平坦化方法及びこの平坦化方法を実施するための研磨液並びに当該方法または研磨液を用いて製造された半導体装置

Реферат: (57)【要約】
【課題】 被研磨物表面にある凸部の密度分布が不均一 であっても、最小の研磨量で平坦化を可能にする平坦化 方法を提供する。
【解決手段】 研磨量Ｙを、被研磨膜と研磨部材との接 触荷重、接触圧力または接触頻度Ｘの関数で表現した場 合、ｄＹ／ｄＸが極大値をとる接触荷重、接触圧力また は接触頻度Ｘが存在する研磨液を用いる。