Настройки

Укажите год
-

Небесная энциклопедия

Космические корабли и станции, автоматические КА и методы их проектирования, бортовые комплексы управления, системы и средства жизнеобеспечения, особенности технологии производства ракетно-космических систем

Подробнее
-

Мониторинг СМИ

Мониторинг СМИ и социальных сетей. Сканирование интернета, новостных сайтов, специализированных контентных площадок на базе мессенджеров. Гибкие настройки фильтров и первоначальных источников.

Подробнее

Форма поиска

Поддерживает ввод нескольких поисковых фраз (по одной на строку). При поиске обеспечивает поддержку морфологии русского и английского языка
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Укажите год
Укажите год
Применить Всего найдено 6. Отображено 6.
10-03-2016 дата публикации

ВОДНАЯ ПОЛИРУЮЩАЯ КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯ МАТЕРИАЛОВ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ, МЕХАНИЧЕСКИХ И ОПТИЧЕСКИХ УСТРОЙСТВ

Номер: RU2577281C2
Автор: ВЕНКАТАРАМАН Шиам Сундар (TW), Ли Южуо (DE), ЧУ Джеа-Джу (TW), УСМАН ИБРАХИМ Шейк Ансар (US), ПИНДЕР Харви Уэйн (US)
Принадлежит: БАСФ СЕ (DE)

Изобретение направлено на водную полирующую композицию, которая особенно подходит для полирования материалов подложек для электрических, механических и оптических устройств. Композиция содержит (A) абразивные частицы, которые положительно заряжены, когда диспергированы в водной среде, имеющей pH в интервале от 3 до 9; (B) водорастворимые или диспергируемые в воде компоненты, выбранные из (b1) алифатических и циклоалифатических оксикарбоновых кислот, где молярное отношение гидроксильных групп к группам карбоновых кислот составляет по меньшей мере 2; (b2) сложных эфиров или лактонов оксикарбоновых кислот (b1), имеющих по меньшей мере две гидроксильные группы; и (b3) их смесей; и (C) водорастворимые или диспергируемые в воде полимерные компоненты, выбранные из (c1) линейных и разветвленных полимеров алкиленоксидов; (c2) линейных и разветвленных, алифатических и циклоалифатических поли(N-виниламидных) полимеров; и (c3) катионных полимерных флокулянтов, имеющих среднемассовую молекулярную массу ...

Подробнее
Номер записи: 1
10-01-2017 дата публикации

ВОДНАЯ ПОЛИРУЮЩАЯ КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ, МЕХАНИЧЕСКИХ И ОПТИЧЕСКИХ УСТРОЙСТВ

Номер: RU2607214C2
Автор: УСМАН ИБРАХИМ Шейк Ансар (US), ПИНДЕР Харви Уэйн (US), ЛИ Южуо (DE), ЧУ Джеа-Джу (TW), ВЕНКАТАРАМАН Шиам Сундар (TW)
Принадлежит: БАСФ СЕ (DE)

Изобретение относится к водной полирующей композиции, имеющей pH от 3 до 11. Композиция содержит (А) по меньшей мере один тип абразивных частиц, которые положительно заряжены при диспергировании в водной среде, свободной от компонента (В) и имеющей pH в интервале от 3 до 9, что подтверждается электрофоретической подвижностью. Абразивные частицы (А) являются неорганическими частицами, содержащими или состоящими из диоксида церия. Композиция содержит (B) по меньшей мере один анионный фосфатный диспергирующий агент, выбранный из группы растворимых в воде конденсированных фосфатов, причем растворимый в воде конденсированный фосфат выбран из группы, состоящей из метафосфатов общей формулы I:и полифосфатов общей формулы II и III:где М является аммонием, натрием и калием и индекс n равен от 2 до 10000. Композиция содержит (C) по меньшей мере один компонент на основе многоатомного спирта, выбранный из группы (с1) многоатомных спиртов, причем многоатомный спирт (с1) содержится в количествах от 0,005 ...

Подробнее
Номер записи: 2
20-10-2014 дата публикации

ВОДНАЯ ПОЛИРУЮЩАЯ КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯ ПОДЛОЖЕК, СОДЕРЖАЩИХ ПЛЕНКИ ДИЭЛЕКТРИКА ОКСИДА КРЕМНИЯ И ПОЛИКРЕМНИЯ

Номер: RU2013115237A
Автор: ВЕНКАТАРАМАН Шиам Сундар (TW), ЧУ Джеа-Джу (TW), ПИНДЕР Харви Уэйн (US), ЛИ Южуо (DE), ЧИУ Вей Лан Уиллиам (TW)
Принадлежит:

... 1. Водная полирующая композиция, содержащая(A) по меньшей мере, один тип абразивных частиц, содержащих или состоящих из диоксида церия, которые положительно заряжены при диспергировании в водной среде, свободной от компонента (C) и имеющей pH в интервале от 3 до 9, что подтверждается электрофоретической подвижностью;(B) по меньшей мере, один растворимый в воде полимер, выбранный из группы, состоящей из линейных и разветвленных гомополимеров и сополимеров алкиленоксидов; и(C) по меньшей мере, один анионный фосфатный диспергирующий агент,где композиция содержит растворимый в воде полимер (В) в количествах от 0,001 до 5 мас.%.2. Водная полирующая композиция по п.1, отличающаяся тем, что абразивные частицы (А) состоят из диоксида церия.3. Водная полирующая композиция по п.1, отличающаяся тем, что она содержит, в пересчете на полную массу указанной полирующей композиции, от 0,005 до 10 мас.% абразивных частиц (A).4. Водная полирующая композиция по п.1, отличающаяся тем, что линейные и разветвленные ...

