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16-03-2023 дата публикации

레지스트 상층막용 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법

Номер: KR20230037366A
Автор: 조아라, 남궁란, 박현, 송대석, 천민기, 권순형, 김민수, 김성진, 배신효, 백재열, 진화영, 최유정
Принадлежит:

... 화학식 M-1로 표시되는 제1 구조 단위, 및 화학식 M-2로 표시되는 제2 구조 단위를 포함하는 아크릴계 공중합체; 산성 화합물; 그리고 용매를 포함하는 레지스트 상층막용 조성물과 상기 레지스트 상층막용 조성물을 이용하는 패턴형성방법에 관한 것이다. 상기 화학식 M-1 및 화학식 M-2에 대한 상세 내용은 명세서에 기재한 바와 같다.

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Номер записи: 1
04-07-2018 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE USING SAME

Номер: KR101866512B1
Автор: SONG, DAE SEOK, PARK, HYUN JIN
Принадлежит: NPS CORPORATION

The present invention relates to a substrate processing apparatus and a method for processing a substrate using the same. The method comprises the steps of introducing a substrate into a chamber; heating and processing the substrate using a heat source unit provided in the chamber; and repeatedly moving at least one of the substrate and the heat source unit in a direction in which the substrate extends. Therefore, the temperature of the substrate can be uniformly controlled while processing the substrate, thereby improving heat treatment efficiency of the substrate. COPYRIGHT KIPO 2018 ...

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Номер записи: 2
13-11-2017 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101796214B1
Автор: 남원식, 연강흠, 송대석
Принадлежит: (주)앤피에스, 남원식

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 롤 형상 기판의 처리 공간을 형성하는 처리 챔버와, 처리 공간의 최외곽 및 중앙에 각각 배치되는 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛을 포함하는 가열유닛 및 제1 가열유닛과 제2 가열유닛 사이에서 상하방향으로 연장 형성되어 배치되며, 수평방향으로 처리 공간을 적어도 하나 이상으로 분할하는 서셉터유닛을 포함함으로써, 롤 타입으로 배치되는 기판을 균일하게 가열할 수 있다. 이처럼, 기판의 모든 면이 균일하게 가열될 수 있어, 기판의 일부 영역의 열화 및 냉점이 발생하는 것을 억제하거나 방지할 수 있으며, 최종적으로 생산되는 제품의 품질을 증가시킬 수 있다. 또한, 제품의 품질의 증가로 인해 공정의 수율 증가로 인한 공정설비의 효율성 및 생산성을 증가시킬 수 있다.

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Номер записи: 3
10-12-2018 дата публикации

SUBSTRATE BONDING DEVICE AND METHOD THEREOF

Номер: KR101926761B1
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK, PARK HYUN JIN, LEE HO SEOK, PARK JIN WOOK, JUNG KYUNG CHUN, JEONG JI YOUNG
Принадлежит: NPS CORPORATION

The present invention relates to a substrate bonding device and a method thereof. The substrate bonding method bonding a first substrate to a second substrate comprises: a process of inserting a first substrate and a second substrate into a chamber in a state of supporting the bottom surfaces of the first and second substrates; a process of preparing the first substrate so that the bottom surface of the first substrate can be in contact with the upper part of a first substrate supporting unit placed inside the chamber; a process of preparing the second substrate so that the bottom surface of the second substrate can be in contact with the upper part of a second substrate supporting unit placed in the upper part of the first substrate supporting unit; a process of rotating the second substrate supporting unit in order to reverse the top surface and the bottom surface of the second substrate; a process of regulating the distance between the first substrate supporting unit and the second substrate ...

