Gießform für Strangguß

Gießform für Strangguß, die ein Gießformsubstrat (1) aus Kupfer oder Kupferlegierung und einen gespritzten Überzugsfilm (2) umfaßt, der auf nicht-gestrahlten Innenflächen des Substrats (1) ausgebildet und dadurch erhältlich ist, daß Teilchen aus wenigstens einem abnutzungsbeständigen Material auf Wolframcarbid-Basis mit einer Teilchengröße von 5 µm bis 53 µm und mit einer Härte, die eine Verankerung in den Innenflächen des Substrats ermöglicht, einer Hochdruck/Hochgeschwindigkeits-Sauerstoff-Brennstoff-Beschichtung unter Bedingungen unterzogen werden, bei denen die Teilchen bei Beaufschlagung mit Hitze von einer Spritzflamme wenigstens teilweise nicht-geschmolzen bleiben, wodurch eine Schicht gebildet wird, die direkt in den Innenflächen des Substrats verankert ist, wenigstens als eine Schicht des gespritzten Überzugsfilms (2), der in einer Gesamtfilmdicke von 0,01 bis 6 mm ausgebildet ist, ohne die Notwendigkeit des Rückgriffes auf irgendeine thermische Behandlung nach Abschluß der Hochdruck ...