Настройки

Укажите год
-

Небесная энциклопедия

Космические корабли и станции, автоматические КА и методы их проектирования, бортовые комплексы управления, системы и средства жизнеобеспечения, особенности технологии производства ракетно-космических систем

Подробнее
-

Мониторинг СМИ

Мониторинг СМИ и социальных сетей. Сканирование интернета, новостных сайтов, специализированных контентных площадок на базе мессенджеров. Гибкие настройки фильтров и первоначальных источников.

Подробнее

Форма поиска

Поддерживает ввод нескольких поисковых фраз (по одной на строку). При поиске обеспечивает поддержку морфологии русского и английского языка
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Укажите год
Укажите год

Применить Всего найдено 6103. Отображено 100.
27-05-2003 дата публикации

Устройство ионизации воздуха

Номер: RU0000029806U1

Устройство ионизации воздуха, содержащее источник высокого напряжения отрицательной полярности и излучатели, подключенные к его отрицательному выходу, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит источник высокого напряжения положительной полярности и собирающий электрод, подключенный к положительному выходу источника высокого напряжения положительной полярности, отрицательный выход которого и положительный выход источника высокого напряжения отрицательной полярности имеют гальваническую связь с сетью электропитания. (19) RU (11) 29 806 (13) U1 (51) МПК H01J 27/20 (2000.01) РОССИЙСКОЕ АГЕНТСТВО ПО ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21), (22) Заявка: 2002128296/20 , 18.10.2002 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 18.10.2002 (46) Опубликовано: 27.05.2003 U 1 2 9 8 0 6 R U (54) Устройство ионизации воздуха (57) Формула полезной модели Устройство ионизации воздуха, содержащее источник высокого напряжения отрицательной полярности и излучатели, подключенные к его отрицательному выходу, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит источник высокого напряжения положительной полярности и собирающий электрод, подключенный к положительному выходу источника высокого напряжения положительной полярности, отрицательный выход которого и положительный выход источника высокого напряжения отрицательной полярности имеют гальваническую связь с сетью электропитания. Ñòðàíèöà: 1 U 1 (73) Патентообладатель(и): Общество с ограниченной ответственностью Внедренческое предприятие "Центр научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ" Казанского государственного технического университета им. А.Н. Туполева, Ганеев Фарид Ахатович, Маковеев Владимир Михайлович, Солдаткин Владимир Михайлович 2 9 8 0 6 (72) Автор(ы): Ганеев Ф.А., Маковеев В.М., Солдаткин В.М. R U Адрес для переписки: 420111, г.Казань, ул. Карла Маркса, 10, Казанский государственный технический университет им. А.Н. Туполева (71) Заявитель(и): Общество с ограниченной ...

Подробнее
20-09-2003 дата публикации

Аэроионизатор

Номер: RU0000032638U1
Автор: Штырлин А.Ф.

Аэроионизатор, содержащий воздуховод, соединенный с системой подачи воздуха, в котором установлены коронирующий игольчатый и управляющий электроды, и высоковольтный источник постоянного тока, отличающийся тем, что в воздуховоде дополнительно установлен возбуждающий электрод, выполненный в виде решетки, отверстия которой расположены коаксиально по отношению к иглам коронирующего игольчатого электрода, при этом соотношение диаметров отверстий возбуждающего электрода и игл коронирующего игольчатого электрода составляет 1-100, коронирующий игольчатый, возбуждающий и управляющий электроды соединены с отрицательными полюсами соответственно первого, второго и третьего каналов высоковольтного источника постоянного тока, положительные полюсы каналов высоковольтного источника постоянного тока заземлены, воздуховод выполнен из изолирующего материала, на выходе воздуховода установлена заземленная электропроводящая решетка. (19) RU (11) 32 638 (13) U1 (51) МПК H01J 27/20 (2000.01) РОССИЙСКОЕ АГЕНТСТВО ПО ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21), (22) Заявка: 2003113609/20 , 13.05.2003 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 13.05.2003 (46) Опубликовано: 20.09.2003 (72) Автор(ы): Штырлин А.Ф. 3 2 6 3 8 R U Формула полезной модели Аэроионизатор, содержащий воздуховод, соединенный с системой подачи воздуха, в котором установлены коронирующий игольчатый и управляющий электроды, и высоковольтный источник постоянного тока, отличающийся тем, что в воздуховоде дополнительно установлен возбуждающий электрод, выполненный в виде решетки, отверстия которой расположены коаксиально по отношению к иглам коронирующего игольчатого электрода, при этом соотношение диаметров отверстий возбуждающего электрода и игл коронирующего игольчатого электрода составляет 1-100, коронирующий игольчатый, возбуждающий и управляющий электроды соединены с отрицательными полюсами соответственно первого, второго и третьего каналов высоковольтного источника постоянного тока, ...

Подробнее
10-09-2005 дата публикации

ВАКУУМНО-ДУГОВОЙ ИСТОЧНИК ИОНОВ МЕТАЛЛОВ

Номер: RU0000048105U1

Вакуумно-дуговой источник ионов металлов, содержащий в вакуумном корпусе поворачивающийся многокатодный узел карусельного типа, полый анод с эмиссионным электродом, многоапертурную трехэлектродную систему извлечения ионного пучка, в котором использована система инициирования вакуумной дуги на основе вспомогательного разряда по поверхности диэлектрика, размещенная на опорном изоляторе, отличающийся тем, что полый анод выполнен разборным, эмиссионный электрод которого перекрыт мелкоструктурной сеткой, катододержатель снабжен экраном, защищающим от паразитных катодных пятен, а опорный изолятор выполнен керамическим. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) 48 105 (13) U1 (51) МПК H01J 27/18 (2000.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ, ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21), (22) Заявка: 2005110641/22 , 11.04.2005 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 11.04.2005 (45) Опубликовано: 10.09.2005 (73) Патентообладатель(и): Институт сильноточной электроники (RU) U 1 R U Ñòðàíèöà: 1 U 1 Формула полезной модели Вакуумно-дуговой источник ионов металлов, содержащий в вакуумном корпусе поворачивающийся многокатодный узел карусельного типа, полый анод с эмиссионным электродом, многоапертурную трехэлектродную систему извлечения ионного пучка, в котором использована система инициирования вакуумной дуги на основе вспомогательного разряда по поверхности диэлектрика, размещенная на опорном изоляторе, отличающийся тем, что полый анод выполнен разборным, эмиссионный электрод которого перекрыт мелкоструктурной сеткой, катододержатель снабжен экраном, защищающим от паразитных катодных пятен, а опорный изолятор выполнен керамическим. 4 8 1 0 5 (54) ВАКУУМНО-ДУГОВОЙ ИСТОЧНИК ИОНОВ МЕТАЛЛОВ 4 8 1 0 5 R U Адрес для переписки: 634055, г.Томск, пр. Академический, 2/3, Институт сильноточной электроники СО РАН, И.Ю. Турчановскому (72) Автор(ы): Николаев А.Г. (RU) , Окс Е.М. (RU), Савкин К.П. (RU) , Юшков Г.Ю. (RU) , Браун Я. (US) , МакГилл Р. ...

Подробнее
10-10-2006 дата публикации

ИОННЫЙ ИСТОЧНИК

Номер: RU0000057511U1

Ионный источник, содержащий соленоид и анод, отличающийся тем, что он дополнительно содержит цилиндрический магнитопровод с верхним и нижним основаниями, антикатод и изолятор, при этом в аноде, антикатоде, верхнем и нижнем основаниях магнитопровода, выполнены отверстия, анод, соленоид, изолятор и антикатод установлены в полости магнитопровода так, что анод соединен с соленоидом через изолятор, антикатод расположен на нижнем основании магнитопровода, а отверстия анода, антикатода и оснований магнитопровода расположены соосно. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) 57 511 (13) U1 (51) МПК H01J 27/04 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ, ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21), (22) Заявка: 2006119681/22 , 05.06.2006 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 05.06.2006 (45) Опубликовано: 10.10.2006 (73) Патентообладатель(и): Федеральное государственное унитарное предприятие "НПО "ОРИОН" ФГУП "НПО "ОРИОН" (RU) U 1 5 7 5 1 1 R U Ñòðàíèöà: 1 U 1 Формула полезной модели Ионный источник, содержащий соленоид и анод, отличающийся тем, что он дополнительно содержит цилиндрический магнитопровод с верхним и нижним основаниями, антикатод и изолятор, при этом в аноде, антикатоде, верхнем и нижнем основаниях магнитопровода, выполнены отверстия, анод, соленоид, изолятор и антикатод установлены в полости магнитопровода так, что анод соединен с соленоидом через изолятор, антикатод расположен на нижнем основании магнитопровода, а отверстия анода, антикатода и оснований магнитопровода расположены соосно. 5 7 5 1 1 (54) ИОННЫЙ ИСТОЧНИК R U Адрес для переписки: 111123, Москва, ш. Энтузиастов, 46/2, ФГУП "НПО "ОРИОН", патентно-лицензионный отдел (72) Автор(ы): Козлов Александр Николаевич (RU), Даниловский Андрей Евгеньевич (RU), Зайцев Андрей Иванович (RU), Смольянинов Владимир Дмитриевич (RU), Филачев Анатолий Михайлович (RU) U 1 U 1 5 7 5 1 1 5 7 5 1 1 R U R U Ñòðàíèöà: 2 RU 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 57 511 U1 Полезная модель ...

