Sputtering device and sputtering method
Номер патента: US09650710B2
Опубликовано: 16-05-2017
Автор(ы): Seung-Ho Choi, Yong-Suk Lee
Принадлежит: Samsung Display Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-05-2017
Автор(ы): Seung-Ho Choi, Yong-Suk Lee
Принадлежит: Samsung Display Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Magnetron sputtering device, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method
Номер патента: US20180277344A1. Автор: LEI XIAO,Jianhua Du,Zhongpeng Tian,Xuewei Gao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.