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18-09-2017 дата публикации

이미다졸 및 비스에폭사이드 화합물의 반응 산물을 함유하는 구리 전기도금조로부터 포토레지스트 정의된 특징부의 전기도금 방법

Номер: KR0101779403B1
Автор: 매튜 토르세트, 주흐라 니아짐베토바, 이 친, 줄리아 웨어팅크, 조안나 치에비스체크, 에릭 레딩턴, 마크 르페브르
Принадлежит: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨, 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨

... 전기도금 방법은 실질적으로 균일한 형태를 갖는 포토레지스트 정의된 특징부의 도금을 가능케 한다. 전기도금 방법에는 포토레지스트 정의된 특징부를 전기도금하기 위해 이미다졸 및 비스에폭사이드의 반응 산물을 포함하는 구리 전기도금조가 포함된다. 이러한 특징부에는 기둥, 결합 패드 및 라인 스페이스 특징부가 포함된다.

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Номер записи: 1
15-02-2017 дата публикации

METHOD OF ELECTROPLATING PHOTORESIST DEFINED FEATURES FROM COPPER ELECTROPLATING BATHS CONTAINING REACTION PRODUCTS OF PYRIDYL ALKYLAMINES AND BISEPOXIDES

Номер: KR1020170017726A
Автор: MATTHEW THORSETH, ZUHRA NIAZIMBETOVA, YI QIN, JULIA WOERTINK, JOANNA DZIEWISZEK, ERIK REDDINGTON, MARK LEFEBVRE
Принадлежит:

Electroplating methods enable the plating of photoresist defined features which have substantially uniform morphology. The electroplating methods comprise copper electroplating baths with reaction products of pyridyl alkylamines and bisepoxides to electroplate the photoresist defined features. Such features comprise: pillars; bond pads; and line space features. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 2
15-02-2017 дата публикации

METHOD OF ELECTROPLATING PHOTORESIST DEFINED FEATURES FROM COPPER ELECTROPLATING BATHS CONTAINING REACTION PRODUCTS OF IMIDAZOLE COMPOUNDS, BISEPOXIDES AND HALOBENZYL COMPOUNDS

Номер: KR1020170017739A
Автор: MATTHEW THORSETH, ZUHRA NIAZIMBETOVA, YI QIN, JULIA WOERTINK, JULIA KOZHUKH, ERIK REDDINGTON, MARK LEFEBVRE
Принадлежит:

An electroplating method enables plating of photoresist defined features which substantially have uniform morphology. The electroplating method comprises copper electroplating baths with reaction products of imidazole compounds, bisepoxides, and halobenzyl compounds to electroplate the photoresist defined features. Such features comprise pillars, bond pads, and line space features. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 3
22-11-2017 дата публикации

알파 아미노산 및 비스에폭사이드의 반응 산물을 함유하는 구리 전기도금조로부터 포토레지스트 정의된 특징부의 전기도금 방법

Номер: KR0101799857B1
Автор: 매튜 토르세트, 주흐라 니아짐베토바, 이 친, 줄리아 웨어팅크, 조안나 치에비스체크, 에릭 레딩턴, 마크 르페브르
Принадлежит: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨, 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨

... 전기도금 방법은 실질적으로 균일한 형태를 갖는 포토레지스트 정의된 특징부의 도금을 가능케 한다. 전기도금 방법에는 포토레지스트 정의된 특징부를 전기도금하기 위해 α-아미노산 및 비스에폭사이드의 반응 산물을 포함하는 구리 전기도금조가 포함된다. 이러한 특징부에는 기둥, 결합 패드 및 라인 스페이스 특징부가 포함된다.

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Номер записи: 4
07-09-2017 дата публикации

피리딜 알킬아민과 비스에폭사이드의 반응 생성물을 함유하는 구리 전기도금조로부터 포토레지스트 한정된 피쳐를 전기도금하는 방법

Номер: KR0101776060B1
Автор: 매튜 토르세트, 주흐라 니아짐베토바, 이 친, 줄리아 웨어팅크, 조안나 치에비스체크, 에릭 레딩턴, 마크 르페브르
Принадлежит: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨, 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨

... 전기도금 방법은 실질적으로 균일한 형태를 갖는 포토레지스트 한정된 피쳐의 도금을 가능하게 한다. 상기 전기도금 방법은 포토레지스트 한정된 피쳐를 전기도금하기 위해 피리딜 알킬아민과 비스에폭사이드의 반응 생성물을 포함하는 구리 전기도금조를 포함한다. 그와 같은 피쳐는 필러, 결합 패드 및 라인 공간 피쳐를 포함한다.

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Номер записи: 5
15-02-2017 дата публикации

METHOD OF ELECTROPLATING PHOTORESIST DEFINED FEATURES FROM COPPER ELECTROPLATING BATHS CONTAINING REACTION PRODUCTS OF ALPHA AMINO ACIDS AND BISEPOXIDES

Номер: KR1020170017738A
Автор: MATTHEW THORSETH, ZUHRA NIAZIMBETOVA, YI QIN, JULIA WOERTINK, JOANNA DZIEWISZEK, ERIK REDDINGTON, MARK LEFEBVRE
Принадлежит:

Electroplating methods enable the plating of photoresist defined features which have substantially uniform morphology. The electroplating methods comprise copper electroplating baths with reaction products of α-amino acids and bisepoxides to electroplate the photoresist defined features. Such features comprise: pillars; bond pads; and line space features. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 6
18-09-2017 дата публикации

이미다졸 화합물, 비스에폭사이드 및 할로벤질 화합물의 반응 산물을 함유하는 구리 전기도금조로부터 포토레지스트 정의된 특징부의 전기도금 방법

Номер: KR0101779408B1
Автор: 매튜 토르세트, 주흐라 니아짐베토바, 이 친, 줄리아 웨어팅크, 줄리아 코주크, 에릭 레딩턴, 마크 르페브르
Принадлежит: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨, 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨

... 전기도금 방법은 실질적으로 균일한 형태를 갖는 포토레지스트 정의된 특징부의 도금을 가능케 한다. 전기도금 방법에는 포토레지스트 정의된 특징부를 전기도금하기 위해 이미다졸 화합물, 비스에폭사이드 및 할로벤질 화합물의 반응 산물을 포함하는 구리 전기도금조가 포함된다. 이러한 특징부에는 기둥, 결합 패드 및 라인 스페이스 특징부가 포함된다.

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Номер записи: 7
15-02-2017 дата публикации

METHOD OF ELECTROPLATING PHOTORESIST DEFINED FEATURES FROM COPPER ELECTROPLATING BATHS CONTAINING REACTION PRODUCTS OF IMIDAZOLE AND BISEPOXIDE COMPOUNDS

Номер: KR1020170017737A
Автор: MATTHEW THORSETH, ZUHRA NIAZIMBETOVA, YI QIN, JULIA WOERTINK, JOANNA DZIEWISZEK, ERIK REDDINGTON, MARK LEFEBVRE
Принадлежит:

Electroplating methods enable the plating of photoresist defined features which have substantially uniform morphology. The electroplating methods comprise copper electroplating baths with reaction products of imidazole and bisepoxides to electroplate the photoresist defined features. Such features comprise: pillars; bond pads; and line space features. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 8