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Номер записи: 4
11-08-2017 дата публикации

SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING SAME

Номер: KR1020170092161A
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate supporting apparatus and a substrate processing apparatus having the same, comprising: a processing chamber formed with a processing space of a roll shaped substrate therein; a susceptor unit disposed in the processing space and dividing the processing space into one or more spaces in a horizontal direction; and a support unit having a portion thereof to be movable in outer and inner sides of the processing chamber, and capable of fixing at least partial substrate to one pair of support members which are arranged with a space from each other in a vertical direction, thereby capable of stably supporting and processing the roll shaped substrate in the processing space. Thus, by supporting the substrate to be secured and attached to at least partial of one pair of support members, the substrate can be stably arranged in the chamber during processing time. Therefore, a processing yield of the substrate increases such that efficiency and productivity ...

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Номер записи: 5
02-05-2016 дата публикации

GAS SUPPLY UNIT AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE HAVING SAME

Номер: KR101616739B1
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK
Принадлежит: NPS CORPORATION

The present invention relates to a gas supply unit which supplies gases to a space wherein a substrate is processed. On an upper part of the processing space, the unit is connected to a central unit in a horizontal direction of a processing space and located at a distance outward from a process gas supply unit supplying process gases from the central unit to a lower part and the central unit. The gas supply unit supplies process gases to the central unit of the processing space wherein substrates are located on the upper part of the space where a substrate is processed, by including a cooling gas supply unit which supplies cooling gases, in order to be closer to the inside walls of the processing space than the process gases. The present invention adjusts a gas flow in the space where a substrate is processed to be suitable for the process by installing the gas supply unit such that the cooling gases can be supplied from a location outward from a place where the process gases are supplied ...

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Номер записи: 6
21-08-2015 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR101545673B1
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK
Принадлежит: NPS CORPORATION

The present invention relates to a substrate processing apparatus, which comprises: a processing chamber formed with a space for processing a substrate; a cylindrical reflection unit disposed to be in contact with an inner side wall of the processing chamber; at least one heat source unit extendedly formed in the vertical direction, and having at least a partial area among outer sides disposed to be in contact with an inner wall of the reflection unit; and a susceptor disposed to be spaced apart from the heat source unit, and dividing the space for processing the substrate in a crossing direction to the vertical direction. Thus, the quality of the substrate produced by uniformly heating a cylindrical-typed substrate can be improved. That is, the heat source is disposed to surround the substrate while being spaced apart from the cylindrical-typed substrate disposed in the center of the chamber, and the heat source for emitting emission light in a radial shape while surrounding the substrate ...

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Номер записи: 7
02-12-2015 дата публикации

APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE

Номер: KR101573035B1
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK
Принадлежит: NPS CORPORATION

The present invention relates to an apparatus for processing a substrate. The apparatus includes: a chamber having a process space formed inside; a hollow susceptor disposed to be extended in one direction inside the chamber; a heat source unit prepared on an inner wall of the chamber and enclosing at least outer side of the susceptor; and a substrate support unit prepared to be separated from the susceptor inside the susceptor and fixing a sheet-shaped substrate in the form of a roll, thereby easily processing a large area substrate. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 8
14-03-2017 дата публикации

SUBSTRATE LOADING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер: KR101715887B1
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK, PARK, HYUN JIN
Принадлежит: NPS CORPORATION

The present invention relates to a substrate loading apparatus, a substrate processing apparatus having the same, and a substrate processing method. The substrate loading apparatus comprises: a support unit in which a plurality of seating grooves on which a substrate is placed are formed; a support portion detachably supporting and rotating the support unit on an upper portion; and an aligning portion provided on an outer side of the support portion so as to reciprocate horizontally to adjust an arrangement position of the support unit on the upper portion of the support portion, so that a plurality of substrates can be collectively carried into and out of a process chamber in which a substrate processing is performed, thereby improving processing efficiency of the substrate. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 9
10-05-2018 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101856131B1
Автор: 남원식, 연강흠, 송대석, 박현진
Принадлежит: (주)앤피에스, 남원식