Подробнее
20-08-2008 дата публикации

ИОННОЕ УСТРОЙСТВО НАГНЕТАНИЯ ГАЗА

Номер: RU0000075789U1
Принадлежит: Войсковая часть 13991

Ионное устройство нагнетания воздушного потока, содержащее источник (излучатель) отрицательных аэроионов, отличающееся тем, что, с целью увеличения потока «стекания» зарядов, создания избыточного давления воздуха и другого газа, оно снабжено дополнительным ускоряющим электродом - разгонной сеткой, соединенной с «плюсовым» выводом умножителя напряжения. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) 75 789 (13) U1 (51) МПК H01J 27/00 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ, ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21), (22) Заявка: 2008118875/22 , 13.05.2008 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 13.05.2008 (45) Опубликовано: 20.08.2008 (73) Патентообладатель(и): Войсковая часть 13991 (RU) U 1 7 5 7 8 9 R U Ñòðàíèöà: 1 U 1 Формула полезной модели Ионное устройство нагнетания воздушного потока, содержащее источник (излучатель) отрицательных аэроионов, отличающееся тем, что, с целью увеличения потока «стекания» зарядов, создания избыточного давления воздуха и другого газа, оно снабжено дополнительным ускоряющим электродом - разгонной сеткой, соединенной с «плюсовым» выводом умножителя напряжения. 7 5 7 8 9 (54) ИОННОЕ УСТРОЙСТВО НАГНЕТАНИЯ ГАЗА R U Адрес для переписки: 164170, Архангельская обл., г. Мирный-12, в/ч 13991, зам. командира войсковой части 13991 по НИИР А.И. Шевкунову (72) Автор(ы): Гамов Владислав Юрьевич (RU), Доценко Юрий Николаевич (RU), Миленин Георгий Борисович (RU), Наврось Сергей Фомич (RU) RU 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 75 789 U1 Полезная модель относится к области электротехники, может быть использована для нагнетания газовой смеси, например воздуха, для различных целей в науке и промышленности, например, при отводе или подводе тепла. Также может быть использована для очистки и дезинфекции нагнетаемого воздуха в медицине. В современном мире достаточно остро стоит проблема отвода тепла от работающих электроприемников и механизмов. Часто тепло отводится принудительным способом с помощью различного рода ...

Подробнее
27-02-2009 дата публикации

ИСТОЧНИК ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ

Номер: RU0000081027U1

1. Источник газоразрядной плазмы, состоящий из вакуумной камеры-анода и полого цилиндрического холодного катода, помещенного в аксиальное магнитное поле, отличающийся тем, что аксиальное магнитное поле создано двумя или более магнитными катушками, расположенными на внешней поверхности полого катода. 2. Источник газоразрядной плазмы по п.1, отличающийся тем, что за счет переключения тока в магнитных катушках создается перемещающееся аксиальное магнитное поле, в максимуме которого удерживается катодное пятно. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) (13) 81 027 U1 (51) МПК H05H 1/24 (2006.01) H05H 1/00 (2006.01) H01J 27/02 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ, ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21), (22) Заявка: 2008141108/22, 16.10.2008 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 16.10.2008 (45) Опубликовано: 27.02.2009 (72) Автор(ы): Коваль Николай Николаевич (RU), Григорьев Сергей Владимирович (RU), Ахмадеев Юрий Халяфович (RU) Адрес для переписки: 634055, г.Томск, пр. Академический, 2/3, Институт сильноточной электроники СО РАН U 1 8 1 0 2 7 R U Ñòðàíèöà: 1 ru CL U 1 Формула полезной модели 1. Источник газоразрядной плазмы, состоящий из вакуумной камеры-анода и полого цилиндрического холодного катода, помещенного в аксиальное магнитное поле, отличающийся тем, что аксиальное магнитное поле создано двумя или более магнитными катушками, расположенными на внешней поверхности полого катода. 2. Источник газоразрядной плазмы по п.1, отличающийся тем, что за счет переключения тока в магнитных катушках создается перемещающееся аксиальное магнитное поле, в максимуме которого удерживается катодное пятно. 8 1 0 2 7 (54) ИСТОЧНИК ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ R U (73) Патентообладатель(и): Институт сильноточной электроники СО РАН (RU) RU 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 81 027 U1 Полезная модель относится к технике получения низкотемпературной плазмы в больших вакуумных объемах и может быть использовано для очистки, активации, ...

Подробнее
27-07-2009 дата публикации

ЭЛЕКТРОИСКРОВОЙ ИОНИЗАТОР

Номер: RU0000085262U1

Устройство для ионизации газа, в частности азота, состоящее из подводящего и отводящего газопровода, камеры с расположенными в ней электродами, блоком управления электрическими сигналами, отличающееся тем, что камера разделена на каналы по числу электродов, расположенных в каналах, а электроды функционально связаны с блоком управления. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) (13) 85 262 U1 (51) МПК H01J 27/20 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ, ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21), (22) Заявка: 2009104668/22, 11.02.2009 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 11.02.2009 (45) Опубликовано: 27.07.2009 (73) Патентообладатель(и): Открытое акционерное общество "Нижнетагильский металлургический комбинат" (ОАО "НТМК") (RU) U 1 8 5 2 6 2 R U Ñòðàíèöà: 1 ru CL U 1 Формула полезной модели Устройство для ионизации газа, в частности азота, состоящее из подводящего и отводящего газопровода, камеры с расположенными в ней электродами, блоком управления электрическими сигналами, отличающееся тем, что камера разделена на каналы по числу электродов, расположенных в каналах, а электроды функционально связаны с блоком управления. 8 5 2 6 2 (54) ЭЛЕКТРОИСКРОВОЙ ИОНИЗАТОР R U Адрес для переписки: 622025, Свердловская обл., г. Нижний Тагил, ул. Металлургов, 1, НТМК, ОРИП, и.о. начальника ОРИП, Л.Ю. Молодавкиной (72) Автор(ы): Исупов Юрий Данилович (RU), Кобзарев Владимир Леонидович (RU), Котов Владимир Геннадьевич (RU) U 1 U 1 8 5 2 6 2 8 5 2 6 2 R U R U Ñòðàíèöà: 2 RU 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 85 262 U1 Полезная модель относится к области металлургии, а именно для применения на оборудовании - для подачи газообразного азота в ковш с расплавом с целью легирования, - для подачи в ферросплавную печь с этой же целью. Может быть применена в установках по очистке дымовых промышленных газов и др. Устройства для подачи азота в расплав общеизвестны: это погружные фурмы для подачи газообразного азота в ковш с металлом, пористые ...

Подробнее
20-09-2009 дата публикации

УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОЗДАНИЯ ОДНОРОДНОЙ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ В ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ВАКУУМНЫХ КАМЕРАХ БОЛЬШИХ ОБЪЕМОВ

Номер: RU0000087065U1

1. Устройство для создания однородной газоразрядной плазмы в технологических вакуумных камерах больших объемов, содержащее вакуумную камеру - анод устройства, на одной из стенок этой камеры расположен корпус, в котором размещены электрически соединенные внутренний термоэмиссионный катод и охватывающий его полый катод, а также средство для создания в области катодов продольного магнитного поля, отличающееся тем, что полый катод имеет форму усеченного конуса, направленного своей расширенной выходной частью в вакуумную камеру. 2. Устройство для создания однородной газоразрядной плазмы по п.1, отличающееся тем, значение конусности K=(D-d)/L полого катода, определяющее соотношение между диаметрами большего D и меньшего d сечений конуса полого катода и его длиной L, лежит в диапазоне K=0,15-0,4. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) (13) 87 065 U1 (51) МПК H05H 1/24 (2006.01) H01J 27/02 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ, ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21), (22) Заявка: 2009116388/22, 29.04.2009 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 29.04.2009 (45) Опубликовано: 20.09.2009 (73) Патентообладатель(и): Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский политехнический университет" (RU) U 1 8 7 0 6 5 R U Ñòðàíèöà: 1 ru CL U 1 Формула полезной модели 1. Устройство для создания однородной газоразрядной плазмы в технологических вакуумных камерах больших объемов, содержащее вакуумную камеру - анод устройства, на одной из стенок этой камеры расположен корпус, в котором размещены электрически соединенные внутренний термоэмиссионный катод и охватывающий его полый катод, а также средство для создания в области катодов продольного магнитного поля, отличающееся тем, что полый катод имеет форму усеченного конуса, направленного своей расширенной выходной частью в вакуумную камеру. 2. Устройство для создания однородной газоразрядной плазмы по п.1, отличающееся тем, значение ...

Подробнее
27-10-2009 дата публикации

АНОД ВЫСОКОЧАСТОТНОГО ИСТОЧНИКА ИОНОВ

Номер: RU0000088208U1

1. Анод высокочастотного источника ионов, отличающийся тем, что на рабочую поверхность анода, выполненного из алюминиевого сплава, электроплазмохимически встроен диэлектрический слой. 2. Анод по п.1, отличающийся тем, что поверхность диэлектрического слоя состоит из оксида алюминия. 3. Анод по п.1, отличающийся тем, что толщина диэлектрического слоя не менее 100 мкм. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) 88 208 (13) U1 (51) МПК H01J 19/32 H01J 27/16 (2006.01) (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ, ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21), (22) Заявка: 2009126978/22, 15.07.2009 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 15.07.2009 (45) Опубликовано: 27.10.2009 U 1 8 8 2 0 8 R U Формула полезной модели 1. Анод высокочастотного источника ионов, отличающийся тем, что на рабочую поверхность анода, выполненного из алюминиевого сплава, электроплазмохимически встроен диэлектрический слой. 2. Анод по п.1, отличающийся тем, что поверхность диэлектрического слоя состоит из оксида алюминия. 3. Анод по п.1, отличающийся тем, что толщина диэлектрического слоя не менее 100 мкм. Ñòðàíèöà: 1 ru CL U 1 (54) АНОД ВЫСОКОЧАСТОТНОГО ИСТОЧНИКА ИОНОВ 8 8 2 0 8 (73) Патентообладатель(и): Общество с ограниченной ответственностью "Инновационнотехнологический центр "НАНОМЕР" (RU) R U Адрес для переписки: 142322, Московская обл., Чеховский р-н, с. Новый Быт, ул. НАТИ, 13, ООО "ИТЦ "НАНОМЕР" (72) Автор(ы): Борисов Анатолий Михайлович (RU), Васин Владимир Алексеевич (RU), Дзагуров Олег Борисович (RU), Кирикова Кира Евгеньевна (RU), Коршунов Анатолий Борисович (RU), Крит Борис Львович (RU), Людин Валерий Борисович (RU), Суминов Игорь Вячеславович (RU), Эпельфельд Андрей Валериевич (RU), Сорокин Владимир Алексеевич (RU), Францкевич Владимир Платонович (RU), Граменицкий Михаил Дмитриевич (RU), Сомов Олег Васильевич (RU) U 1 U 1 8 8 2 0 8 8 8 2 0 8 R U R U Ñòðàíèöà: 2 RU 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 88 208 U1 Полезная модель относится к ...

