30-06-2006 дата публикации
Номер: KR100594837B1
먼저, 가요성을 갖고, 테이프 형상이고 투명 또는 반투명의 절연 베이스(11)에 스프로킷 홀(12) 및 디바이스 홀(14)을 형성한다. 다음에 절연 베이스의 표면에 도전체를 라미네이션하여 도전층을 형성한다. 이어서, 그 도전층의 원하는 개소를 에칭하여 배선 패턴(13) 및 얼라인먼트 마크(15)를 형성한다. 이어서, 배선 패턴의 단자부분 및 얼라인먼트 마크 이외의 장소에 솔더레지스트층(16)을 형성한다. 최후에, 얼라인먼트 마크의 주위에서 절연 베이스상에, 회로기판의 표리에 광을 투과하여, 얼라인먼트 마크의 위치를 확인할 수 있도록, 그 표면이 투명 또는 반투명의 투명층(17)을 형성하여, 회로기판을 얻는다. 절연 베이스, 스프로킷 홀, 디바이스 홀, 배선 패턴, 얼라인먼트 마크, 솔더레지스트층, 회로기판, 투명층 First, the sprocket hole 12 and the device hole 14 are formed in the insulating base 11 which is flexible, tape-shaped, and transparent or translucent. Next, the conductor is laminated on the surface of the insulating base to form a conductive layer. Next, desired portions of the conductive layer are etched to form the wiring pattern 13 and the alignment mark 15. Next, the soldering resist layer 16 is formed in the place other than the terminal part of an wiring pattern, and an alignment mark. Finally, a transparent or translucent transparent layer 17 is formed on the surface of the circuit board to allow light to pass through the front and back of the circuit board around the alignment mark so that the position of the alignment mark can be confirmed. Get Insulation base, sprocket hole, device hole, wiring pattern, alignment mark, solder resist layer, circuit board, transparent layer
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