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11-05-2015 дата публикации

APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE

Номер: KR1020150051195A
Автор: HWANG, SOO MIN, OH, DOO YOUNG, KANG, DONG YEON, LEE, OK SEONG
Принадлежит:

An apparatus for processing a substrate of the present invention comprises an index unit; a process treating unit in which treatment rooms treating the substrate are arranged in layers; and a test unit arranged on an index module and the process treating unit. The test unit comprises: a first test chamber having a first test return robot, and a first test module which is arranged in the location in which the first test return robot can access, and performs a test process of a first item to substrates of a first purchasing among substrates treated in the process treating unit; and a second test chamber having a second test return robot, and a second test module which is arranged in the location in which the second test return robot can access, and performs a test process of a second item which is different with the first item to substrates of a second purchasing among substrates treated in the process treating unit. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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Номер записи: 1
14-12-2018 дата публикации

APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE

Номер: KR1020180133273A
Автор: KIM, HYUN SOO, KANG, DONG HOON, KIM, HYUNG JOON, LEE, OK SEONG, OH, CHANG SUK
Принадлежит:

The present invention relates to an apparatus for treating a substrate to treat a substrate. According to an embodiment of the present invention, the apparatus for treating a substrate comprises: a housing having a space provided with an internal device therein; a door installed in an entrance of the housing, and opening and closing the entrance; and a locking unit locking the door. The locking unit is provided to the door, and has a first coupling member and a second coupling member which are coupled to and separated from each other at a position of different heights of a side wall in which the door of the housing is formed. Moreover, the first coupling member and the second coupling member are provided with a different coupling structure. COPYRIGHT KIPO 2019 ...

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Номер записи: 2
20-02-2019 дата публикации

배기 어셈블리 및 이를 갖는 기판 처리 장치

Номер: KR1020190017088A
Автор: 이영준, 강동훈, 김형준, 이옥성, 김치현
Принадлежит:

... 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 제1 처리 공간을 가지는 제1 챔버; 내부에 기판을 처리하는 제2 처리 공간을 가지는 제2 챔버; 및 상기 제1 처리 공간 및 제2 처리 공간 각각을 배기하는 배기 어셈블리를 포함하되; 상기 배기 어셈블리는 통합 배기 덕트; 상기 통합 배기 덕트를 감압하는 감압 부재; 상기 제1 처리 공간과 상기 통합 배기 덕트를 연결하는 제1 연결 덕트; 및 상기 제1 처리 공간과 상기 통합 배기 덕트를 연결하는 제1 연결 덕트를 포함하며, 상기 통합 배기 덕트는 제1연결 덕트를 통해 유입되는 제1기류가 상기 제2연결 덕트를 통해 유입되는 제2기류와 충돌되지 않도록 상기 제1기류의 방향을 안내하는 기류 안내부재를 포함할 수 있다.

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Номер записи: 3
24-05-2017 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND EXHAUST METHOD THEREOF

Номер: KR1020170056990A
Автор: LEE, OK SEONG
Принадлежит:

The present invention relates to an apparatus for exhausting an atmosphere and a method thereof. A substrate processing apparatus includes: a housing having a processing space therein; a substrate support unit supporting the substrate in the processing space; and an exhaust assembly exhausting the processing space. The exhaust assembly includes: a pressure reducing member reducing the pressure in the processing space; a main exhaust duct interconnecting the pressure reducing member and the housing; a secondary exhaust duct connected to the main exhaust duct to supply air currents to the main exhaust duct; and an air current adjusting member which adjusts the amount of air currents flowing into the secondary exhaust duct. A connection area of the main and secondary exhaust ducts is arranged between the housing and the pressure reducing member. Accordingly, the substrate processing apparatus can remove the process byproducts attached to the main exhaust duct. COPYRIGHT KIPO 2017 (990) Controller ...