Подробнее
10-02-2010 дата публикации

МНОГОКАНАЛЬНЫЙ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК

Номер: RU0000091469U1

1. Многоканальный ионный источник, включающий электродную систему, содержащую катодную корпусную и анодную части, источники магнитодвижущей силы, рабочих газов и высоковольтного электропитания, обеспечивающие разряд между катодом и анодом в скрещенных продольном магнитном и поперечном электрическом полях, в котором катодная корпусная магнитопроводящая часть источника снабжена отверстиями для выхода ионов, образующихся в разряде между катодом и анодом, отличающийся тем, что катодная корпусная часть имеет концентрические вакуумные каналы с кольцевыми отверстиями для выхода ионов, анодная часть состоит из находящихся в вакуумных каналах изолированных друг от друга и от катода концентрических колец под кольцевыми отверстиями в катоде, поверхность каждого из анодных колец, обращенная к катоду, параллельна внутренней поверхности катода, перекрывает отверстие в катоде по ширине, каждое анодное кольцо подсоединено к собственному высоковольтному источнику электропитания, а каждый вакуумный канал - к собственному источнику рабочего газа таким образом, что выходящие из каналов через отверстия в катоде потоки ионов, регулируемые независимо друг от друга по электропитанию и расходу газа, складываются на выходе источника ионов и образуют единый пучок ионов. 2. Многоканальный ионный источник по п.1, отличающийся тем, что в нем катодная корпусная часть и обращенные к ней поверхности анодных колец выполнены с наклоном под углом α к выходной плоскости ионного источника при сохранении параллельности обращенных друг к другу поверхностей катода и анода. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) 91 469 (13) U1 (51) МПК H01J 27/14 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ, ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21), (22) Заявка: 2009121655/22, 08.06.2009 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 08.06.2009 (45) Опубликовано: 10.02.2010 (73) Патентообладатель(и): Закрытое акционерное общество "ЭТНА" (RU) U 1 9 1 4 6 9 R U Ñòðàíèöà: 1 ru CL U ...

Подробнее
10-05-2010 дата публикации

ИСТОЧНИК ИОНОВ С ЭЛЕКТРОННОЙ ИОНИЗАЦИЕЙ ДЛЯ МАСС-СПЕКТРОМЕТРА

Номер: RU0000094056U1

Источник ионов с электронной ионизацией для масс-спектрометра, включающий источник питания, соосно размещенные в вакуумной камере камеру ионизации, нить накала кольцевой формы и четыре плоских последовательно установленных электрода, выполненных с круглым осесимметричным отверстием каждый, расположенных на расстояниях от 3 до 5 мм друг от друга, причем первый, третий и четвертый относительно камеры ионизации электроды выполнены в виде пластин, диаметры отверстий в которых D, D и D соответственно удовлетворяют соотношениям D=1,0÷2,0 мм, D=(1,0÷1,25)D, D=0,1÷0,3 мм, а второй электрод выполнен толщиной d=2,0÷4,0 мм с отверстием диаметром D=3,5÷6,0 мм, перекрытым со стороны третьего электрода диафрагмой с отверстием диаметром D, причем нить накала расположена внутри отверстия второго электрода в параллельной ему плоскости, электрически с ним соединена и имеет диаметр кольца D=(D+0,5)÷(D-0,5), камера ионизации содержит узел десорбции исследуемого вещества, находится на расстоянии l=1,0÷3,0 мм от первого электрода и электрически с ним соединена, а источник питания выполнен с возможностью приложения разности потенциалов между первым и вторым электродами величиной, обеспечивающей ионизацию исследуемого вещества, и отношением величин разностей потенциалов между вторым и третьим электродами и третьим и четвертым электродами от 1/5 до 1/3. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) 94 056 (13) U1 (51) МПК H01J 27/22 H01J 37/08 (2006.01) (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ, ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21), (22) Заявка: 2009147762/22, 22.12.2009 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 22.12.2009 (45) Опубликовано: 10.05.2010 (73) Патентообладатель(и): Коган Виктор Тувийевич (RU), Павлов Анатолий Константинович (RU), Чичагов Юрий Витальевич (RU) U 1 9 4 0 5 6 R U Ñòðàíèöà: 1 ru CL U 1 Формула полезной модели Источник ионов с электронной ионизацией для масс-спектрометра, включающий источник питания, соосно ...

Подробнее
27-05-2012 дата публикации

УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОЗДАНИЯ ПОТОКА ПЛАЗМЫ

Номер: RU0000116687U1

Устройство для создания потока плазмы при помощи импульсного вакуумного разряда с катодным узлом, выполненным в виде сегнетокерамического диска, на заднюю поверхность которого нанесен сплошной металлический электрод, соединенный с источником инициирующего импульсного напряжения, а на передней стороне помещена металлическая сетка, играющая роль катода, напротив которой расположен анод, отличающееся тем, что металлическая сетка с помощью системы пружин плотно прижата к передней поверхности сегнетокерамического диска. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (51) МПК H01J 27/04 (11) (13) 116 687 U1 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ОПИСАНИЕ (21)(22) Заявка: ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ 2011136274/07, 31.08.2011 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 31.08.2011 (45) Опубликовано: 27.05.2012 Бюл. № 15 R U 1 1 6 6 8 7 Формула полезной модели Устройство для создания потока плазмы при помощи импульсного вакуумного разряда с катодным узлом, выполненным в виде сегнетокерамического диска, на заднюю поверхность которого нанесен сплошной металлический электрод, соединенный с источником инициирующего импульсного напряжения, а на передней стороне помещена металлическая сетка, играющая роль катода, напротив которой расположен анод, отличающееся тем, что металлическая сетка с помощью системы пружин плотно прижата к передней поверхности сегнетокерамического диска. Стр.: 1 U 1 U 1 (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОЗДАНИЯ ПОТОКА ПЛАЗМЫ 1 1 6 6 8 7 Адрес для переписки: 664003, г.Иркутск, ул. Карла Маркса, 1, ФГБОУ ВПО "ИГУ", патентный отдел (73) Патентообладатель(и): Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Иркутский государственный университет" (ФГБОУ ВПО "ИГУ") (RU) R U Приоритет(ы): (22) Дата подачи заявки: 31.08.2011 (72) Автор(ы): Горбунов Сергей Петрович (RU), Коробкин Юрий Васильевич (RU), Мяэкиви Вячеслав Витальевич (RU), Паперный Виктор Львович (RU) U 1 U 1 1 1 6 6 8 7 1 1 6 6 8 7 R U R U Стр.: 2 RU ...

Подробнее
10-09-2014 дата публикации

УСТРОЙСТВО ДЛЯ СТАЦИОНАРНОЙ ГЕНЕРАЦИИ ИОННОГО ПУЧКА БОЛЬШОЙ МОЩНОСТИ

Номер: RU0000145256U1

Устройство для стационарной генерации ионного пучка мегаваттного уровня мощности, состоящее из газоразрядной камеры, изолирующей высоковольтной конструкции и многоэлектродной ионно-оптической системы, электроды которой оборудованы каналами для охлаждения и подающими и сливными коллекторами для охлаждающей воды, отличающееся тем, что электроды ионно-оптической системы выполнены в виде многощелевой конструкции, а каналы охлаждения проложены вдоль перекладин щелей электродов. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (51) МПК H01J 27/02 (11) (13) 145 256 U1 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ОПИСАНИЕ (21)(22) Заявка: ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ 2014103202/07, 30.01.2014 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 30.01.2014 (45) Опубликовано: 10.09.2014 Бюл. № 25 1 4 5 2 5 6 R U Формула полезной модели Устройство для стационарной генерации ионного пучка мегаваттного уровня мощности, состоящее из газоразрядной камеры, изолирующей высоковольтной конструкции и многоэлектродной ионно-оптической системы, электроды которой оборудованы каналами для охлаждения и подающими и сливными коллекторами для охлаждающей воды, отличающееся тем, что электроды ионно-оптической системы выполнены в виде многощелевой конструкции, а каналы охлаждения проложены вдоль перекладин щелей электродов. Стр.: 1 U 1 U 1 (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ СТАЦИОНАРНОЙ ГЕНЕРАЦИИ ИОННОГО ПУЧКА БОЛЬШОЙ МОЩНОСТИ 1 4 5 2 5 6 Адрес для переписки: 123182, Москва, пл. Академика Курчатова, 1, НИЦ "Курчатовский институт", зам. директора Центра М.В. Попову (73) Патентообладатель(и): Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (RU), Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" (RU) R U Приоритет(ы): (22) Дата подачи заявки: 30.01.2014 (72) Автор(ы): Барсуков Александр Григорьевич (RU), Никулин Виктор Алексеевич (RU), Панасенков Александр Александрович (RU), Петров Вячеслав Сергеевич ...

Подробнее
20-10-2015 дата публикации

ИСТОЧНИК ИОНОВ

Номер: RU0000155650U1

Источник ионов, содержащий разрядную камеру, которая является анодом и имеет отверстие для входа разрядного газа и отверстие для выхода получаемых ионов, катод, магнит и ионизируемое рабочее вещество, отличающийся тем, что ионизируемое рабочее вещество выполнено в виде пластины и размещено в зоне разряда разрядной камеры источника ионов на электрически соединенной с катодом подложке из тугоплавкого материала, на стороне, которая обращена к катоду. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (51) МПК H01J 27/14 (11) (13) 155 650 U1 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ОПИСАНИЕ (21)(22) Заявка: ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ 2015120639/07, 29.05.2015 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 29.05.2015 (72) Автор(ы): Москалев Геннадий Яковлевич (RU), Федоров Дмитрий Геннадьевич (RU) (45) Опубликовано: 20.10.2015 Бюл. № 29 R U 1 5 5 6 5 0 Формула полезной модели Источник ионов, содержащий разрядную камеру, которая является анодом и имеет отверстие для входа разрядного газа и отверстие для выхода получаемых ионов, катод, магнит и ионизируемое рабочее вещество, отличающийся тем, что ионизируемое рабочее вещество выполнено в виде пластины и размещено в зоне разряда разрядной камеры источника ионов на электрически соединенной с катодом подложке из тугоплавкого материала, на стороне, которая обращена к катоду. Стр.: 1 U 1 U 1 (54) ИСТОЧНИК ИОНОВ 1 5 5 6 5 0 Адрес для переписки: 173004, г. Великий Новгород, ул. Федоровский ручей, 2/13, ОАО "ОКБ-Планета" R U (73) Патентообладатель(и): Открытое акционерное общество "ОКБПланета" ОАО "ОКБ-Планета" (RU) Приоритет(ы): (22) Дата подачи заявки: 29.05.2015 U 1 U 1 1 5 5 6 5 0 1 5 5 6 5 0 R U R U Стр.: 2 RU 5 10 15 20 25 30 35 40 45 155 650 U1 Предполагаемая полезная модель относится к ионно-плазменной технологии и может быть использована при разработке источников ионов. Известны источники ионов, в которых в разрядную камеру источника подаются газообразные соединения вещества или пары, содержащие необходимое вещество ...

