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10-12-2015 дата публикации

APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE

Номер: KR1020150138544A
Автор: SONG, GIL HUN, CHOI, KI RYONG, CHOI, YOUNG CHOL, PARK, GUI SU, PARK, SUN YONG
Принадлежит:

The present invention relates to an apparatus for processing a substrate. According to one embodiment of the present invention, the apparatus for processing a substrate includes: a container having a processing space inside; a substrate support unit located inside the container and supporting a substrate; and a spraying member spraying a processing solution onto the substrate placed on the substrate support unit. Veining is formed on an inner side of the container. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 1
18-05-2017 дата публикации

기판 처리 설비

Номер: KR0101736855B1
Автор: 김대훈, 박귀수
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명의 기판 처리 설비는 기판이 수용되는 기판 이송 용기가 놓이는 로드포트; 기판을 처리하는 공정 처리부; 및 상기 기판 이송 용기와 상기 처리부 간에 기판을 반송하는 인덱스 로봇을 구비한 인덱스부를 포함하되; 상기 공정 처리부는 기판을 반송하는 제1메인반송로봇을 가지는 그리고 상기 인덱스부와 인접하게 배치되는 제1트랜스퍼챔버; 상기 제1트랜스퍼챔버와 인접하게 배치되고, 기판을 반송하는 제2메인반송로봇을 가지는 제2트랜스퍼챔버; 및 상기 제2메인반송로봇과 상기 인덱스 로봇간의 기판 인계를 위해 상기 제1트랜스퍼 챔버와 상기 제2트랜스퍼 챔버 사이를 주행하는 셔틀 버퍼부를 포함한다.

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Номер записи: 2
18-04-2018 дата публикации

APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE

Номер: KR1020180039200A
Автор: JUNG, BU YOUNG, YU, JIN TACK, LEE, JU DONG, BANG, BYUNG SUN, CHOI, YOUNG JUN, PARK, GUI SU, KIM, HEE HWAN
Принадлежит:

The present invention provides an apparatus and a method for liquid-treating a substrate. An apparatus for liquid-treating a substrate having a hydrophobic surface includes a substrate support unit for supporting the substrate, a processing liquid supply unit for supplying a processing liquid to the upper surface of the substrate supported by the substrate support unit, and a warming liquid supply unit for supplying a warming liquid to the bottom surface of the substrate supported by the substrate support unit to adjust the temperature of the substrate. The warming liquid is a mixture of a first liquid and a second liquid. The first liquid has a lower surface tension than the second liquid. The second liquid has a higher specific heat than the first liquid. As a result, the warming liquid can diffuse from the center of the bottom surface to the edge region of the substrate. It is possible to uniformly control the temperature of each region of the substrate. COPYRIGHT KIPO 2018 (444) First ...

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Номер записи: 3
10-12-2018 дата публикации

약액 공급 장치

Номер: KR0101927190B1
Автор: 박귀수, 강병철, 조원필
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명에 따른 약액 공급 장치는 제1 약액 공급부 및 제2 약액 공급부를 포함한다. 제1 약액 공급부는 챔버가 설치된 장소와 동일한 제1 층에 설치되어 상기 챔버로 약액을 공급하고, 상기 공급되는 약액의 일정압력을 유지하기 위한 제1 펌프를 포함한다. 제2 약액 공급부는 상기 제1 층의 하단에 배치된 제2 층에 설치되어 상기 제1 약액 공급부로 상기 약액을 공급하며, 상기 약액을 저장하는 약액 저장 탱크, 상기 약액을 가열하기 위한 히터, 및 상기 약액을 상기 제1 약액 공급부로 공급하기 위한 제2 펌프를 포함한다. 이에 의하여, 반도체 제조 설비가 위치한 팹 내부의 공간활용도를 높이고, 안전성과 청정도를 확보할 수 있다.

