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01-09-2017 дата публикации

성막장치

Номер: KR0101773889B1
Автор: 사케미 토시유키, 미야시타 마사루, 기타미 히사시
Принадлежит: 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤

... 성막대상물의 성막면 내에 있어서의 막질분포의 균일화를 도모할 수 있는 성막장치를 제공한다. 성막장치는, 진공챔버(10) 내에서 플라즈마빔(P)에 의하여 성막재료(Ma)를 가열하여 증발시켜, 성막재료의 증발입자(Mb)를 성막대상물(11)에 부착시키는 장치에 있어서, 진공챔버(10) 내에서 플라즈마빔을 생성하는 플라즈마원(7)과, 증발원이 되는 성막재료가 충전됨과 함께, 플라즈마빔을 성막재료로 유도하거나, 또는 플라즈마빔이 유도되는 주 양극인 메인 하스(17)와, 메인 하스의 주위에 배치됨과 함께, 플라즈마빔을 유도하는 보조 양극인 링하스(6)와, 증발원으로부터 증발하는 증발입자의 방향을 소정 시간마다 변화시키는 증발방향 조정부(21)를 구비하는 구성으로 한다.

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Номер записи: 1
16-11-2015 дата публикации

FILM FORMING APPARATUS

Номер: KR1020150127006A
Автор: MIYASHITA MASARU
Принадлежит:

Provided is a film forming apparatus including multiple plasma guns and equalizing film thickness. The film forming apparatus (1) including multiple plasma guns comprises a potential gradient generating part (7) generating a gradient of a potential between a hearth part (20) and a treated object arrangement part. The potential gradient generating part (7) generates the gradient of the potential to limit movement of ionized film formation material particles to change the energy and flow rate distribution of the ionized film formation material particles, thereby controlling the thickness of the film formation material attached to a treated object. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 2
29-09-2016 дата публикации

FILM FORMING DEVICE

Номер: KR1020160113534A
Автор: SAKEMI TOSHIYUKI, MIYASHITA MASARU, KITAMI HISASHI
Принадлежит:

The present invention provides a film forming device capable of achieving the uniform distribution of a film forming material on a film of a film forming subject. The film forming device, in the device for attaching evaporative particles (Mb) of the film forming material by heating and evaporating the film forming material (Ma) with plasma beams inside a vacuum chamber (10), includes: a plasma source (7) generating the plasma beams inside the vacuum chamber (10); a main hearth (17) which is a main anode guiding the plasma beams to the film forming material or where the plasma beams are guided when the film forming material functioning as an evaporation source is charged; a ring hearth (6) which is an auxiliary anode guiding the plasma beams and arranged around the main hearth; and an evaporation direction adjusting unit (21) changing a direction of the evaporative particles evaporated from the evaporation source. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 3
20-07-2016 дата публикации

성막장치

Номер: KR0101641169B1
Автор: 미야시타 마사루
Принадлежит: 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤

... 복수의 플라즈마건을 구비하고, 막두께의 균일화를 도모할 수 있는 성막장치를 제공한다. 복수의 플라즈마건(5)을 구비하는 성막장치(1)에 있어서, 하스부(20)와 피처리물배치부와의 사이에 전위의 구배를 발생시키는 전위구배발생부(7)를 구비하는 구성으로 한다. 전위구배발생부(7)에 의하여, 전위의 구배를 발생시킴으로써, 이온화된 성막재료입자의 거동을 구속하여, 이온화된 성막재료입자의 에너지 및 유속분포를 변화시켜, 피처리물에 부착되는 성막재료의 두께를 조절한다.

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Номер записи: 4
29-01-2016 дата публикации

Film Forming Apparatus

Номер: KR0101590090B1
Автор: 사케미 토시유키, 미야시타 마사루, 기타미 히사시, 마키노 히로유키
Принадлежит: 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤

... 성막재료의 재료 이용효율을 향상시킬 수 있는 성막장치를 제공한다. 성막장치(1)는, 증발원(2)으로부터의 성막재료입자(Mb)의 확산폭을 조정하는 확산폭 조정부(50)를 구비하고 있다. 이 확산폭 조정부(50)는, 짧은 길이방향(D1)에 있어서의 확산폭에 비해, 짧은 길이방향(D1)에 직교하는 긴 길이방향(D2)에 있어서의 확산폭을 크게 할 수 있다. 즉, 확산폭 조정부(50)는, 긴 길이방향(D2)에 있어서의 확산폭에 비해, 짧은 길이방향(D1)에 있어서의 확산폭을 작게 할 수 있다. 따라서, 짧은 길이방향(D1)에 대향하는 진공챔버(10)의 측벽(10i) 및 측벽(10h)에 부착되는 것을 억제하도록, 짧은 길이방향(D1)에 있어서의 확산폭을 작게 할 수 있다. 이로써, 진공챔버(10)의 벽면에 부착되는 성막재료입자(Mb)를 감소시킬 수 있어, 성막재료(Ma)의 재료 이용효율을 향상시킬 수 있다.

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Номер записи: 5
19-04-2016 дата публикации

Plasma Evaporation Apparatus

Номер: KR0101613562B1
Автор: 미야시타 마사루
Принадлежит: 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤

... 증발재료에 플라즈마빔을 정밀도 좋게 유도할 수 있는 플라즈마 증발장치를 제공한다. 플라즈마 증발장치를 포함하는 성막장치(1)는, 성막재료(Ma)를 증발시키기 위한 복수의 플라즈마건(7)을 구비하고 있다. 복수의 플라즈마건(7)은, 플라즈마빔(P)의 출사방향으로 자력선(G)의 방향을 가지는 제1 플라즈마건(7R)과, 플라즈마빔(P)의 출사방향과는 반대방향으로 자력선(G)의 방향을 가지는 제2 플라즈마건(7L)을 포함하고 있다. 복수의 플라즈마건(7)은, 성막재료(Ma)와 대향하는 방향으로부터 보아, 진공챔버(10)에 병설되어 있음과 함께, 제1 플라즈마건(7R)에 대하여 출사방향을 전방으로 한 경우의 우측에 제2 플라즈마건(7L)이 나열되지 않도록 배치되어 있다.

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Номер записи: 6