. Christensen. Владелец: Specialty Coating Systems Inc. Дата публикации: 2005-05-18.

Organic film vapor deposition method and a scintillator panel

Номер патента: US20020190223A1. Автор: Toshio Takabayashi,Hiroto Sato,Takuya Homme. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2002-12-19.

Vacuum deposition apparatus and vapor deposition method

Номер патента: US20170283938A1. Автор: Peng Xu,Gu Yao,Suwei ZENG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

System and method for vapor deposition coating of extrusion dies using impedance disks

Номер патента: US11697873B2. Автор: Min Shen,Thomas William Brew,Yuehao LI. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2023-07-11.

System and method for vapor deposition coating of extrusion dies using impedance disks

Номер патента: US20220056579A1. Автор: Min Shen,Thomas William Brew,Yuehao LI. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-02-24.

Vacuum vapor-deposition apparatus

Номер патента: US20090314212A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-24.

Graphene vapor deposition system and process

Номер патента: US20230416908A1. Автор: Richard Tracy McDaniel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-28.

Process for manufacturing multi-layered thin film by dry vacuum vapor deposition

Номер патента: WO2009017376A3. Автор: Hong Chul Kim,Jeong Rae Kim,Hyun Joong Kim. Владелец: CEKO Corp Ltd. Дата публикации: 2009-04-16.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: WO2022072258A1. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest, Inc.. Дата публикации: 2022-04-07.

Hydrophobic materials made by vapor deposition coating and applications thereof

Номер патента: EP2440402A1. Автор: HE Dong,Jikang Yuan. Владелец: Innovanano Inc. Дата публикации: 2012-04-18.

Hydrophobic Materials Made By Vapor Deposition Coating and Applications Thereof

Номер патента: US20140147655A1. Автор: HE Dong,Jikang Yuan. Владелец: Innovanano Inc. Дата публикации: 2014-05-29.

Physical vapor deposition machine with a shutter having at least one intermediate position

Номер патента: WO2023110807A1. Автор: Francis Henky. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2023-06-22.

Vapor deposition crucible

Номер патента: US20060013949A1. Автор: Makoto Adachi,Takeshi Mitsuishi,Takeshi Imizu,Ken-Ichi Shinde. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-19.

Coating fibers using directed vapor deposition

Номер патента: US12054431B2. Автор: Kang N. Lee,Adam L. Chamberlain,Andrew J. Lazur. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: US20240271279A1. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Coating fibers using directed vapor deposition

Номер патента: US09981880B2. Автор: Kang N. Lee,Adam L. Chamberlain,Andrew J. Lazur. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Vapor deposition systems and methods

Номер патента: US09556519B2. Автор: Jill Svenja Becker,Douwe Johannes Monsma. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Vapor-deposited foamed body

Номер патента: CA2861849C. Автор: Takeshi Aihara,Kentarou Ichikawa,Nobuhisa Koiso. Владелец: Toyo Seikan Group Holdings Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Method of automatically cleaning a vacuum vapor deposition tank

Номер патента: US5492569A. Автор: Junji Nakada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1996-02-20.

Photochemical vapor deposition apparatus and method

Номер патента: CA1181719A. Автор: John W. Peters,Frank L. Gebhart. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1985-01-29.

Mask for vapor deposition

Номер патента: WO2006020469A3. Автор: Tsutomu Miura,Nobuyuki Mori. Владелец: Nobuyuki Mori. Дата публикации: 2006-05-04.

Vapor deposition systems and methods, and nanomaterials formed by vapor deposition

Номер патента: WO2023122250A2. Автор: Liangbing Hu,Xizheng Wang. Владелец: University of Maryland, College Park. Дата публикации: 2023-06-29.

Seal plates for chemical vapor infiltration & deposition chambers

Номер патента: US20230407463A1. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US20110189390A1. Автор: Takahisa Yamamoto,Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa. Владелец: Tama-Tlo Ltd. Дата публикации: 2011-08-04.

Seal plates for chemical vapor infiltration and deposition chambers

Номер патента: US11788186B2. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Vapor deposition paper and method for producing same

Номер патента: EP4279263A1. Автор: Yasutomo Noishiki,Yuta SHAMOTO,Miyoko Tanaka,Misaki Wakabayashi. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2023-11-22.

Organic film vapor deposition method and a scintillator panel

Номер патента: US20020192372A1. Автор: Toshio Takabayashi,Hiroto Sato,Takuya Homme. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2002-12-19.

Vapor deposition systems and methods, and nanomaterials formed by vapor deposition

Номер патента: WO2023122250A3. Автор: Liangbing Hu,Xizheng Wang. Владелец: University of Maryland, College Park. Дата публикации: 2023-08-17.