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Номер записи: 4
08-01-2019 дата публикации

기판 처리 장치 및 방법

Номер: KR0101935949B1
Автор: 정부영, 유진택, 이주동, 방병선, 최영준, 박귀수, 김희환
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판을 액 처리하는 장치 및 방법을 제공한다. 표면이 소수화된 기판을 액 처리하는 장치는 상기 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판의 상면으로 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛, 그리고 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판의 저면으로 승온액을 공급하여 기판의 온도를 조절하는 승온액 공급 유닛을 포함하되, 상기 승온액은 제1액과 제2액이 혼합된 액이며, 상기 제1액은 상기 제2액보다 표면 장력이 더 낮고, 상기 제2액은 상기 제1액보다 비열이 더 높다. 이로 인해 승온액은 기판의 저면 중심에서 에지 영역까지 확산 가능하다.

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Номер записи: 5
28-11-2018 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер: KR1020180126644A
Автор: BANG, BYUNG SUN, JUNG, BU YOUNG, CHOI, JUNG BONG, KIM, BONG JOO, LEE, YOUNG IL, SONG, GIL HUN, PARK, GUI SU, KIM, KWANG RYUL, LEE, KWANG SEOP, YU, JIN TACK
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing method includes the steps of: removing a part of a thin film by irradiating a substrate with a laser; and removing the remaining part of the thin film by supplying a chemical to the substrate. Accordingly, the present invention can effectively process the substrate. COPYRIGHT KIPO 2019 ...

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Номер записи: 6
12-10-2016 дата публикации

SUBSTRATE TRANSFER UNIT AND SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS HAVING SAME

Номер: KR1020160118464A
Автор: EUM, KI SANG, PARK, GUI SU, KIM, DAE HUN
Принадлежит:

The present invention relates to an apparatus, preventing vibration of a substrate transfer unit when a substrate is transferred. According to one embodiment of the present invention, the substrate transfer unit comprises a tuned mass damper which is vibrated in the vibration direction of an arm supporting the substrate and the reverse direction of the vibration direction of the arm in order to cancel the vibration of the arm. The arm comprises: a body; and a hand where the substrate is placed. The tuned mass damper is installed in a body to avoid interference with the substrate. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 7
29-06-2017 дата публикации

재난 신호를 전달하는 경보장치 시스템

Номер: KR0101752357B1
Автор: 박귀수
Принадлежит: 박귀수

... 본 발명은 통신망(130a, 130b)을 통해 연결되는 경보장치(110)와, 방송장치(140) 및 복수의 단말기(120-1,120-2…120-n)를 구비한 재난 신호를 전달하는 경보장치 시스템(100)에 있어서: 상기 경보장치(110)는, 재난/재해에 대응하는 경보 신호를 수신할 수신자의 단말기 번호, 거주지역 및 위치정보를 포함하는 복수의 단말기(120-1,120-2…120-n) 소지자에 대한 정보를 저장하는 데이터베이스(111)와; 경보신호 발송을 요청받으면, 상기 데이터베이스(111)로부터 상기 단말기 소지자 중 재난/재해 발생 또는 예상지역, 종류, 발생시간 및 단말기 소지자의 위치정보에 따라 추출된 재난/재해에 대한 경보신호를 전달받을 경보신호 수신자에 대응하는 리스트를 전달받는 콜관리부(112)와; 상기 콜관리부(112)로부터 상기 리스트를 전달받아 상기 리스트에 대응하여 복수의 단말기(120-1,120-2…120-n) 중 기설정된 수의 단말기들로 호와 방송장치(140)에서 생성한 경보신호를 전달하게 하는 마스터 서버(113)와; 상기 리스트에 대응되는 복수의 단말기(120-1,120-2…120-n)의 수가 기설정된 수 보다 많으면, 상기 마스터 서버(113)로부터 상기 리스트를 전달받아 상기 마스터 서버(113)로부터 호를 전달받지 않은 단말기들로 호와 상기 방송장치(140)에서 생성한 경보신호를 전달하게 하는 제1슬레이브 서버(114)와; 상기 제1슬레이브 서버(114)가 전달받은 상기 리스트에 기록된 호를 발생시킬 경보신호 수신자의 수가 설정치 이상이면, 상기 제1슬레이브 서버(114)로부터 상기 리스트를 전달받아 상기 마스터 서버(113)와 상기 제1슬레이브 서버(114)로부터 호를 전달받지 않은 단말기들로 호와 상기 방송장치(140)에서 생성한 경보신호를 전달하는 제2슬레이브 서버(115); 및 상기 마스터 서버(113), 상기 제1슬레이브 서버(114) 및 상기 제2슬레이브 서버(115)와 각각 연결되어 상기 마스터 서버(113)와 제1슬레이브 ...