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Номер записи: 4
08-05-2015 дата публикации

APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE

Номер: KR1020150050286A
Автор: HWANG, SOO MIN, OH, DOO YOUNG, KANG, DONG YEON, LEE, OK SEONG
Принадлежит:

An apparatus for processing a substrate of the present invention comprises an index unit; a process treating unit in which treatment rooms treating the substrate are arranged in layers; and a test unit arranged on an index module and the process treating unit. The test unit comprises: a first test chamber having a first test return robot, and a first test module which is arranged in the location in which the first test return robot can access, and performs a test process of a first item to substrates of a first purchasing among substrates treated in the process treating unit; and a second test chamber having a second test return robot, and a second test module which is arranged in the location in which the second test return robot can access, and performs a test process of a second item which is different with the first item to substrates of a second purchasing among substrates treated in the process treating unit. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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Номер записи: 5
20-11-2015 дата публикации

Apparatus for Processing Substrate

Номер: KR0101570160B1
Автор: 황수민, 오두영, 강동연, 이옥성
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명의 기판 처리 설비는 인덱스부; 기판 처리를 수행하는 처리실들이 적층되어 배치되는 공정 처리부; 및 상기 인덱스 모듈과 상기 공정 처리부에 배치된 검사부를 포함하되; 상기 검사부는 제1검사용 반송 로봇과, 상기 제1검사용 반송 로봇이 접근 가능한 위치에 배치되고, 상기 공정 처리부에서 처리가 이루어진 기판들 중 제1매수의 기판들에 대해 제1항목의 검사 공정을 수행하는 제1검사 모듈을 갖는 제1검사 챔버; 및 제2검사용 반송 로봇과, 상기 제2검사용 반송 로봇이 접근 가능한 위치에 배치되고, 상기 공정 처리부에서 처리가 이루어진 기판들 중 제2매수의 기판들에 대해 상기 제1항목과 상이한 제2항목의 검사 공정을 수행하는 제2검사 모듈을 갖는 제2검사 챔버를 포함한다.

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Номер записи: 6
23-03-2016 дата публикации

Apparatus for Processing Substrate

Номер: KR0101605712B1
Автор: 황수민, 오두영, 강동연, 이옥성
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명의 기판 처리 설비는 인덱스부; 기판 처리를 수행하는 처리실들이 적층되어 배치되는 공정 처리부; 및 상기 인덱스 모듈과 상기 공정 처리부에 배치된 검사부를 포함하되; 상기 검사부는 제1검사용 반송 로봇과, 상기 제1검사용 반송 로봇이 접근 가능한 위치에 배치되고, 상기 공정 처리부에서 처리가 이루어진 기판들 중 제1매수의 기판들에 대해 제1항목의 검사 공정을 수행하는 제1검사 모듈을 갖는 제1검사 챔버; 및 제2검사용 반송 로봇과, 상기 제2검사용 반송 로봇이 접근 가능한 위치에 배치되고, 상기 공정 처리부에서 처리가 이루어진 기판들 중 제2매수의 기판들에 대해 상기 제1항목과 상이한 제2항목의 검사 공정을 수행하는 제2검사 모듈을 갖는 제2검사 챔버를 포함한다.

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Номер записи: 7
30-04-2018 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101853371B1
Автор: 이옥성
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 베이크 유닛들이 적층 배치되는 베이크 프레임; 및 상기 베이크 프레임과 일부 인접하게 위치되고, 코터 유닛들이 적층 배치되는 코터 프레임을 포함하되; 상기 베이크 프레임은 상기 베이크 유닛들에서 발생되는 열이 상기 베이크 프레임을 거쳐 상기 코터 프레임으로 전달되는 것을 방지하기 위해 상기 코터 프레임과 간섭되는 구간에 공냉식 유로를 포함할 수 있다.

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Номер записи: 8
17-01-2018 дата публикации

APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE

Номер: KR1020180005873A
Автор: LEE, OK SEONG
Принадлежит:

The present invention provides an apparatus for processing a substrate. The apparatus for processing a substrate comprises: a bake frame in which bake units are stacked and arranged; and a coater frame of which a portion is placed to be adjacent to the bake frame, wherein coater units are stacked and arranged. The bake frame may comprise an air-cooled type flow path in a section interfering in the coater frame to prevent heat generated in the bake units from being transmitted to the coater frame via the bake frame. COPYRIGHT KIPO 2018 ...

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Номер записи: 9