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 기판의 처리공간을 형성하는 공정챔버와, 일방향으로 연장 형성되어 상기 공정챔버의 내측벽 중 적어도 어느 한 측벽과 평행하게 배치되는 메인 가열부 및 상기 메인 가열부의 양단부 영역에 배치되는 보조 가열부를 포함하는 가열유닛 및 상기 처리공간에서 상기 가열유닛의 안측에 배치되어, 상기 가열유닛과 마주보며 배치되는 서셉터유닛을 포함하므로써, 기판 처리 공정의 효율성을 증가시킬 수 있다. 즉, 기판과 나란하게 배치된 메인 가열부의 중앙부와 외곽부 간의 온도를 보상하기 위해, 메인 가열부의 외곽부와 근접한 위치에 보조 가열부를 배치하여, 메인 가열부의 외곽부와 중앙부의 온도편차를 감소시킴으로써 열원으로부터 방출되는 열이 기판으로 용이하게 전달될 수 있다. 이에, 기판의 전체 영역이 균일하게 가열될 수 있어, 메인 가열부의 외곽부와 중앙부의 온도 편차에 의한 기판의 일부 영역의 열화 및 냉점이 발생하는 것을 억제하거나 방지하여 최종적으로 생산되는 제품의 품질을 증가시킬 수 있다.

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Номер записи: 10
29-08-2017 дата публикации

기판 지지 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Номер: KR0101772180B1
Автор: 남원식, 연강흠, 송대석
Принадлежит: (주)앤피에스, 남원식

... 본 발명은 기판 지지 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 내부에 롤 형상 기판의 처리공간이 형성되는 처리 챔버와, 처리공간에 배치되어 수평방향으로 처리공간을 적어도 하나 이상으로 분할하는 서셉터유닛, 적어도 일부가 처리 챔버의 외측 및 내측으로 이동 가능하며, 기판의 적어도 일부를 상하방향으로 상호 이격 배치된 한 쌍의 지지부재에 고정 가능하게 하는 지지유닛을 포함함으로써, 롤 형상의 기판을 안정적으로 처리공간에서 지지 및 처리할 수 있다. 즉, 한 쌍의 지지부재의 적어도 일부 영역에 기판을 롤 타입으로 안착 및 밀착시키며 지지함으로써, 기판이 처리시간 동안 챔버 내에 안정적으로 배치될 수 있다. 이에, 기판의 공정 수율 증가로 인해 공정설비의 효율성 및 생산성을 증가시킬 수 있다.

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Номер записи: 11
31-03-2017 дата публикации

TRANSFER APPARATUS, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD INCLUDING SAME

Номер: KR101721619B1
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK, PARK, HYUN JIN
Принадлежит: NPS CORPORATION, NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM

The present invention relates to a transfer apparatus, and a substrate processing apparatus and a substrate processing method including the same. According to the present invention, the transfer apparatus comprises: a processing chamber to form a space in which a substrate is processed; an auxiliary chamber connected to at least one side surface of the processing chamber to form an auxiliary space communicating with the processing space; a transfer unit including a transfer member at least partially installed in the auxiliary space to form a transfer path of the substrate, and allowing a tray in which the substrate can be mounted to move from the auxiliary chamber to the processing chamber by front/rear reciprocal movement; a reception unit disposed to allow at least a part of a configuration to be lifted/lowered in the processing chamber, so as to receive the tray on the moving path; and a control unit connected to the transfer member and the reception unit to allow at least a part of ...

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Номер записи: 12
16-03-2023 дата публикации

레지스트 상층막용 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법

Номер: KR20230037367A
Автор: 천민기, 남궁란, 박현, 송대석, 조아라, 권순형, 김민수, 김성진, 배신효, 백재열, 진화영, 최유정
Принадлежит:

... 하이드록시기 및 불소를 함유하는 구조 단위를 포함하는 아크릴계 중합체; 적어도 하나의 질소를 포함하는 아민 화합물, 및 적어도 하나의 질소를 함유하는 헤테로 고리 화합물 중 적어도 1종; 및 용매를 포함하는 레지스트 상층막용 조성물; 그리고 상기 레지스트 상층막용 조성물을 이용하는 패턴형성방법에 관한 것이다.

