Coating and developing apparatus, and coating and developing method
Номер патента: KR102319168B1
Опубликовано: 01-11-2021
Автор(ы): 마사시 츠치야마, 입뻬이 하마다, 츠요시 와타나베, 히로키 사토
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-11-2021
Автор(ы): 마사시 츠치야마, 입뻬이 하마다, 츠요시 와타나베, 히로키 사토
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for exposure and development, system for controlling exposure and system for exposure and development
Номер патента: US09946170B2. Автор: Wei Zhang,Zhi Liu,Zhiqiang Wang,Xuequan Yu,Xuepei Cheng,Xianhua XU. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.