Подробнее
20-12-2015 дата публикации

ИСТОЧНИК ШИРОКОПОЛОСНОГО ОПТИЧЕСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С ВЫСОКОЙ ЯРКОСТЬЮ

Номер: RU0000157892U1

1. Источник широкополосного излучения с высокой яркостью, включающий заполненную газовой средой высокого давления камеру, облучающий камеру лазер, систему фокусировки излучения лазера в камеру, отличающийся тем, что источник включает два облучающих камеру лазера и две системы фокусировки излучения с, по существу, совпадающей фокальной областью, причем угол между направлением излучения лазеров составляет не менее 60°. 2. Источник широкополосного излучения с высокой яркостью по п. 1, отличающийся тем, что по крайней мере один лазер представляет собой импульсно-периодический лазер. 3. Источник широкополосного излучения с высокой яркостью по п. 2, отличающийся тем, что скважность излучения импульсно-периодического лазера составляет не менее 2. 4. Источник широкополосного излучения с высокой яркостью по пп. 1-2, отличающийся тем, что числовая апертура систем фокусировки излучения не превышает 0,2. 5. Источник широкополосного излучения с высокой яркостью по п. 1, отличающийся тем, что источник включает элемент обратной связи по меньшей мере одного из лазеров по мощности или спектральной мощности источника широкополосного излучения. 6. Источник широкополосного излучения с высокой яркостью по п. 2, отличающийся тем, что источник включает блокиратор широкополосного излучения, синхронизированный с импульсно-периодическим лазером. И 1 157892 ко РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ 7 ВУ‘’” 157 892? 1 ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ИЗВЕЩЕНИЯ К ПАТЕНТУ НА ПОЛЕЗНУЮ МОДЕЛЬ ММ9К Досрочное прекращение действия патента из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе Дата прекращения действия патента: 17.03.2019 Дата внесения записи в Государственный реестр: 12.02.2020 Дата публикации и номер бюллетеня: 12.02.2020 Бюл. №5 Стр.: 1 па Сб ДО< | ЕП

Подробнее
27-10-2016 дата публикации

Точечный твердотельный источник ионов серебра

Номер: RU0000165683U1

1. Точечный твердотельный источник ионов серебра, отличающийся тем, что содержит твердотельный резервуар, выполненный из серебра высокой степени чистоты в виде цилиндра с заостренным окончанием, на поверхность которого нанесена тонкая пленка кристаллического твердого электролита с мобильными ионами серебра, и бесконтактный омический нагреватель, выполненный в виде керамического полого цилиндра с нагревательными элементами, расположенными на внешней поверхности цилиндра, внутри которого размещен точечный твердотельный источник ионов серебра, нагреваемый до температуры ниже температуры плавления твердого электролита.2. Точечный твердотельный источник ионов серебра по п. 1, отличающийся тем, что твердый кристаллический электролит изготовлен методом механохимического синтеза из мелкодисперсных порошков исходных материалов в планетарной мельнице при комнатной температуре.3. Точечный твердотельный источник ионов серебра по любому из пп. 1 и 2, отличающийся тем, что в качестве метода нанесения тонкой пленки кристаллического твердого электролита использован метод импульсного лазерного напыления, гарантирующий сохранение стехиометрического состава нанесенной пленки. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (51) МПК H01J 27/26 (11) (13) 165 683 U1 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ТИТУЛЬНЫЙ (21)(22) Заявка: ЛИСТ ОПИСАНИЯ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ 2016115245/07, 19.04.2016 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 19.04.2016 (72) Автор(ы): Толстогузов Александр Борисович (RU), Дягилев Александр Александрович (RU) (45) Опубликовано: 27.10.2016 Бюл. № 30 1 6 5 6 8 3 R U (57) Формула полезной модели 1. Точечный твердотельный источник ионов серебра, отличающийся тем, что содержит твердотельный резервуар, выполненный из серебра высокой степени чистоты в виде цилиндра с заостренным окончанием, на поверхность которого нанесена тонкая пленка кристаллического твердого электролита с мобильными ионами серебра, и бесконтактный омический нагреватель, ...

Подробнее
21-02-2017 дата публикации

ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЙ ДВИГАТЕЛЬ

Номер: RU0000168846U1

Полезная модель относится к ионно-плазменной технике и может быть использована при разработке источников ионов, применяемых в качестве электроракетных двигателей или устройств для ионно-плазменной обработки материалов в вакууме при решении различных технологических задач. Ионно-плазменный двигатель содержит разрядную камеру (1), стенки которой выполнены из диэлектрического материала. Подача рабочего вещества в виде смеси газов осуществляется в разрядную камеру (1) через узел подачи (2). Генерация электрического газового разряда в полости разрядной камеры (1) осуществляется с помощью индуктора (3), подключенного к высокочастотному генератору (13). В разрядной камере размещена перфорированая перегородка (10) в виде металлической сетки, которая образует выделенный объем (11) средства смешивания газов рабочего вещества. Для уменьшения потерь ионов металлическая сетка выполнена с прозрачностью не более 0,8 и соединена с положительным полюсом дополнительного источника. Для большего эффекта смешивания в выделенном объеме (11) установлен дефлектор (12). Индуктор (3) в осевом направлении размещен в пределах от сечения перфорированной перегородки до выхода из разрядной камеры. Ионно-оптическая система состоит из эмиссионного (4) и ускоряющего (5) электродов, выполненных перфорированными, с соосными отверстиями и установленных с образованием пространственного зазора в направлении ускорения ионов, и замедляющего электрода (6) в виде электропроводящего кольца. Нейтрализатор пространственного заряда выполнен в виде эмиттера электронов (8) и установлен за пределами области размещения электродов ионно-оптической системы для инжекции электронов в ускоренный поток ионов. Полезная модель позволяет при работе на смесях газов сохранить процентный состав ионов в струе по сравнению с поданным составом газов. 1 н. и 2 з.п. ф-лы, 1 ил. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) (13) 168 846 U1 (51) МПК F03H 1/00 (2006.01) H01J 27/02 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ...

Подробнее
12-04-2017 дата публикации

УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОЗДАНИЯ ПОТОКА МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПЛАЗМЫ

Номер: RU0000170029U1

Предполагаемая полезная модель относится к устройствам для создания потока металлической плазмы. Достигнутый технический эффект: возможность регулирования направленной энергии ионов потока металлической плазмы в более широком диапазоне величин без ухудшения характеристик источника, а также возможность регулирования ширины энергетического спектра ионов. Улучшение характеристик устройства для создания потока металлической плазмы достигают путем замены источника разрядного напряжения прототипа источником, который поддерживает постоянным ток разряда в диапазоне рабочих напряжений разряда. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) (13) 170 029 U1 (51) МПК H01J 27/04 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21)(22) Заявка: 2016148539, 09.12.2016 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 09.12.2016 Дата регистрации: (73) Патентообладатель(и): федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Иркутский государственный университет" (ФГБОУ ВО "ИГУ") (RU) Приоритет(ы): (22) Дата подачи заявки: 09.12.2016 (45) Опубликовано: 12.04.2017 Бюл. № 11 U 1 Problems of atomic science and technology. 2015, N1. Series: Plasma Physics (21), p. 177-180. RU 2299489C1, 20.05.2007. UA 7111C2, 15.11.2000. R U (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОЗДАНИЯ ПОТОКА МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПЛАЗМЫ (57) Реферат: Предполагаемая полезная модель относится регулирования ширины энергетического спектра к устройствам для создания потока ионов. металлической плазмы. Улучшение характеристик устройства для Достигнутый технический эффект: создания потока металлической плазмы возможность регулирования направленной достигают путем замены источника разрядного энергии ионов потока металлической плазмы в напряжения прототипа источником, который более широком диапазоне величин без ухудшения поддерживает постоянным ток разряда в характеристик источника, а также возможность диапазоне рабочих напряжений разряда. Стр.: 1 U 1 1 7 0 0 2 9 (56) Список ...

Подробнее
09-10-2017 дата публикации

ДУОПЛАЗМАТРОН ДЛЯ МАЛЫХ ДАВЛЕНИЙ РАБОЧЕГО ГАЗА

Номер: RU0000174219U1

В дуоплазматроне для малых давлений рабочего газа применен ряд физических эффектов, приводящих к уменьшению перезарядки и рассеяния ионов пучка на молекулах остаточного газа на выходе источника ионов путем более эффективного использования электронов, эмитируемых стенками в катодной полости, для ионизации газа в ней, а также к удерживанию плазмы от радиального разлета без повышения ее температуры в области экстракции ионов в пучок. Использование в данной полезной модели предложенных технических решений, как полый безнакальный катод, работающий в режиме электростатической ловушки для электронов, и установка магнитов между анодом и промежуточным электродом таким образом, чтобы они создавали в этой области мультипольное магнитное поле предложенной конфигурации, позволили реализовать изложенные выше физические эффекты и обеспечить генерацию ионных пучков с большой фазовой плотностью тока при малой величине давления рабочего газа. Дуоплазматрон для малых давлений рабочего газа отличается простотой конструкции, надежностью в работе, малым энергопотреблением и невысокой себестоимостью. 2 ил. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) (13) 174 219 U1 (51) МПК H01J 27/10 (2006.01) H01J 37/08 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (21)(22) Заявка: 2017122484, 27.06.2017 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: 27.06.2017 09.10.2017 Приоритет(ы): (22) Дата подачи заявки: 27.06.2017 (45) Опубликовано: 09.10.2017 Бюл. № 28 2170988 C2, 20.07.2001. RU 2045103 C1, 27.09.1995. WO 2014201285 A1, 18.12.2014. R U (54) ДУОПЛАЗМАТРОН ДЛЯ МАЛЫХ ДАВЛЕНИЙ РАБОЧЕГО ГАЗА (57) Реферат: В дуоплазматроне для малых давлений установка магнитов между анодом и рабочего газа применен ряд физических эффектов, промежуточным электродом таким образом, приводящих к уменьшению перезарядки и чтобы они создавали в этой области рассеяния ионов пучка на молекулах остаточного мультипольное магнитное поле предложенной газа на выходе источника ионов ...