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Номер записи: 8
09-01-2017 дата публикации

DEVICE FOR PROCESSING SUBSTRATE

Номер: KR1020170002773A
Автор: KIM, DAE HUN, PARK, GUI SU, SONG, GIL HUN, PARK, SUN YONG, JANG, YOUNG JIN, JEONG, CHEOL HWAN
Принадлежит:

The present invention relates to a device for processing a substrate, including: an index chamber which supplies a moving path; an index robot which is installed to be movable along the moving path of the index chamber; a first rod port which is installed in the front of the index chamber and on which a substrate transfer container for containing the substrate is placed; a second rod port which is installed in the rear of the index chamber and on which the substrate transfer container for containing the substrate is placed; and first and second process processing units which are disposed across the index chamber, in parallel along the moving path, and have multiple chambers for processing the substrate. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 9
18-08-2017 дата публикации

기판 처리 설비

Номер: KR0101768519B1
Автор: 김대훈, 박귀수, 송길훈, 박선용, 장영진, 정철환
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명의 기판 처리 설비는 이동 통로를 제공하는 인덱스 챔버; 상기 인덱스 챔버의 이동 통로를 따라 이동 가능하게 설치되는 인덱스 로봇; 상기 인덱스 챔버의 전단에 설치되고, 기판을 수납하는 기판 이송 용기가 놓여지는 제1로드 포트; 상기 인덱스 챔버의 후단에 설치되고, 기판을 수납하는 기판 이송 용기가 놓여지는 제1로드 포트; 및 상기 인덱스 챔버를 사이에 두고 상기 이동 통로를 따라 나란히 배치되고 기판의 처리가 이루어지는 다수의 챔버를 갖는 제1,2공정 처리부를 포함할 수 있다.

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Номер записи: 10
09-12-2015 дата публикации

APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE

Номер: KR1020150137221A
Автор: PARK, SUN YONG, SONG, GIL HUN, PARK, GUI SU
Принадлежит:

The present invention relates to an apparatus for processing a substrate. According to one embodiment of the present invention, the apparatus for processing a substrate comprises: a processing vessel having a processing space; a substrate support unit for supporting a substrate in the processing space; and a spraying member for spraying a liquid to the substrate supplied to the substrate support unit. The spraying member includes: a nozzle supporter for supplying a first nozzle for supplying a liquid, and a second nozzle for supplying gas; a support axis for supporting the nozzle supporter; and a driver provided on a lower portion of the support axis, and driving the support axis. The first nozzle and the second nozzle have different distances from an end of the nozzle supporter. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 11
25-10-2018 дата публикации

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Номер: KR0101910802B1
Автор: 김대훈, 박귀수
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 메인 이송 로봇이 위치되는 이송 챔버; 상기 이송 챔버에 인접하게 위치되는 공정 챔버를 포함하되, 상기 공정 챔버는, 상부가 개방된 통 형상으로 제공되는 처리 용기; 상기 처리 용기의 내측에 위치되어 기판을 지지하는 기판 지지부재; 상기 처리 용기의 내측에 연결되어 상기 처리 용기 내측의 기체를 배출하는 제1배기 라인; 상기 처리 용기의 내측에 연결되어 상기 처리 용기 내측의 기체를 배출하는 제2배기 라인; 상기 제1배기 라인과 상기 제2배기 라인에 연결되어 상기 제1배기 라인 또는 상기 제2배기 라인으로 유동하는 기체의 유량을 조절하는 유량 제어기를 포함한다.

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Номер записи: 12
28-11-2018 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер: KR1020180127150A
Автор: KIM KWANG RYUL, LEE KWANG SEOP, CHOI JUNGBONG, LEE YOUNGIL, KIM BONG JOO, SONG GIL HUN, PARK GUI SU, BANG BYUNGSUN
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate treating apparatus and a substrate treating method. The substrate treating apparatus according to one embodiment of the present invention comprises: a support member supporting a substrate and provided to be rotatable; a treatment liquid feeding unit for feeding a chemical to the substrate; and a laser irradiating unit for irradiating a laser on the top surface of the substrate fed with the chemical. COPYRIGHT KIPO 2019 ...