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Номер записи: 13
16-08-2017 дата публикации

SUBSTRATE SUPPORT DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE INCLUDING SAME

Номер: KR101767666B1
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK, PARK, HYUN JIN
Принадлежит: NPS CORPORATION, NAM, WON SIK

The present invention relates to a substrate support device and a substrate processing device including the same. The substrate support device includes: a processing chamber having a processing space of a substrate; a heating unit arranged on at least a wall among inner walls of the processing chamber; a susceptor unit arranged on the inner side of the heating unit and facing the heating unit; a support unit extended in a direction and including a support rod capable of fixing at least a part of the substrate and a lifting unit installed to be detached from the support rod and lifting the support rod; and a position control unit connected to the support unit and controlling the position of the support unit in accordance with the size of the substrate. So, the substrate support device can improve productivity and efficiency of a process by heating the substrate in a position in which the substrate is not biased in a substrate processing space depending on the size of the substrate. In other ...

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Номер записи: 14
12-10-2015 дата публикации

SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE INCLUDING SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD USING SAME

Номер: KR101559028B1
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK
Принадлежит: NPS CORPORATION, NAM, WON SIK

The present invention relates to a substrate supporting device, a substrate processing device including the same, and a substrate processing method using the same. The substrate supporting device comprises: a processing chamber having a space inside wherein a substrate is processed in a space; a heat source unit expanded in a vertical direction, and arranged in the processing chamber; and a support unit including a susceptor dividing the space where the substrate is processed in a lateral direction, a substrate mounting unit having a mounting surface where the substrate is mounted, and a supporting body expanded from the substrate mounting unit to an upper part and coming in contact with at least parts of the areas on an inner surface of the substrate. The substrate processing method comprises: a step of supporting preparation of a coil type substrate on the support unit outside the space where the coil type substrate is processed; a step of loading the support unit where the coil type ...

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Номер записи: 15
30-11-2017 дата публикации

SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS

Номер: KR1020170131788A
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK, PARK, HYUN JIN
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate treatment apparatus, which comprises: a processing chamber for forming a treatment space of a substrate; a heating unit including a main heating unit extending in one direction thereof, and disposed in parallel with at least one sidewall among inner walls of the processing chamber, and an auxiliary heating unit disposed at both end regions of the main heating unit; and a susceptor unit disposed inside the heating unit in the treatment space to be disposed to face the heating unit. Accordingly, the efficiency of the substrate treatment process can be increased. In order to compensate for the temperature between a central portion and an outer portion of the main heating unit disposed in parallel with the substrate, an auxiliary heating unit is disposed at a position adjacent to the outer portion of the main heating unit, such that the temperature deviation between the outer portion and the central portion of the main heating unit is reduced, thereby ...

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Номер записи: 16
16-03-2023 дата публикации

포토레지스트 패턴 형성방법

Номер: KR20230037368A
Автор: 송대석, 남궁란, 박현, 조아라, 천민기, 권순형, 김민수, 김성진, 배신효, 백재열, 진화영, 최유정
Принадлежит:

... 기판 위에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴 위에 하이드록시기 및 불소를 함유하는 구조 단위를 포함하는 아크릴계 중합체를 포함하는 유기 상층막 조성물을 도포하는 단계; 상기 유기 상층막 조성물이 도포된 기판을 건조 및 가열하여 상층막을 코팅하는 단계; 및 상기 상층막이 코팅된 기판에 아세테이트계 화합물 및 에테르계 화합물을 포함하는 린스액을 분사하여 상기 상층막을 제거하는 단계를 포함하는 포토레지스트 패턴 형성방법, 그리고 이에 따라 제조된 포토레지스트 패턴이 형성된 반도체 소자에 관한 것이다.