Seal plates for chemical vapor infiltration & deposition chambers

Номер патента: EP3882373A1. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-09-22.

C-17/21 OH 20-ketostroid solution aerosol products with enhanced chemical stability

Номер патента: US20020071810A1. Автор: Zheng Wu,Peter Johnson,Nayna Govind. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2002-06-13.

Steroid solution aerosol products with enhanced chemical stability

Номер патента: EP1194121A1. Автор: Nayna Govind,Peter R. Johnson,Zheng Z. Wu. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2002-04-10.

Steroid solution aerosol products with enhanced chemical stability

Номер патента: AU5614200A. Автор: Nayna Govind,Peter R. Johnson,Zheng Z. Wu. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2001-01-09.

Vapor-deposited film

Номер патента: CA2453596A1. Автор: Noboru Sasaki,Hiroshi Suzuki,Takayuki Nakajima,Takeshi Kanetaka,Miki Oohashi,Ryoji Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-06.

Pharmaceuticals microencapsulated by vapor deposited polymers and method

Номер патента: US5393533A. Автор: Ronald J. Versic. Владелец: Dodge Ronald T Co. Дата публикации: 1995-02-28.

Vapor deposition of thin films comprising gold

Номер патента: US10145009B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Timo Hatanpää,Maarit Mäkelä. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-12-04.

Method to prevent backside growth on substrates in a vapor deposition system

Номер патента: CA2023278C. Автор: Jitendra S. Goela,Raymond L. Taylor,Roy D. Jaworski. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-08-31.

Methods for controlling physical vapor deposition metal film adhesion to substrates and surfaces

Номер патента: AU2019217883B2. Автор: Akhil Srinivasan,Yifei Wang. Владелец: Medtronic Minimed Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Techniques for Marking a Substrate using a Physical Vapor Deposition Material

Номер патента: US20180072021A1. Автор: Stephen Paul Zadesky,Douglas Weber,Christopher Prest,David Pakula. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Acoustic wave assisted chemical vapor infiltration

Номер патента: EP4368744A1. Автор: Ying She,Jinquan Xu. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-05-15.

Stacking tool fixture for forced flow chemical vapor infiltration

Номер патента: EP4345187A1. Автор: Alyson T. Burdette,Jun NABLE. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-04-03.

Microwave energy-assisted chemical vapor infiltration

Номер патента: WO1993019856A1. Автор: Edward L. Paquette,Iftikhar Ahmad,Richard Silberglitt. Владелец: Technology Assessment And Transfer, Inc.. Дата публикации: 1993-10-14.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: AU2023200191A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Chemical vapor purification of fluorides

Номер патента: USRE32777E. Автор: Robert C. Folweiler. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1988-11-01.

Chemical vapor purification of fluorides

Номер патента: US4652438A. Автор: Robert C. Folweiler. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1987-03-24.

Photochemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4516527A. Автор: Shinji Sugioka. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1985-05-14.

Take up type vacuum vapor deposition device

Номер патента: EP2037001B1. Автор: Nobuhiro Hayashi,Kenji Komatsu,Isao Tada,Atsushi Nakatsuka,Takayoshi Hirono. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-09-14.

Thermal conduction device and vapor deposition crucible

Номер патента: US20180148827A1. Автор: Yang Liu,Yawei Liu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Plasma vapor deposited (pvd) coating process

Номер патента: US20170058399A1. Автор: Ann Marie Straccia,Larry P. Haack,Steven J. Simko. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2017-03-02.

Catheter with vapor deposited features on tip

Номер патента: US20240198037A1. Автор: Shubhayu Basu,Dustin R. Tobey,Cesar FUENTES-ORTEGA,Pieter E. VAN NIEKERK. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-20.

LC/MS adduct mitigation by vapor deposition coated surfaces

Номер патента: US11740211B2. Автор: Paul Rainville,Kerri M. Smith. Владелец: Waters Technologies Corp. Дата публикации: 2023-08-29.

Conveyor Assembly with Removable Rollers for a Vapor Deposition System

Номер патента: US20110155063A1. Автор: Christopher Rathweg,Edwin Jackson Little. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2011-06-30.

Selective vapor deposition process for additive manufacturing

Номер патента: EP3587618A3. Автор: Aaron T. Nardi,Thomas J. Martin,Sergey Mironets,Alexander Staroselsky. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2020-03-11.

Plasma spray physical vapor deposition within internal cavity

Номер патента: EP3640359A1. Автор: Ann Bolcavage,Matthew Gold. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2020-04-22.