Подробнее
28-12-2017 дата публикации

ИОННАЯ ПУШКА С ИЗМЕНЯЕМОЙ СКВАЖНОСТЬЮ ИМПУЛЬСОВ

Номер: RU0000176087U1

В ионной пушке с изменяемой скважностью импульсов положение границы плазмы в течение всего времени отбора ионов с ее поверхности не зависит от режима формирования импульсов пучков заряженных частиц. Это достигается квазинепрерывной экстракцией ионов с плазменной поверхности при помощи отдельного электрода ионно-оптической системы (ИОС) с последующей их модуляцией по времени другим электродом ИОС. Предложенный вариант экстракции заряженных частиц не приводит к осцилляции плазмы в экспандере в период между импульсами экстракции ионов и возникновению плазменных колебаний, изменяющих форму и положение плазменной поверхности относительно вытягивающего электрода в момент отбора и формирования ионных пучков, как в режиме генерации отдельных импульсных ионных пучков, так и при генерации серий коротких импульсных пучков ионов с различными частотами следования. Предложенный способ формирования импульсных ионных пучков способствует уменьшению величины фазового объема заряженных частиц на выходе ионной пушки в режимах генерации различных по длительности импульсов ионных пучков с различной частотой следования. Фокусировка ионного пучка в данной ионной пушке осуществляется путем изменения величины электрического напряжения на фокусирующем электроде, установленном на ее выходе. 1 рис. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) (13) 176 087 U1 (51) МПК H01J 27/00 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (52) СПК H01J 27/00 (2006.01) (21)(22) Заявка: 2017134302, 03.10.2017 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: Дата регистрации: 28.12.2017 Приоритет(ы): (22) Дата подачи заявки: 03.10.2017 (45) Опубликовано: 28.12.2017 Бюл. № 1 1 7 6 0 8 7 R U (56) Список документов, цитированных в отчете о поиске: RU 2231163 С2, 20.06.2004. US 20160133426 A1,12.05.2016 A1. US2006177599 A1, 10.08.2006. (54) ИОННАЯ ПУШКА С ИЗМЕНЯЕМОЙ СКВАЖНОСТЬЮ ИМПУЛЬСОВ (57) Реферат: В ионной пушке с изменяемой скважностью отбора и формирования ионных ...

Подробнее
11-05-2018 дата публикации

ДВУХСТУПЕНЧАТЫЙ ИСТОЧНИК МНОГОЗАРЯДНЫХ ИОНОВ С ЭЛЕКТРОННЫМ ЦИКЛОТРОННЫМ РЕЗОНАНСОМ

Номер: RU0000179352U1

Двухступенчатый источник многозарядных ионов с электронным циклотронным резонансом, состоящий из корпуса и вакуумного насоса, удаляющего из корпуса балластный (фоновый) газ, мишени, которая установлена в первой ступени данного источника ионов и лазера, установленного вне корпуса таким образом, что его излучение, проходя через диэлектрическое окно в корпусе, попадает на мишень в области центральной продольной оси и генерирует лазерную плазму с высокой плотностью частиц. Эта плазма, содержащая многозарядные ионы материала мишени, дрейфуя в продольном направлении с кинетической энергией ионов порядка нескольких кэВ, попадает во вторую ступень. В которой осуществляется дополнительное увеличение зарядового состояния ее ионов в результате многократной ударной ионизации их электронами, энергия (температура) которых повышена в результате электронного циклотронного резонанса. Нагрев электронов и удержание заряженных частиц плазмы во второй ступени реализуются подачей в нее СВЧ-электромагнитных колебаний по волноводу от генератора переменного СВЧ-электрического поля и наличием в ней магнитного поля сложной конфигурации с минимальной величиной на центральной продольной оси источника. Такое магнитное поле создается суперпозицией продольного, аксиально-симметричного магнитного поля, формируемого установленными на корпусе электромагнитными соленоидами, и мультипольного магнитного поля, величина которого на центральной продольной оси источника приближается к нулю и резко нарастает в пристеночной области. Это магнитное поле создается на всем протяжении второй ступени при помощи постоянных магнитов из SmCo, установленных по периметру корпуса как предложено в настоящей полезной модели. Отбор ионов из плазмы и формирование ионного пучка осуществляются при помощи электродов системы экстракции и ускорения ионов, установленных на выходе данного источника ионов. Создание на начальном этапе лазерной плазмы с большим содержанием многозарядных ионов и высокой скоростью продольного движения ...

Подробнее
05-07-2018 дата публикации

ЛАЗЕРНЫЙ ИСТОЧНИК МНОГОЗАРЯДНЫХ ИОНОВ С ЭЛЕКТРОННЫМ ЦИКЛОТРОННЫМ РЕЗОНАНСОМ

Номер: RU0000181132U1

Лазерный источник многозарядных ионов с электронным циклотронным резонансом, состоящий из корпуса с вакуумным насосом, удаляющим из корпуса балластный (фоновый) газ, лазера, установленного на корпусе, мишени, которая установлена в первой ступени данного источника ионов таким образом, что излучение лазера, проходя через мембрану в корпусе, прозрачную для лазерного излучения, попадает на мишень в области центральной продольной оси и генерирует лазерную плазму с высокой плотностью частиц. Плазма, содержащая многозарядные ионы материала мишени, дрейфуя в продольном направлении с кинетической энергией ионов порядка нескольких кэВ, попадает во вторую ступень. Во второй ступени осуществляется дополнительное увеличение зарядового состояния ионов плазмы в результате многократной ударной ионизации их электронами с энергией (температурой), увеличенной в результате электронного циклотронного резонанса. Нагрев электронов и удержание заряженных частиц плазмы во второй ступени реализуются подачей в нее СВЧ-электромагнитных колебаний по волноводу от генератора переменного СВЧ-электрического поля и наличием в ней магнитного поля сложной конфигурации с минимальной величиной на центральной продольной оси источника. Такое магнитное поле создается суперпозицией продольного, аксиально-симметричного магнитного поля, формируемого установленными на корпусе электромагнитными соленоидами, и мультипольного магнитного поля, величина которого на центральной продольной оси источника приближается к нулю и резко нарастает в пристеночной области. Это магнитное поле создается на всем протяжении второй ступени при помощи постоянных магнитов из SmCo, установленных по периметру корпуса как предложено в настоящей полезной модели. Отбор ионов из плазмы и формирование ионного пучка осуществляются при помощи электродов системы экстракции и ускорения ионов, установленных на выходе данного источника ионов. Создание на начальном этапе лазерной плазмы с большим содержанием многозарядных ионов и высокой ...

Подробнее
26-07-2018 дата публикации

Планарный ионный источник на основе твердых электролитов

Номер: RU0000181882U1

Предлагаемая полезная модель относится к области получения пучков (потоков) положительно заряженных ионов переходных металлов подгруппы меди и может быть использована в аэрокосмической технике при создании компактных электростатических ракетных двигателей, в ускорительной технике и в ионно-лучевых приборах для технологической обработки материалов. Ионные источники на основе твердых электролитов - суперионных проводников, являются принципиально новым классом приборов, отличающимся компактностью, продолжительным сроком службы и малым энергопотреблением, что особенно важно при их использовании в космических аппаратах с ограниченными бортовыми ресурсами, например, в спутниках формата CubeSat. Задачей, на решение которой направлена заявляемая полезная модель, является создание планарного твердотельного источника положительно заряженных ионов переходных металлов подгруппы меди, конструкция которого позволяет повысить эффективность работы за счет увеличения области ионной эмиссии и возможности независимого управления интенсивностью и кинетической энергией (импульсом) эмитированных ионов. Решение указанной задачи достигается тем, что такой источник содержит металлический резервуар, выполняющий роль катодного электрода и изготовленный из меди или серебра высокой степени чистоты в виде цилиндра с плоскими торцами, на один из которых нанесена тонкая пленка кристаллического твердого электролита с мобильными ионами меди или серебра, которая сверху покрыта тонким слоем пористого проводящего материала, выполняющего роль анодного электрода, и омический нагреватель, расположенный с другого торца твердотельного резервуара; изменение интенсивности и кинетической энергии (импульса) эмитированных ионов осуществляется независимо друг от друга с использованием двух регулируемых источников электрического напряжения. И 1 18188 2 ко РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ ВУ’ 184 8827 94 ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ИЗВЕЩЕНИЯ К ПАТЕНТУ НА ПОЛЕЗНУЮ МОДЕЛЬ ММ9К Досрочное прекращение ...

Подробнее
24-01-2019 дата публикации

Лазерно-плазменный инжектор ионов с динамической электромагнитной фокусировкой ионного пучка

Номер: RU0000186565U1

Предложен лазерно-плазменный инжектор ионов с динамической электромагнитной фокусировкой ионного пучка, состоящий из: лазера, световое излучение которого, попадая на мишень, образует плазму, дрейфующую в пролетном канале, мишени, пролетного канала, на выходе которого установлен датчик тока для измерения токовых и временных параметров плазмы и ионно-оптической системы (ИОС), на электродах которой существуют неизменяющиеся по величине электрические потенциалы. При этом на выходе ИОС установлена периодическая линзовая система, состоящая из трех расположенных вдоль продольной оси ионного пучка собирающих магнитных линз, выполненных в виде соленоидов с экранами. Первый соленоид, считая от ИОС, электрически подключен к генератору импульсов тока линейно изменяющейся величины, который электрически связан с лазером и датчиком тока. Датчик тока установлен в плазме на выходе пролетного канала и электрически связан с входом генератора импульсов тока линейно изменяющейся величины и установлен на выходе пролетного канала перед ИОС, которая осуществляет отбор ионов из плазмы, формирование и дальнейшее ускорение ионного пучка. Второй соленоид, считая от ИОС, электрически подключен к усилителю тока «У», который электрически связан с тем же датчиком тока. Третий, по счету от ИОС, соленоид установлен на выходе периодической линзовой системы и электрически подключен к отдельному источнику электропитания. Этот соленоид позволяет задавать требуемый угол наклона огибающей ионного пучка после компенсации его углового расхождения, связанного с нестабильностью положения плазменной границы эмиссии ионов. Предложенная конструкция позволяет непрерывно осуществлять поэтапную динамическую фокусировку экстрагированного из лазерной плазмы ионного пучка, обладающего большой кинетической энергией движения, при помощи системы отдельно взятых фокусирующих линз. Жесткость фокусировки в первых двух линзах поставлена в зависимость от скорости движения лазерной плазмы в пролетном канале и от изменения ее ...