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Номер записи: 13
24-05-2017 дата публикации

ALARMING DEVICE FOR TRANSMITTING DISASTER SIGNAL AND METHOD FOR TRANSMITTING DISASTER SIGNAL

Номер: KR1020170057055A
Автор: PARK, GUI SOO
Принадлежит:

The present invention relates to an alarming device for transmitting a disaster signal and a method for transmitting a disaster signal. The alarming device for transmitting a disaster signal comprises: a database (111) which stores information of terminal possessors; a call management unit (112) which receives a list, corresponding to warning signal receivers who receive a warning signal for a disaster among the terminal possessors, from the database when receiving transmission of the warning signal; a master server (113) which receives the list from the call management unit (112) and transmits a call and the warning signal, generated by a broadcast device (140), to a predetermined number of terminals among a plurality of terminals (120-1, 120-2...120-n) to correspond to the list; and a first slave server (114) which receives the list from the master server (113) when the number of terminals corresponding to the list is larger than the predetermined number, and transmits the call and the ...

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Номер записи: 14
07-01-2016 дата публикации

APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE

Номер: KR0101583042B1
Автор: 송길훈, 최기룡, 최영철, 박귀수, 박선용
Принадлежит: 세메스 주식회사, 삼성전자 주식회사

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치에 있어서, 내부에 처리 공간을 가지는 용기와 상기 용기 내부에 위치하며 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과 상기 기판 지지 유닛에 놓여지는 기판으로 처리액을 분사하는 분사 부재를 포함하되 상기 용기의 내측 면에는 결이 형성되는 기판 처리 장치를 포함한다.

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Номер записи: 15
08-01-2016 дата публикации

APPARATUS AND METHOD FOR TREATING A SUBSTRATE

Номер: KR0101582566B1
Автор: 박선용, 송길훈, 박귀수
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치에 있어서, 처리공간을 가지는 처리 용기와; 상기 처리 공간 내에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과; 그리고 상기 기판 지지 유닛에 제공되는 기판에 유체를 분사하는 분사 부재를 포함하되, 상기 분사 부재는 유체를 공급하는 제1노즐과 가스를 공급하는 제2노즐이 제공되는 노즐 지지대와; 상기 노즐 지지대를 지지하는 지지 축과; 그리고 상기 지지 축 하부에 제공되어, 상기 지지 축을 구동하는 구동기;를 포함하며, 상기 제1노즐과 상기 제2노즐은 상기 노즐 지지대의 끝단으로부터 서로 거리가 상이하게 제공되는 기판 처리 장치를 포함한다.

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Номер записи: 16
13-12-2018 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер: KR1020180133022A
Автор: JUNG, BU YOUNG, CHOI, JUNG BONG, KIM, BONG JOO, LEE, YOUNG IL, YU, JIN TACK, SONG, GIL HUN, PARK, GUI SU, BANG, BYUNG SUN, KIM, KWANG RYUL, LEE, KWANG SEOP
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate treating apparatus and a substrate treating method. The substrate treating apparatus according to one embodiment of the present invention comprises: a support member supporting a substrate; and a laser irradiator irradiating a linear type laser having a set length with respect to the surface of the substrate so as to provide a different irradiation distance of the laser in accordance with the location of the substrate. COPYRIGHT KIPO 2019 ...

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Номер записи: 17
20-11-2015 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR0101570167B1
Автор: 안효준, 박귀수, 김춘식, 이재명, 강준기, 노환익, 김진섭, 여영구
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판을 세정하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 본 발명은 기판이 놓여지는 스핀 헤드를 포함하는 기판지지부재; 상기 스핀 헤드 주위를 감싸도록 설치되어 기판상에서 비산되는 처리유체를 회수하는 처리 용기; 및 스윙 방식으로 회전 운동하며 처리유체를 분사하는 이동 노즐 부재를 포함하되; 상기 스핀 헤드는 기판을 지지하는 지지핀들과 기판 가장자리를 척킹하는 척킹핀들을 포함하고, 상기 지지핀은 상기 스핀 헤드 및 상기 처리 용기의 세정 및 건조시 기류를 발생시키기 위한 날개를 포함한다.