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Номер записи: 17
14-02-2019 дата публикации

자동 결제 기부 시스템 및 방법

Номер: KR1020190015647A
Автор: 송대석
Принадлежит:

... 본 발명은 결제 정보와 이를 바탕으로 기부 정보를 생성하여 전송하는 결제 단말기와, 상기 결제 정보와 기부 정보를 제공받고, 결제 정보를 결제 서버에 제공하고, 기부 정보를 기부 운영 서버에 제공하는 승인 대행 서버와, 상기 기부 정보를 바탕으로 기부 결제 정보를 생성하여 결제 서버에 전송하는 기부 운영 서버 및 상기 결제 정보와 기부 결제 정보를 각기 승인하고, 승인된 결제 승인 정보 및 기부 승인 정보를 승인 대행 서버를 통해 결제 단말기에 전송하여 각각의 승인 전표를 출력하게 하는 결제 서버를 포함하는 자동 결제 기부 시스템 및 방법을 제공한다.

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Номер записи: 18
29-01-2019 дата публикации

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Номер: KR0101942511B1
Автор: 남원식, 연강흠, 송대석, 박현진, 이호석
Принадлежит: (주)앤피에스

... 본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것으로, 기판을 안착시키기 위한 지지플레이트를 지지하기 위한 제1지지부와, 기판 처리 시 상기 지지플레이트의 상부에 배치되는 서셉터를 지지하기 위한 제2지지부를 포함하는 이송 챔버; 내부에 지지플레이트, 기판 및 서셉터의 적층체를 지지하기 위한 제3지지부를 포함하는 공정 챔버; 및 상기 이송 챔버와 상기 공정 챔버 간에 지지플레이트, 기판 및 서셉터를 이송할 수 있는 이송 로봇;을 포함하여, 기판 처리 중 발생하는 이물질을 서셉터에 부착시켜 공정 챔버 내부의 오염을 억제할 수 있다.

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Номер записи: 19
26-02-2016 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR101597237B1
Автор: NAM, WON SIK, SONG, DAE SEOK, YEON, KANG HEUM
Принадлежит: NPS CORPORATION, NAM, WON SIK, SONG, DAE SEOK

The present invention relates to a substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus includes: a chamber formed in an internal space; a substrate support part which is rotatably formed in the chamber, and supports the substrate from the upper part thereof; a heater block which is separated from the upper part of the substrate support part in the chamber, and heats the substrate; and a temperature measuring part which faces the substrate support part in the heater block, and measures the temperature of the substrate. The temperature measurement of the substrate can be accurately carried out. So, the temperature of the substrate can be uniformly controlled. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 20
16-03-2023 дата публикации

레지스트 상층막용 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법

Номер: KR20230037369A
Автор: 박현, 남궁란, 송대석, 조아라, 천민기, 권순형, 김민수, 김성진, 배신효, 백재열, 진화영, 최유정
Принадлежит:

... 화학식 M-1로 표시되는 제1 구조 단위, 및 화학식 M-2A 또는 화학식 M-2B로 표시되는 제2 구조 단위를 포함하는 아크릴계 공중합체; 산성 화합물; 그리고 용매를 포함하는 레지스트 상층막용 조성물과 상기 레지스트 상층막용 조성물을 이용하는 패턴형성방법에 관한 것이다. 상기 화학식 M-1, 화학식 M-2A 및 화학식 M-2B에 대한 상세 내용은 명세서에 기재한 바와 같다.

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Номер записи: 21
16-11-2016 дата публикации

TRAY, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD USING SAME

Номер: KR101675931B1
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK, PARK, HYUN JIN
Принадлежит: NPS CORPORATION

The present invention relates to a tray, a substrate processing device, and a substrate processing method using the same. The substrate processing method according to the present invention comprises the processes of: mounting a substrate in a tray having an inner space; introducing the tray into a chamber by way of a transfer unit which is arranged inside the chamber; connecting a first nozzle for supplying a substrate processing gas to the tray with a second nozzle for discharging the substrate processing gas, which has been introduced into the tray, to outside; and processing the substrate while supplying the substrate processing gas through the first nozzle and discharging the substrate processing gas through the second nozzle. According to the present invention, uniformity and reliability of a thin film formed on the substrate can be improved. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 22
16-03-2023 дата публикации

레지스트 상층막용 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법

Номер: KR20230037371A
Автор: 송대석, 남궁란, 박현, 조아라, 천민기, 권순형, 김민수, 김성진, 배신효, 백재열, 진화영, 최유정
Принадлежит:

... 화학식 M-1로 표시되는 제1 구조 단위, 및 화학식 M-2로 표시되는 제2 구조 단위를 포함하는 아크릴계 공중합체; 산성 화합물; 그리고 용매를 포함하는 레지스트 상층막용 조성물과 상기 레지스트 상층막용 조성물을 이용하는 패턴형성방법에 관한 것이다. 상기 화학식 M-1 및 화학식 M-2에 대한 상세 내용은 명세서에 기재한 바와 같다.