Подробнее
16-09-2019 дата публикации

Металлический нанопринтер на основе ионного источника с твердым электролитом

Номер: RU0000192377U1

Предлагаемая полезная модель относится к области ионно-лучевых технологий и может быть использована для локального безмасочного осаждения наноразмерных металлических элементов - проводящих дорожек, контактных площадок и т.п. на поверхности различных материалов при разработке современных полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Задачей, на решение которой направлена заявляемая полезная модель, является создание нового прибора - экологически чистого («зеленого») металлического нанопринтера на основе точечного ионного источника с твердым электролитом, работающего при комнатной температуре, без применения дорогостоящего масс-сепаратора и без использования вредных металлоорганических соединений. Решение указанной задачи достигается тем, что металлический нанопринтер содержит компактный ионный источник, состоящий из твердотельного резервуара, выполненного из рабочего металла высокой степени чистоты (меди или серебра) в виде цилиндра с заостренной вершиной, на поверхность которой нанесена тонкая пленка кристаллического твердого электролита с мобильными ионами того же металла (меди или серебра), заземленный электрод-экстрактор, ускоряющий ионный пучок и направляющий его на поверхность обрабатываемой подложки, пьезоэлектрический двигатель для прецизионного перемещения подложки в двух направлениях относительно ионного источника, блоки питания ионного источника и управления пьезоэлектрическим двигателем; формирование ионного пучка, состоящего из однозарядных положительных ионов рабочего металла (меди или серебра), происходит при комнатной температуре за счет окислительно-восстановительных реакций на границе «резервуар-твердый электролит» с последующим их быстрым транспортом через электролит, полевым испарением с поверхности электролита в вакуум, ускорением внешним электрическим полем в пространстве между ионным источником и электродом-экстрактором и осаждением на поверхность подложки без дополнительной масс-сепарации ионного пучка. И 1 192377 ко РОССИЙСКАЯ ...

Подробнее
01-10-2019 дата публикации

ИМПУЛЬСНЫЙ ИСТОЧНИК ИОНОВ ПЕННИНГА

Номер: RU0000192776U1

Полезная модель относится к разделу электрических газоразрядных и вакуумных электронных приборов, а именно к приборам с ионным пучком с использованием отражательного разряда, например ионным источникам Пеннинга. Технический результат, направленный на расширение функциональных возможностей применения импульсного источника ионов Пеннинга в импульсных генераторах нейтронов на его основе путем существенного уменьшения длительности переднего фронта импульса ионного тока достигнут тем, что в известном импульсном источнике ионов Пеннинга, состоящем из блока питания, постоянного магнита и цилиндрической вакуумной камеры, внутри которой размещены полый цилиндрический анод с внешним диаметром D и внутренним диаметром D, геттер, дисковый катод, дисковый антикатод с отверстием в центре диаметром d и термокатод с внешним диаметром d, установленный на дисковом катоде, внутренняя поверхность полого цилиндрического анода имеет форму усеченного конуса с углом наклона образующей α и малым внутренним диаметром D, расположенным со стороны катода, при этом термокатод находится на расстоянии l от полого цилиндрического анода и имеет кольцевую форму с внутренним диаметром d и выполнены так, что параметры α, D, D, D, d, d, l, d определяются следующими соотношениями: 15°<α<30°; 0.6⋅D Подробнее

06-11-2019 дата публикации

Газонаполненная нейтронная трубка с инерциальным удержанием ионов

Номер: RU0000193577U1

Полезная модель относится к плазменной технике, к устройствам для генерации нейтронов и может быть использована для проведения ядерно-физических исследований, в досмотровых системах, при калибровках детекторов ионизирующих излучений и т.п. Техническим результатом является увеличение ресурса работы нейтронной трубки. Технический результат достигается тем, что газонаполненная нейтронная трубка с инерциальным удержанием ионов, содержащая первый цилиндрический изоляционный корпус, выполненный из диэлектрического материала, герметично присоединенный к его торцу первый полый торцевой электрод со сквозным отверстием, первый источник ионов Пенинга, герметично присоединенный к первому полому торцевому электроду с противоположной стороны относительно первого цилиндрического изоляционного корпуса, первый кольцевой постоянный магнит, установленный на первый источник ионов Пенинга соосно с ним и вплотную к первому полому торцевому электроду, хранилище рабочего газа, расположенное внутри первого источника ионов Пенинга, второй цилиндрический изоляционный корпус, выполненный из диэлектрического материала, второй полый торцевой электрод со сквозным отверстием, герметично присоединенный к торцу второго цилиндрического изоляционного корпуса, второй источник ионов Пенинга, герметично присоединенный ко второму полому торцевому электроду с противоположной стороны относительно второго цилиндрического изоляционного корпуса, второй кольцевой постоянный магнит, установленный на второй источник ионов Пенинга соосно с ним и вплотную ко второму полому торцевому электроду; дополнительно содержит полый ускоряющий электрод, герметично присоединенный к торцам цилиндрических изоляционных корпусов с противоположных сторон относительно полых торцевых электродов, дополнительный кольцевой постоянный магнит, установленный на полый ускоряющий электрод посередине между цилиндрическими изоляционными корпусами; цилиндрические изоляционные корпуса имеют одинаковую геометрию; полые торцевые электроды имеют ...

Подробнее
05-02-2020 дата публикации

Лазерный генератор ионов

Номер: RU0000195771U1

Полезная модель относится к области ускорительной техники и может быть использована для ускорения ионов различных элементов в ядерной энергетике и технологиях ионной имплантации. Лазерный генератор ионов характеризуется большим временем непрерывной работы и сохранением в процессе работы спектра зарядовых состояний ионов в инжектируемом пучке. Это достигается за счет многократного уменьшения напыления материалов мишени и стенок камеры взаимодействия, образующихся в результате действия на них оптического излучения лазера, на поверхности отражающих зеркал ОКГ.Оригинальность технического решения, предложенного в данной полезной модели, в том, что рабочие зеркала, отражающие и фокусирующие оптическое излучение лазера на мишень, отделены от зоны ионизации и испарения материала мишени и соединяются с этой зоной через апертуру малого диаметра только на время длительности импульса лазерного излучения. Различия в динамике процессов, связанных с кратковременностью импульса лазерного излучения и большой инерционностью разлета в пространстве твердых составляющих материала мишени, позволяют электромагнитному клапану перекрывать пропускное отверстие до момента достижения его основной массой продуктов абляции. Малые размеры апертуры пропускного отверстия, соединяющего камеру взаимодействия с установленной в ней мишенью и оптическую камеру с рабочими зеркалами, способствуют уменьшению количества материалов десорбции, проникающих из зоны ионизации в оптическую камеру. Это способствует сохранению отражающей поверхности зеркал лазерного генератора ионов в рабочем состоянии. 1 рис. РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) (13) 195 771 U1 (51) МПК H01J 27/10 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (52) СПК H01J 27/10 (2019.08) (21)(22) Заявка: 2019134674, 29.10.2019 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: Дата регистрации: 05.02.2020 Приоритет(ы): (22) Дата подачи заявки: 29.10.2019 (45) Опубликовано: 05.02.2020 Бюл. № 4 1 ...

Подробнее
08-07-2021 дата публикации

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗВЛЕЧЕНИЯ И ТРАНСПОРТИРОВКИ ИОНОВ ИЗ ПЛАЗМЫ СРЕДНЕГО ВАКУУМА

Номер: RU0000205310U1

Заявляемое техническое решение относится к области ионно-эмиссионной диагностики газоразрядной или пучковой плазмы, генерируемой при повышенных давлениях (1-100 Па) и имеющей потенциал, близкий к потенциалу земли. Сущность полезной модели заключается в том, что в известном устройстве для извлечения и транспортировки ионов из газоразрядной плазмы среднего вакуума, содержащем трубу дрейфа с малым входным отверстием, обеспечивающим перепад давления, и фокусирующий электрод, формирующий ионный поток на выходе из трубы дрейфа, внутри трубы дрейфа на половине ее длины L размещена диафрагма, изолированная от трубы дрейфа и имеющая положительный регулируемый потенциал относительно трубы дрейфа, причем диафрагма имеет центральное отверстие диаметром d, определяемое соотношением 0,7D ≤ d ≤ 0,9D, где D - внутренний диаметр трубы дрейфа. Выполнение совокупности указанных признаков позволяет достичь цели полезной модели - увеличения отношения сигнал/шум при диагностике плазмы, генерируемой в среднем вакууме. Указанная цель достигается за счет фокусировки ионного потока внутри трубы дрейфа электрическим полем положительно-смещенной относительно ее стенок одиночной линзы-диафрагмы. Сущность полезной модели иллюстрируется чертежом (см. фиг.1). Полезная модель создана в рамках выполнения Гранта Президента Российской Федерации для государственной поддержки молодых российских ученых - кандидатов наук (№ МК-154.2020.8). РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ (19) RU (11) (13) 205 310 U1 (51) МПК H01J 27/00 (2006.01) H01J 49/02 (2006.01) ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ (12) ОПИСАНИЕ ПОЛЕЗНОЙ МОДЕЛИ К ПАТЕНТУ (52) СПК H01J 49/02 (2021.05) (21)(22) Заявка: 2021112805, 30.04.2021 (24) Дата начала отсчета срока действия патента: Дата регистрации: Приоритет(ы): (22) Дата подачи заявки: 30.04.2021 (45) Опубликовано: 08.07.2021 Бюл. № 19 2 0 5 3 1 0 R U (56) Список документов, цитированных в отчете о поиске: A.V. Tyunkov, An experimental teststand for investigation of electron-beam ...

