Device for the treatment of an band-shaped material during a plasma-supported process.

Apparatus for performing a plasma-assisted process.

Eine Vorrichtung zur Durchführung eines Plasma-unterstützten Prozesses, insbesondere einer Plasma-unterstützten, chemischen Abscheidung aus der Gasphase weist in einer Vakuumkammer mindestens eine Magnetron-Elektrode auf, die vom unausgeglichenen Typus ist und eine flache Magnetron-Front (20) mit peripheren und zentralen Magnetpolen entgegengesetzter Polarität aufweist und die an eine Quelle (34) einer Wechselspannung angeschlossen ist. Die Vorrichtung weist ferner ein Positioniermittel auf, mit dessen Hilfe ein Substrat (25) mit einer zu behandelnden Oberfläche gegen die Magnetron-Front gewandt positioniert wird, sowie ein Gaszuführungsmittel zur Zuführung eines Prozessgases oder einer Prozessgasmischung in den Zwischenraum zwischen der Magnetron-Front (20) und der zu behandelnden Oberfläche. Um ein Optimum an Prozess-Effizienz (z.B. Abscheidungsgeschwindigkeit) zu erreichen, wird der Abstand zwischen der Magnetron-Front (20) und der zu behandelnden Oberfläche an das durch die Magnetron-Elektrode ...