Vapor deposition of LiF thin films

Номер патента: US09909211B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Jani Hämäläinen,Miia Mäntymäki. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-03-06.

Articles, including wheels, having plasma vapor deposited (PVD) coating

Номер патента: US09522569B2. Автор: Ann Marie Straccia,Larry P. Haack,Steven J. Simko. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2016-12-20.

Vapor deposition device

Номер патента: US8251013B2. Автор: shao-kai Pei. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Vapor deposition device

Номер патента: US20110126763A1. Автор: shao-kai Pei. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-06-02.

Vapor deposition apparatus and techniques using high purity polymer derived silicon carbide

Номер патента: EP4407079A2. Автор: Mark S. Land. Владелец: Pallidus Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Device and method for coating channels of a sample by means of vapor deposition

Номер патента: US20230074081A1. Автор: Manuel Müller,Robert Zierold,Irene Fernandez-Cuesta. Владелец: UNIVERSITAET HAMBURG. Дата публикации: 2023-03-09.

LC/MS adduct mitigation by vapor deposition coated surfaces

Номер патента: US12117427B2. Автор: Paul Rainville,Kerri M. Smith. Владелец: Waters Technologies Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Vapor deposition apparatus and techniques using high purity polymer derived silicon carbide

Номер патента: EP4407079A3. Автор: Mark S. Land. Владелец: Pallidus Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Physical vapor deposited layers for protection of glass surfaces

Номер патента: US09751799B2. Автор: Charles Andrew Paulson. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Vacuum vapor deposition apparatus

Номер патента: US09663853B2. Автор: Yuji Yanagi. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Manufacturing medical devices by vapor deposition

Номер патента: US20030018381A1. Автор: Makoto Takeuchi,Forrest Whitcher. Владелец: Scimed Life Systems Inc. Дата публикации: 2003-01-23.

Carbon bearings via vapor deposition

Номер патента: US4005163A. Автор: Jack C. Bokros. Владелец: General Atomics Corp. Дата публикации: 1977-01-25.

Method of physical vapor deposition

Номер патента: US3912826A. Автор: Kurt D Kennedy. Владелец: Airco Inc. Дата публикации: 1975-10-14.

Apparatus and method for photochemical vapor deposition

Номер патента: CA1297831C. Автор: Scott C. Jackson,Richard E. Rocheleau. Владелец: University of Delaware. Дата публикации: 1992-03-24.

Al-cr alloy vapor-deposited material

Номер патента: CA1326615C. Автор: Hiroshi Satoh,Masao Toyama,Hidetoshi Nishimoto,Koki Ikeda,Kazutoshi Shimogori,Junji Kawafuku. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 1994-02-01.

Visualization and enhancement of latent fingerprints using low pressure dye vapor deposition

Номер патента: US8507028B2. Автор: Calvin Thomas Knaggs. Владелец: Linde North America Inc. Дата публикации: 2013-08-13.

Vapor deposition film and packaging material

Номер патента: CA2341296A1. Автор: Noboru Sasaki,Mamoru Sekiguchi,Fumitake Koizumi,Tsunenori Komori,Ken Shimatani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2000-03-02.

Physical vapor deposition machine with a thermal evaporator having a cup heated-up by electric current

Номер патента: EP4219787A1. Автор: Olivier Beinat. Владелец: Essilor International SAS. Дата публикации: 2023-08-02.

Method for making an eyeglass lens coated by means of physical vapor deposition PVD

Номер патента: US11774777B2. Автор: Marco QUEBOLI,Carlo RONI,Claudia Fagini,Danilo Mandelli. Владелец: The'lios SpA. Дата публикации: 2023-10-03.

Installation with distribution mask for vapor deposition of a coating on optical articles on a rotary support

Номер патента: US11821072B2. Автор: Vicente ESTEVEZ RODRIGUEZ. Владелец: BNL Eurolens SAS. Дата публикации: 2023-11-21.

Coating fibers using directed vapor deposition

Номер патента: US20180244580A1. Автор: Kang N. Lee,Adam L. Chamberlain,Andrew J. Lazur. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Vapor deposition device

Номер патента: EP3971319A1. Автор: Kazuhide Matsumoto,Hsin-Tsai Wang. Владелец: Thermalytica Inc. Дата публикации: 2022-03-23.

Vapor deposition system and method of operating

Номер патента: WO2008121601A1. Автор: Jacques Faguet. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2008-10-09.