Подробнее
16-09-2021 дата публикации

СВЧ ИСТОЧНИК ИОНОВ С ЭЦР

Номер: RU0000206590U1

Полезная модель относится к области электрических газоразрядных и вакуумных электронных приборов, а именно к приборам с ионным пучком с использованием высокочастотного возбуждения, например, сверхвысокочастотного. Технический результат предлагаемой полезной модели направлен на увеличение извлекаемого из СВЧ источника ионов с ЭЦР ионного тока и его КПД за счет усиления степени согласованности между распределениями электрической компоненты СВЧ поля и внешнего магнитного поля, посредством приведения распределения магнитного поля в двух горизонтальных измерениях к форме описываемой функцией sin, противоположной форме распределения квадрата напряженности электрической компоненты СВЧ поля описываемой функцией sin, причем точный ЭЦР должен достигаться на всех коллинеарных вектору напряженности СВЧ поля стенках резонатора. Этот результат достигается тем, что в известном СВЧ источнике ионов с ЭЦР, состоящим из призматической плазменной камеры-резонатора 1 длиной l, шириной b, высотой а, СВЧ генератора на основной моде 2, устройства ввода СВЧ мощности 3, устройства напуска газа 4, экстрагирующих электродов 5, и постоянных магнитов, расположенных вокруг торцов плазменной камеры-резонатора 1, отличающимся тем, что постоянные магниты разделены на три группы, первая группа состоит из восьми основных постоянных магнитов, вторая группа состоит из четырех дополнительных постоянных магнитов и третья группа состоит из четырех вспомогательных постоянных магнитов 6, при этом, восемь основных постоянных магнитов расположены над торцевыми ребрами плазменной камеры-резонатора 1 под углом α к ее продольной оси и разделены на две подгруппы, первая подгруппа состоит из четырех основных постоянных магнитов 7, которые имеют длину b, высоту a, ширину b и расположены над горизонтальными ребрами плазменной камеры-резонатора 1, а вторая подгруппа состоит из четырех основных постоянных магнитов 8, которые имеют длину l, высоту а, ширину а и расположены над вертикальными ребрами плазменной камеры- ...

Подробнее
20-09-2012 дата публикации

Method for extending lifetime of an ion source

Номер: US20120235058A1
Принадлежит: Praxair Technology Inc

This invention relates in part to a method for preventing or reducing the formation and/or accumulation of deposits in an ion source component of an ion implanter used in semiconductor and microelectronic manufacturing. The ion source component includes an ionization chamber and one or more components contained within the ionization chamber. The method involves introducing into the ionization chamber a dopant gas, wherein the dopant gas has a composition sufficient to prevent or reduce the formation of fluorine ions/radicals during ionization. The dopant gas is then ionized under conditions sufficient to prevent or reduce the formation and/or accumulation of deposits on the interior of the ionization chamber and/or on the one or more components contained within the ionization chamber. The deposits adversely impact the normal operation of the ion implanter causing frequent down time and reducing tool utilization.

Подробнее
04-10-2012 дата публикации

Ion implantation system and method

Номер: US20120252195A1
Принадлежит: Advanced Technology Materials Inc

An ion implantation system and method, providing cooling of dopant gas in the dopant gas feed line, to combat heating and decomposition of the dopant gas by arc chamber heat generation, e.g., using boron source materials such as B2F4 or other alternatives to BF3. Various arc chamber thermal management arrangements are described, as well as modification of plasma properties, specific flow arrangements, cleaning processes, power management, eqillibrium shifting, optimization of extraction optics, detection of deposits in flow passages, and source life optimization, to achieve efficient operation of the ion implantation system.

Подробнее
18-10-2012 дата публикации

Encapsulation of Electrodes in Solid Media for use in conjunction with Fluid High Voltage Isolation

Номер: US20120261587A1
Принадлежит: FEI Co

An inductively-coupled plasma source for a focused charged particle beam system includes a conductive shield that provides improved electrical isolation and reduced capacitive RF coupling and a dielectric fluid that insulates and cools the plasma chamber. The conductive shield may be enclosed in a solid dielectric media. The dielectric fluid may be circulated by a pump or not circulated by a pump. A heat tube can be used to cool the dielectric fluid.

Подробнее
03-01-2013 дата публикации

Windowless ionization device

Номер: US20130001416A1
Принадлежит: AGILENT TECHNOLOGIES INC

An ionization device comprises: a plasma source configured to generate a plasma. The plasma comprises light, plasma ions and plasma electrons. The plasma source comprises an aperture disposed such that at least part of the light passes through the aperture and is incident on a gas sample. The ionization device further comprises an ionization region; and a plasma deflection device comprising a plurality of electrodes configured to establish an electric field, wherein the electric field substantially prevents the plasma ions from entering the ionization region.

Подробнее
21-02-2013 дата публикации

System for magnetic shielding

Номер: US20130043414A1
Автор: Alon Rosenthal
Принадлежит: Mapper Lithopraphy IP BV

The invention relates to a system for magnetically shielding a charged particle lithography apparatus. The system comprises a first chamber, a second chamber and a set of two coils. The first chamber has walls comprising a magnetic shielding material, and, at least partially, encloses the charged particle lithography apparatus. The second chamber also has walls comprising a magnetic shielding material, and encloses the first chamber. The set of two coils is disposed in the second chamber on opposing sides of the first chamber. The two coils have a common axis.

Подробнее
04-04-2013 дата публикации

Transformer-coupled rf source for plasma processing tool

Номер: US20130082599A1
Автор: Kamal Hadidi, Rajesh Dorai

A RF source and method are disclosed which inductively create a plasma within an enclosure without an electric field or with a significantly decreased creation of an electric field. A ferrite material with an insulated wire wrapped around its body is used to efficiently channel the magnetic field through the legs of the ferrite. This magnetic field, which flows between the legs of the ferrite can then be used to create and maintain a plasma. In one embodiment, these legs rest on a dielectric window, such that the magnetic field passes into the chamber. In another embodiment, the legs of the ferrite extend into the processing chamber, thereby further extending the magnetic field into the chamber. This ferrite can be used in conjunction with a PLAD chamber, or an ion source for a traditional beam line ion implantation system.

Подробнее
11-04-2013 дата публикации

GAS FIELD IONIZATION ION SOURCE, SCANNING CHARGED PARTICLE MICROSCOPE, OPTICAL AXIS ADJUSTMENT METHOD AND SPECIMEN OBSERVATION METHOD

Номер: US20130087704A1
Принадлежит: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION

A gas field ionization ion source (GFIS) is characterized in that the aperture diameter of the extraction electrode can be set to any of at least two different values or the distance from the apex of the emitter to the extraction electrode can be set to any of at least two different values. In addition, solid nitrogen is used for cooling. It may be possible to not only let divergently emitted ions go through the aperture of the extraction electrode but also, in behalf of differential pumping, reduce the diameter of the aperture. In addition, it may be possible to reduce the physical vibration of the cooling means. Consequently, it may be possible to provide a highly stable GFIS and a scanning charged particle microscope equipped with such a GFIS. 1. A gas field ionization ion source , comprising:a needle-shaped anode emitter; andan extraction electrode which forms an electric field by which gas molecules at the apex of the emitter are ionized and extracted;wherein the diameter of the extraction electrode's aperture for letting extracted ions pass therethrough can be set to any of at least two different values.2. A gas field ionization ion source , comprising:a needle-shaped anode emitter; andan extraction electrode which forms an electric field by which gas molecules at the apex of the emitter are ionized and extracted;wherein the extraction electrode can be separated into an aperture-forming part having an aperture for letting extracted ions pass therethrough, and a base part on which the aperture-forming part is mounted, andwherein the aperture-forming part can be withdrawn from and set around the optical axis of ions.3. A gas field ionization source according to wherein claim 2 , the aperture-forming part is slid with respect to the base part.4. A gas field ionization ion source claim 2 , comprising:a needle-shaped anode emitter; andan extraction electrode which forms an electric field by which gas molecules at the apex of the emitter are ionized and extracted; ...

Подробнее
02-05-2013 дата публикации

METHODS AND APPARATUS FOR DETECTING NEUTRAL CHEMICAL UNITS VIA NANOSTRUCTURES

Номер: US20130105686A1
Принадлежит:

Suspended nanotubes are used to capture and ionize neutral chemical units, such as individual atoms, molecules, and condensates, with excellent efficiency and sensitivity. Applying a voltage to the nanotube(s) (with respect to a grounding surface) creates an attractive potential between a polarizable neutral chemical unit and the nanotube that varies as 1/r2, where r is the unit's distance from the nanotube. An atom approaching the nanotube with a sub-threshold angular momentum is captured by the potential and eventually spirals towards the nanotube. The atom ionizes as in comes into close proximity with a sidewall of the nanotube, creating an ion whose polarity matches the polarity of the electric potential of the nanotube. Repulsive forces eject the ion, which can be detected more easily than a neutral chemical unit. Suspended nanotubes can be used to detect small numbers of neutral chemical units (e.g., single atoms) for applications in sensing and interferometry. 1. A method of ionizing a neutral chemical unit , the method comprising: A1) capture a neutral chemical unit at a position along a length of the nanostructure within the electric field;', 'A2) ionize the neutral chemical unit at the position along the length of the nanostructure to generate a charged chemical unit; and', 'A3) eject the charged chemical unit from the vicinity of the nanostructure., 'A) applying a charging voltage between a substantially one-dimensional nanostructure and a reference potential to create an electric field in a vicinity of the nanostructure, so as to2. The method of claim 1 , wherein A) comprises applying a charging voltage greater than about 200 V.3. The method of claim 1 , wherein A) comprises selecting the charging voltage such that the electric field is at least about 3 V/nm.4. The method of claim 1 , wherein A) comprises varying the charging voltage as a function of time.5. The method of claim 4 , further comprising detecting the charged chemical unit ejected in A3) as ...

