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14-01-2019 дата публикации

포토 레지스트 박리 장치 및 박리 처리방법

Номер: KR0101938079B1
Автор: 박세열, 이용호, 김기범, 박민수
Принадлежит: 주식회사 피에스티에이치

... 본 발명의 실시 형태는 반응 공간을 내부에 가지는 챔버; 복수의 기판이 수직으로 적층되어 반응 공간내에 위치한 기판을 가열 시키기위한 히터를 내장한 복수의 기판 스테지; 상기 제1측벽에 마련되어, 반응 공간내의 기판의 상면을 향해 활성화된 플라즈마를 유도하여 분사하는 플라즈마가이드; 상기플라즈마가이드의 하부에 설치되며 각각의 기판스테지에 가스를 균일하게 분사하는 가스분사판: 상기 제1측벽에 마련되어, 상기 반응가스를 플라즈마로 활성화시키는 플라즈마 발생부; 상기 플라즈마 발생부에서 발생한 플라즈마를 반응공간내로 집진하여 보내주기 위한 플라즈마집진부; 플라즈마 집진부에서 플라즈마를 각각의 플라즈마가이드를 통하여 플라즈마를 균일하게 보내도록 설계된 플라즈마 분산판: 상기 제1측벽에 연결된 하측벽에 마련되며 공정중에 발생한 반응 가스를 배기하는 배기부; 상기 챔버의 제2측벽에 마련되어, 상기 기판이 로딩 또는 언로딩되는 통로를 개폐하는 게이트 도어; 및 상기 기판 스테지에 기판이 로딩되면, 상기 게이트 도어를 폐쇄한 후 반응 공간내의 반응가스를 플라즈마로 활성화시켜 반응공간내에 설치된 복수의 기판에서 박리처리할 수 있게 하는 제어부;를 포함할 수 있다.

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Номер записи: 1
07-02-2017 дата публикации

PHOTORESIST EXFOLIATING DEVICE AND METHOD THEREOF

Номер: KR101703499B1
Автор: PARK, SEO YUL, KIM, KI BEOM, LEE, YONG HO
Принадлежит: PSTH. INC.

An embodiment of the present invention includes: a chamber including a reaction space; a substrate support part rotating a plurality of substrates vertically stacked in the reaction space; a spray part placed on a first side wall to spray reaction gas to a side of the substrates in the reaction space; a plasma generating part placed on the first side wall to activate the reaction gas into plasma; an exhaust part placed on a second side wall which is opposite to the first side wall; a gate door placed on a third side wall, connecting the first and second side walls of the chamber, to open or close a passage loading or unloading the substrates; and a control part activating the reaction gas in the reaction space into plasma while rotating the substrate support part after closing the gate door once the substrates are loaded into the substrate support part. As such, the present invention is capable of maintaining the uniformity of an activator over a wafer while preventing a loss of the activator ...

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Номер записи: 2