Physical vapor deposition machine with a thermal evaporator having a cup heated-up by electric current

Номер патента: WO2023143952A1. Автор: Olivier Beinat. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2023-08-03.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: EP4222293A1. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest Inc. Дата публикации: 2023-08-09.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: US11987882B2. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Vapor deposition device

Номер патента: US12006568B2. Автор: Kazuhide Matsumoto,Hsin-Tsai Wang. Владелец: Thermalytica Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Chemical vapor sensor system and method thereof

Номер патента: US8049174B2. Автор: David K. Lambert. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 2011-11-01.

Chemical vapor infiltration apparatus and process

Номер патента: CA2839406C. Автор: Joseph R. Vargas,Steven J. Seelman,David B. Roberts. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2019-10-29.

Microwave energy-assisted chemical vapor infiltration

Номер патента: US5238710A. Автор: Edward L. Paquette,Iftikhar Ahmad,Richard Silberglitt. Владелец: Technology Assessment and Transfer Inc. Дата публикации: 1993-08-24.

Stacking tool fixture for forced flow chemical vapor infiltration

Номер патента: US20240110281A1. Автор: Alyson T. Burdette,Jun NABLE. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: AU2023200191B2. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Acoustic wave assisted chemical vapor iinfiltration

Номер патента: US20240141479A1. Автор: Ying She,Jinquan Xu. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: CA3187109A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-07-27.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: EP4219789A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-08-02.

Plasma Aided physical Vapor Deposition Source

Номер патента: KR101432514B1. Автор: 노태협,최용섭,정용호,석동찬,박현재. Владелец: 한국기초과학지원연구원. Дата публикации: 2014-08-21.

Equipment and method for physical vapor deposition

Номер патента: WO2010021811A3. Автор: Aharon Inspektor,John J. Prizzi. Владелец: KENNAMETAL INC.. Дата публикации: 2010-04-15.

Electric arc vapor deposition device

Номер патента: US5037522A. Автор: Gary E. Vergason. Владелец: Vergason Technology Inc. Дата публикации: 1991-08-06.

Particles having a vapor deposited colorant

Номер патента: CA3111745C. Автор: Alberto Argoitia,Vladimir Raksha,Carole Thoraval,Larry Meredith. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2023-04-04.

Electric arc vapor deposition electrode apparatus

Номер патента: US4622452A. Автор: Clark Bergman,Gary E. Vergason. Владелец: Multi-Arc Vacuum Systems Inc. Дата публикации: 1986-11-11.

Vapor deposition method including specified solid angle of radiant heater

Номер патента: US3560252A. Автор: Kurt D Kennedy. Владелец: Air Reduction Co Inc. Дата публикации: 1971-02-02.

Particles having a vapor deposited colorant

Номер патента: CA2988898C. Автор: Alberto Argoitia,Vladimir Raksha,Carole Thoraval,Larry Meredith. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2021-05-11.

System for vapor deposition of thin films

Номер патента: US3845739A. Автор: H Schroeder,F Erhart. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1974-11-05.

Plasma vapor deposition apparatus

Номер патента: CA2096593C. Автор: Toshio Narita,Yoichi Murayama. Владелец: C ITOH FINE CHEMICAL Co Ltd. Дата публикации: 1999-02-02.

Vapor deposition material

Номер патента: US5789330A. Автор: Satoshi Kondo,Yoshitaka Kubota. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 1998-08-04.

Process for the vapor deposition of polysilanes

Номер патента: CA1334911C. Автор: David M. Dobuzinsky,Mark C. Hakey,Steven J. Holmes,David V. Horak. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1995-03-28.

Selective vapor deposition process for additive manufacturing

Номер патента: EP3587618A2. Автор: Aaron T. Nardi,Thomas J. Martin,Sergey Mironets,Alexander Staroselsky. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-01.

Tablet for vapor deposition and method for producing the same

Номер патента: US8765026B2. Автор: Azusa Oshiro. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2014-07-01.

Jet vapor deposition of nanocluster embedded thin films

Номер патента: US5759634A. Автор: Jian-Zhi Zang. Владелец: Jet Process Corp. Дата публикации: 1998-06-02.

Vapor deposition of arsenic

Номер патента: US4814203A. Автор: Robert N. DePriest. Владелец: Ethyl Corp. Дата публикации: 1989-03-21.

Pigments having a vapor deposited colorant

Номер патента: US20240117194A1. Автор: Alberto Argoitia,Vladimir Raksha,Carole Thoraval,Larry Meredith. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2024-04-11.

Catheter with vapor deposited features on tip

Номер патента: US11918751B2. Автор: Shubhayu Basu,Dustin R. Tobey,Cesar FUENTES-ORTEGA,Pieter E. VAN NIEKERK. Владелец: Biosense Webster Israel Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Physical vapor deposition system and processes

Номер патента: WO2020180585A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-10.