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Номер записи: 18
24-03-2016 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR0101605713B1
Автор: 안효준, 박귀수, 김춘식, 이재명, 강준기, 노환익, 김진섭, 여영구
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판을 세정하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 본 발명은 기판이 놓여지는 스핀 헤드를 포함하는 기판지지부재; 상기 스핀 헤드 주위를 감싸도록 설치되어 기판상에서 비산되는 처리유체를 회수하는 처리 용기; 및 스윙 방식으로 회전 운동하며 처리유체를 분사하는 이동 노즐 부재를 포함하되; 상기 스핀 헤드는 기판을 지지하는 지지핀들과 기판 가장자리를 척킹하는 척킹핀들을 포함하고, 상기 지지핀은 상기 스핀 헤드 및 상기 처리 용기의 세정 및 건조시 기류를 발생시키기 위한 날개를 포함한다.

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Номер записи: 19
28-12-2015 дата публикации

SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS AND CLEANING METHOD THEREOF

Номер: KR1020150144449A
Автор: SHIN, JOON HO, SONG, GIL HUN, PARK, GUI SU, LEE, JI HYUN, PARK, SUN YONG
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate treatment apparatus. In an apparatus for treating a substrate for treatment, the substrate treatment apparatus according to an embodiment of the present invention includes: a cup having a treatment space; a support unit for supporting the substrate for treatment in the treatment space; a liquid supply unit for supplying a liquid to the substrate for treatment supported by the support unit; and a controller for controlling the support unit and the liquid supply unit. The controller controls the support unit and the liquid supply unit to perform: a first cleaning step of supplying a first cleaning liquid from the liquid supply unit toward the substrate for cleaning and cleaning the cup by rotating the support unit at the same time while the the substrate for cleaning is placed on the support unit; and a second cleaning step of supplying a second cleaning liquid from the liquid supply unit toward the substrate for cleaning and cleaning the cup and ...

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Номер записи: 20
08-12-2016 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR1020160141293A
Автор: KIM, DAE HUN, PARK, GUI SU
Принадлежит:

According to the present invention, a substrate processing apparatus includes: a load port having a substrate transfer container storing substrates arranged thereon; a processing unit which processes the substrates; and an index unit including an index robot transferring substrates between the substrate transfer container and the processing unit. The processing unit includes: a first transfer chamber which has a first main transfer robot transferring the substrates and is arranged near the index unit; a second transfer chamber which is arranged near the first transfer chamber and has a second main transfer robot transferring substrates; and a shuttle buffer unit which runs between the first and second transfer chambers for transferring the substrates between the second main transfer robot and the index robot. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 21
18-04-2018 дата публикации

DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE

Номер: KR1020180039199A
Автор: BANG, BYUNG SUN, JUNG, BU YOUNG, YU, JIN TACK, PARK, SUN YONG, PARK, GUI SU, KIM, HEE HWAN
Принадлежит:

The present invention provides a device and a method for processing a substrate. The substrate processing device comprises: a substrate supporting unit supporting and rotating the substrate; and a liquid removing unit removing liquid remaining on the substrate supported by the substrate supporting unit. The liquid removing unit includes: a solvent supply member supplying an organic solvent to the substrate supported by the substrate supporting unit; and a laser irradiation member irradiating a laser to the substrate supported by the substrate supporting unit. The organic solvent remaining on the substrate is completely removed, thereby preventing a pattern from collapsing. COPYRIGHT KIPO 2018 ...

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Номер записи: 22
10-04-2018 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер: KR1020180036851A
Автор: KIM, DAE HUN, PARK, GUI SU
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate processing device and a substrate processing method, which efficiently process a substrate. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing device comprises: a transfer chamber in which a main transfer robot is located; and a process chamber adjacently located to the transfer chamber. The process chamber includes: a processing container having an upper part provided in an opened barrel shape; a substrate support member located on an inner side of the processing chamber, and supporting the substrate; a first exhaust line connected to the inner side of the processing container, and exhausting a gas inside the processing container; a second exhaust line connected to the inner side of the processing container, and exhausting the gas inside the processing container; and a flow rate controller connected to the first exhaust line and the second exhaust line, and controlling a flow rate of the gas flowing into the first ...

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Номер записи: 23