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Номер записи: 23
20-02-2018 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR101830124B1
Автор: YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK, PARK, HYUN JIN, LEE, JONG HYUN
Принадлежит: NPS CORPORATION

The present invention relates to a substrate processing apparatus comprising: a chamber having a substrate processing space; a carrier including a plurality of supports disposed by being spaced apart from each other in a vertical direction to support each substrate, and a plurality of heaters installed on a lower surface of the substrate supported to the support to be faced with each other; and a plurality of lamps surrounding the outside of the carrier moving in the substrate processing space within the chamber and extended in the vertical direction. According to one embodiment of the present invention, as the heater is installed on a lower side of one substrate and a heat blocking member is installed on an upper side of the one substrate, the temperature of a processing surface of one substrate is able to be uniformly controlled. In other words, in comparison with an existing apparatus, temperature uniformity in a lateral direction of a substrate is able to be improved, and a difference ...

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Номер записи: 24
01-10-2015 дата публикации

DRUM WEIGHT MEASURING APPARATUS

Номер: KR101556745B1
Автор: SONG, DAE SUCK
Принадлежит: DAEYOUNG CO., LTD.

According to the present invention, in a recycling process after manufacturing or cleaning, processes of measuring and marking a drum weight can be automatically performed in a limp, thereby improving convenience and workability. Moreover, a drum is elevated by using an absorber, and a drum weight is measured by using a load cell, thereby more conveniently and accurately measuring a drum weight. Further, while measuring a drum weight, a position of a large cap and a small cap which are provided on an upper surface of a drum can be detected for a drum weight to be quickly marked in a predetermined marking position. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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Номер записи: 25
16-03-2023 дата публикации

레지스트 상층막용 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법

Номер: KR20230037370A
Автор: 박현, 남궁란, 송대석, 조아라, 천민기, 권순형, 김민수, 김성진, 배신효, 백재열, 진화영, 최유정
Принадлежит:

... 화학식 M-1로 표시되는 제1 구조 단위, 및 화학식 M-2A, 화학식 M-2B 및 화학식 M-2C 중 적어도 하나로 표시되는 제2 구조 단위를 포함하는 아크릴계 공중합체; 산성 화합물; 그리고 용매를 포함하는 레지스트 상층막용 조성물과 상기 레지스트 상층막용 조성물을 이용하는 패턴형성방법에 관한 것이다. 상기 화학식 M-1, 화학식 M-2A, 화학식 M-2B 및 화학식 M-2C에 대한 상세 내용은 명세서에 기재한 바와 같다.

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Номер записи: 26
11-08-2017 дата публикации

SUBSTRATE TREATING DEVICE

Номер: KR1020170092160A
Автор: NAM, WON SIK, YEON, KANG HEUM, SONG, DAE SEOK
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate treating device which comprises: a treating chamber forming a treating space of a roll shaped substrate; a heating unit including a first heating unit and a second heating unit respectively arranged in the outermost and center of the treating space; and a susceptor unit formed and arranged by extending in the vertical direction between the first heating unit and the second heating unit, and splitting the treating space into at least one in the horizontal direction. The substrate treating device can uniformly heat the substrate arranged in a roll type. Such a uniform heating of all surfaces of the substrate suppresses or prevents occurrence of deterioration and cold spots in a partial area of the substrate and thus the quality of a final product can be improved. Also, the improvement of the product quality can increase the efficiency and productivity of process equipment as well as the process yield. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 27