Pigments having a vapor deposited colorant

Номер патента: US11891524B2. Автор: Alberto Argoitia,Vladimir Raksha,Carole Thoraval,Larry Meredith. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2024-02-06.

Articles, Including Wheels, Having Plasma Vapor Deposited (PVD) Coating

Номер патента: US20140017488A1. Автор: Ann Marie Straccia,Larry P. Haack,Steven J. Simko. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2014-01-16.

Lc/ms adduct mitigation by vapor deposition coated surfaces

Номер патента: WO2021152415A1. Автор: Paul Rainville,Kerri SMITH. Владелец: WATERS TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2021-08-05.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230052532A1. Автор: Zhiwu Wang. Владелец: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Catheter with vapor deposited features on tip

Номер патента: EP4057923A1. Автор: Shubhayu Basu,Dustin R. Tobey,Cesar FUENTES-ORTEGA,Pieter E. VAN NIEKERK. Владелец: Biosense Webster Israel Ltd. Дата публикации: 2022-09-21.

Apparatus for metering granular source material in a thin film vapor deposition apparatus

Номер патента: MY162634A. Автор: Edwin Jackson Little. Владелец: First Solar Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2017-06-30.

VAPOR DEPOSITION OF LiF THIN FILMS

Номер патента: US20160369397A1. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Jani Hämäläinen,Miia Mäntymäki. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-12-22.

Physical vapor deposition system and processes

Номер патента: US20220107558A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Lc/ms adduct mitigation by vapor deposition coated surfaces

Номер патента: US20230408461A1. Автор: Paul Rainville,Kerri M. Smith. Владелец: Waters Technologies Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Lc/ms adduct mitigation by vapor deposition coated surfaces

Номер патента: EP4097463A1. Автор: Paul Rainville,Kerri SMITH. Владелец: Waters Technologies Corp. Дата публикации: 2022-12-07.

Evaporation apparatus, vapor deposition apparatus, and evaporation method

Номер патента: US20240117484A1. Автор: Stefan Bangert,Wolfgang Buschbeck. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Evaporation apparatus, vapor deposition apparatus, and evaporation method

Номер патента: EP4214350A1. Автор: Stefan Bangert,Wolfgang Buschbeck. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-07-26.

Vapor Deposition Apparatus and Techniques Using High Purity Polymer Derived Silicon Carbide

Номер патента: US20240190710A1. Автор: Mark S. Land. Владелец: Pallidus Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Vapor deposition reactor for forming thin film

Номер патента: WO2010019007A3. Автор: Sang In LEE. Владелец: SYNOS TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2010-04-15.

Jet vapor deposition of organic molecule guest-inorganic host thin films

Номер патента: US5650197A. Автор: Bret Halpern. Владелец: Jet Process Corp. Дата публикации: 1997-07-22.

Planetary lift-off vapor deposition system

Номер патента: US20030180462A1. Автор: Ping Chang,Russell Hill,Gregg Wallace,Cris Kroneberger,P.A. Smith. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 2003-09-25.

Improved apparatus and method for coating articles by physical vapor deposition technique

Номер патента: EP4265819A1. Автор: Antonio Giambavicchio. Владелец: Kolzer Srl. Дата публикации: 2023-10-25.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: AU2003223582A1. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2003-10-27.

PLASMA SOURCE AND METHODS FOR DEPOSITING THIN FILM COATINGS USING PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

Номер патента: US20150004330A1. Автор: MASCHWITZ Peter. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-01.

PLASMA SOURCE AND METHODS FOR DEPOSITING THIN FILM COATINGS USING PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

Номер патента: US20140220361A1. Автор: MASCHWITZ Peter. Владелец: . Дата публикации: 2014-08-07.

Chemical vapor deposition of metal compound coatings utilizing metal sub-halide

Номер патента: CA1224091A. Автор: M. Javid Hakim. Владелец: Liburdi Engineering Ltd. Дата публикации: 1987-07-14.

Masking techniques in chemical vapor deposition

Номер патента: CA1199715A. Автор: Robert D. Burnham. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1986-01-21.

Chemical vapor purification of fluorides

Номер патента: CA1262506A. Автор: Robert C. Folweiler. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1989-10-31.

Gas Supply System of Chemical Vapor Etching Equipment

Номер патента: KR970052611A. Автор: 최병오,박경신,김역환. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1997-07-29.

Protected vapor-deposited metal layers

Номер патента: CA1197417A. Автор: Edward J. Downing,Richard S. Fisch. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1985-12-03.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: AU2001268412A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2002-08-19.

Plasma enhanced chemical vapor deposition reactor

Номер патента: TWI256864B. Автор: Chien-Pang Lee. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2006-06-11.