Pulsed RF Plasma Generator With High Dynamic Range
Номер патента: US20240258071A1
Опубликовано: 01-08-2024
Автор(ы): Aaron Radomski, Jonathan Smyka, Ky LUU
Принадлежит: MKS Instruments Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-08-2024
Автор(ы): Aaron Radomski, Jonathan Smyka, Ky LUU
Принадлежит: MKS Instruments Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Multi-channel pulse rf power supply apparatus
Номер патента: US20240128053A1. Автор: Hyuk Soo Lee. Владелец: AS ENG Co. Дата публикации: 2024-04-18.