Подробнее
Номер записи: 3
20-10-2014 дата публикации

ВОДНАЯ ПОЛИРУЮЩАЯ КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ, МЕХАНИЧЕСКИХ И ОПТИЧЕСКИХ УСТРОЙСТВ

Номер: RU2013115239A
Автор: УСМАН ИБРАХИМ Шейк Ансар (US), ЧУ Джеа-Джу (TW), ПИНДЕР Харви Уэйн (US), ВЕНКАТАРАМАН Шиам Сундар (TW), ЛИ Южуо (DE)
Принадлежит:

... 1. Водная полирующая композиция, имеющая pH в интервале от 3 до 11 и содержащая(A) по меньшей мере, один тип абразивных частиц, которые положительно заряжены при диспергировании в водной среде, свободной от компонента (В) и имеющей pH в интервале от 3 до 9, что подтверждается электрофоретической подвижностью;(B) по меньшей мере, один анионный фосфатный диспергирующий агент; и(C) по меньшей мере, один компонент на основе многоатомного спирта, выбранный из группы, состоящей из(c1) многоатомных спиртов, выбранных из группы, состоящей из растворимых в воде и диспергируемых в воде, алифатических и циклоалифатических, мономерных, димерных и олигомерных многоатомных спиртов, имеющих, по меньшей мере, 4 гидроксигруппы, которые являются не диссоциируемыми в водной среде, где многоатомный спирт (c1) содержится в количествах от 0,005 до 5 мас.% в пересчете на общую массу указанной композиции;(c2) смеси, состоящей из(с21) по меньшей мере, одного многоатомного спирта, выбранного из группы, состоящей ...

Подробнее
Номер записи: 4
20-10-2014 дата публикации

ВОДНАЯ ПОЛИРУЮЩАЯ КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯ МАТЕРИАЛОВ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ, МЕХАНИЧЕСКИХ И ОПТИЧЕСКИХ УСТРОЙСТВ

Номер: RU2013115235A
Автор: УСМАН ИБРАХИМ Шейк Ансар (US), ЧУ Джеа-Джу (TW), Ли Южуо (DE), ПИНДЕР Харви Уэйн (US), ВЕНКАТАРАМАН Шиам Сундар (TW)
Принадлежит:

... 1. Водная полирующая композиция, содержащая(A) по меньшей мере, один тип абразивных частиц, которые положительно заряжены, когда диспергированы в водной среде, имеющей рН в интервале от 3 до 9, что подтверждается электрофоретической подвижностью;(B) по меньшей мере, один растворимый в воде и диспергируемый в воде компонент, содержащий гидроксильные группы, выбранный из группы, состоящей из(b1) алифатических и циклоалифатических оксикарбоновых кислот, имеющих, по меньшей мере, два атома углерода, по меньшей мере, одну гидроксильную группу и, по меньшей мере, одну группу карбоновой кислоты на молекулу, где молярное отношение гидроксильных групп к группам карбоновой кислоты составляет, по меньшей мере, 2;(b2) сложных эфиров оксикарбоновых кислот (b1), имеющих, по меньшей мере, одну группу, выбранную из группы, состоящей из лактоновых групп, эстерифицированных гидроксильных групп, эстерифицированных групп карбоновой кислоты и их смесей, с условием, что, по меньшей мере, одна гидроксильная группа ...

Подробнее
Номер записи: 5
27-01-2016 дата публикации

ВОДНАЯ ПОЛИРУЮЩАЯ КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯ ПОДЛОЖЕК, СОДЕРЖАЩИХ ПЛЕНКИ ДИЭЛЕКТРИКА ОКСИДА КРЕМНИЯ И ПОЛИКРЕМНИЯ

Номер: RU2573672C2
Автор: ЧИУ Вей Лан Уиллиам (TW), ПИНДЕР Харви Уэйн (US), ЛИ Южуо (DE), ВЕНКАТАРАМАН Шиам Сундар (TW), ЧУ Джеа-Джу (TW)
Принадлежит: БАСФ СЕ (DE)

Изобретение относится к новой водной полирующей композиции для полирования полупроводниковых подложек, содержащих пленки диэлектрика оксида кремния и поликремния, а также необязательно содержащих пленки нитрида кремния. Указанная водная полирующая композиция содержит (A) по меньшей мере один тип абразивных частиц, (В) от 0,001 до 5,0 мас.% по меньшей мере одного растворимого в воде полимера, (С) по меньшей мере один анионный фосфатный диспергирующий агент. Абразивные частицы (А) содержат или состоят из диоксида церия, положительно заряжены при диспергировании в водной среде, свободной от компонента (C) и имеющей pH в интервале от 3 до 9, что подтверждается электрофоретической подвижностью. Компонент (B) по меньшей мере это один растворимый в воде полимер, выбран из группы, состоящей из линейных и разветвленных гомополимеров и сополимеров алкиленоксидов. Изобретение относится и к способу полирования подложек для электрических, механических и оптических устройств с применением указанной водной ...

Подробнее
Номер записи: 6