Подробнее
09-05-2013 дата публикации

Particle sources and methods for manufacturing the same

Номер: US20130112138A1
Автор: Huarong LIU
Принадлежит: CETC 38 Research Institute

The present disclosure provides a method for manufacturing a particle source, comprising: placing a metal wire in vacuum, introducing active gas and catalyst gas, adjusting a temperature of the metal wire, and applying a positive high voltage V to the metal wire to dissociate the active gas at the surface of the metal wire, in order to generate at a peripheral surface of the head of the metal wire an etching zone in which field induced chemical etching (FICE) is performed; increasing by the FICE a surface electric field at the top of the metal wire head to be greater than the to evaporation field of the material for the metal wire, so that metal atoms at the wire apex are evaporated off; after the field evaporation is activated by the FICE, causing mutual adjustment between the FICE and the field evaporation, until the head of the metal wire has a shape of combination of a base and a tip on the base; and stopping the FICE and the field evaporation when the head of the metal wire takes a predetermine shape.

Подробнее
09-05-2013 дата публикации

AIR CONDITIONER AND ION GENERATION DEVICE

Номер: US20130112299A1
Автор: Kanazawa Yukimasa
Принадлежит: SHARP KABUSHIKI KAISHA

An ion generator is provided with a casing configured to form a flow path for air and an ion generation unit detachably disposed in the casing and configured to discharge ions into the air. The ion generation unit is provided with a front face-side ion generation section and a rear face-side ion generation section which are disposed with a spacing there between, and a connection cover section configured to connect the front face-side ion generation section and the rear face-side ion generation section. One end of the front face-side ion generation section and one end of the rear face-side ion generation section are positioned to be separated from each other in the flow path. The other end of the front face-side ion generation section and the other end of the rear face-side ion generation section are connected to each other by the connection cover section. 1. An air conditioner comprising:a main body section configured to form a flow path for air; andan ion generation device detachably disposed in said main body section and configured to discharge ions into the air circulating in said flow path, whereinsaid ion generation device is provided with a first ion generation section and a second ion generation section which are disposed with a spacing therebetween and are configured to generate ions, and a connection section configured to connect said first ion generation section and said second ion generation section; andsaid first ion generation section and said second ion generation section include one ends which are positioned to be separated from each other in said flow path and the other ends which are connected to each other by said connection section.2. The air conditioner according to claim 1 , whereinsaid main body section includes an inner wall configured to define said flow path, andsaid main body section is formed with a recess section recessed from said inner wall for housing said connection section.3. The air conditioner according to claim 2 , wherein said ...

Подробнее
09-05-2013 дата публикации

In-line corona-based gas flow ionizer

Номер: US20130112892A1
Принадлежит: ILLINOIS TOOL WORKS INC

Self-balancing, corona discharge for the stable production of electrically balanced and ultra-clean ionized gas streams is disclosed. This result is achieved by promoting the electronic conversion of free electrons into negative ions without adding oxygen or another electronegative gas to the gas stream. The invention may be used with electronegative and/or electropositive or noble gas streams and may include the use of a closed loop corona discharge control system.

Подробнее
16-05-2013 дата публикации

Methods and apparatuses for cleaning at least one surface of an ion source

Номер: US20130118523A1
Автор: John Allison
Принадлежит: Kratos Analytical Ltd

The present invention is concerned with methods and apparatus for cleaning the surface of an ion source in a mass spectrometer, for example an electrode of a MALDI ion source. The method includes directing UV light onto the surface to desorb contaminant material. The UV light source can be a laser and a moving reflecting surface can be used to direct the light on to the surface.

Подробнее
16-05-2013 дата публикации

Ion Wind Generator and Ion Wind Generating Device

Номер: US20130119264A1
Принадлежит: KYOCERA CORPORATION

Provided is an ion wind generator capable of diversifying either or both of the amount of wind or wind direction. An ion wind generator is provided with a first electrode, a second electrode having a downstream area which is arranged at a position in a plan view shifted from first electrode towards the positive side in the x direction, and a dielectric between the first electrode and the second electrode. In a plane view, the distance (d) in the x-direction from a downstream side edge of the first electrode to the downstream side edge of the downstream area differs in the y-direction which is perpendicular to the x-direction. 19-. (canceled)10. An ion wind generator comprising:a first electrode,a second electrode having a downstream area which is arranged at a position in a plan view shifted from the first electrode in a first direction, anda dielectric between the first electrode and the second electrode, wherein,in the plan view, a distance in the first direction from a downstream side edge of the first electrode to the downstream side edge of the downstream area differs in a second direction which is perpendicular to the first direction.11. The ion wind generator as set forth in claim 10 , wherein claim 10 , a length in the first direction of the downstream area is different in the second direction.12. The ion wind generator as set forth in claim 11 , wherein claim 11 , across the downstream side edge of the first electrode or the upstream side edge of the second electrode claim 11 , the downstream side part of the first electrode and the upstream side part of the second electrode overlap or are adjacent in the first direction or the distance between the two in the first direction is constant.13. The ion wind generator as set forth in claim 11 , wherein the downstream area is formed so that its length in the first direction becomes large at the center in the second direction.14. The ion wind generator as set forth in claim 12 , wherein the downstream area is ...

Подробнее
16-05-2013 дата публикации

Fabrication of super ion - electron source and nanoprobe by local electron bombardment

Номер: US20130122774A1
Автор: Moh&#39;d Rezeq

Method of fabricating super nano ion-electron source including: placing an assembly of precursor tip and metal ring around the precursor tip below the apex in a FIM chamber; applying dc current from grounded source to the metal ring to heat the ring; gradually applying high voltage to the precursor tip; wherein the metal ring is exposed to a high electric field from the tip, generating Schottky field emission of electrons from the metal ring, the applied electrical field sufficient to cause electrons to be extracted from the metal ring and accelerated to the shank with energy sufficient to dislodge atoms from the shank; and monitoring the evolution of the tip apex due to movement of dislodged atoms from the shank to the apex while adjusting the electrical field, the current or temperature of the metal ring until the apex forms a sharp nanotip with an atomic scale apex.

Подробнее
30-05-2013 дата публикации

Target for generating carbon ions and treatment apparatus using the same

Номер: US20130138184A1

Provided are a carbon ion generation target and a treatment apparatus including the same. The treatment apparatus includes a support member, a carbon ion generation target fixed to the support member, and a laser for irradiating laser beam into the carbon ion generation target to generate carbon ions from the carbon ion generation target, thereby projecting the carbon ions onto a tumor portion of a patient. Here, the carbon ion generation target includes a substrate and carbon thin films disposed on the substrate.

Подробнее
06-06-2013 дата публикации

MASS SPECTROMETER WITH SOFT IONIZING GLOW DISCHARGE AND CONDITIONER

Номер: US20130140453A1
Принадлежит: LECO Corporation

An ion source () for a mass spectrometer comprising an ionizer () receiving an ionizer gas from an ionizer gas supply (), a conditioner () in communication with the ionizer (), a reactor () in communication with the conditioner () and adapted for communication with the mass spectrometer, the reactor () adapted to receive a sample from a sample supply in communication with the reactor (), wherein the conditioner () is sized to remove fast diffusing electrons from a flow of the ionizer gas from the glow discharge ionizer () to the reactor (). 112102. An ion source ( , ) for a mass spectrometer comprising:{'b': 18', '106', '16, 'an ionizer (, ) formatted to receive an ionizer gas from an ionizer gas supply ();'}{'b': 20', '18', '106, 'a conditioner () in communication with the at least one ionizer (, ); and'}{'b': 22', '110', '20', '22', '110', '24', '20', '18', '106', '22', '110, 'a reactor (, ) in communication with the conditioner () and formatted for communication with the mass spectrometer, the reactor (, ) formatted to receive a sample from a sample supply (), wherein the conditioner () is sized to remove fast diffusing electrons from a flow of the ionizer gas between the glow discharge ionizer (, ) and the reactor (, ).'}212102201810622110. The ion source ( claim 1 , ) of claim 1 , wherein the conditioner () is sized to provide a transfer time of the gas flow from the at least one ionizer ( claim 1 , ) to the reactor ( claim 1 , ) of between about 5 ms and about 10 ms.31210220. The ion source ( claim 1 , ) of claim 1 , wherein the conditioner () comprises a tube having a length of about 15 mm and an inner diameter of about 2 mm.412102202018106. The ion source ( claim 1 , ) of claim 1 , wherein the conditioner () comprises a tube and a product of an inner diameter of the conditioner () and a pressure of the at least one ionizer ( claim 1 , ) is at least 50 mm*mbar.512102181062842. The ion source ( claim 1 , ) of claim 1 , wherein the at least one ionizer ( claim ...

Подробнее
06-06-2013 дата публикации

Automatic Control System for Selection and Optimization of Co-Gas Flow Levels

Номер: US20130140473A1
Принадлежит: Axcelis Technologies Inc

An ion implantation system for improving performance and extending lifetime of an ion source is disclosed whereby the selection, delivery, optimization and control of the flow rate of a co-gas into an ion source chamber is automatically controlled.

Подробнее
13-06-2013 дата публикации

ION GENERATING DEVICE AND ELECTRICAL APPARATUS

Номер: US20130146781A1
Принадлежит: SHARP KABUSHIKI KAISHA

An arrangement area of a transformer drive circuit, an arrangement area of a high-voltage transformer, and an arrangement area of an ion generating unit are two-dimensionally divided from each other in a casing. A connection terminal is electrically connected to the transformer drive circuit and is formed of a conductive film arranged to be exposed to the outside of the casing. Accordingly, an ion generating device whose size and thickness can be easily reduced and an electrical apparatus including the ion generating device can be provided. 1. An ion generating device comprising:a transformer drive circuit;a transformer driven by the transformer drive circuit to boost a voltage;an ion generating unit that generates either or both of positive ions and negative ions by receiving the voltage boosted by the transformer; anda casing that houses the transformer drive circuit, the transformer, and the ion generating unit,wherein an arrangement area of the transformer drive circuit, an arrangement area of the transformer, and an arrangement area of the ion generating unit are two-dimensionally divided from each other in the casing, andwherein the ion generating device further comprises a connection terminal that is electrically connected to the transformer drive circuit and formed of a conductive film arranged to be exposed to the outside of the casing.2. The ion generating device according to claim 1 , further comprising:a contact board on which the connection terminal is formed,wherein both ends of the contact board are supported by the casing so that the contact board is attached to the casing.3. The ion generating device according to claim 2 , further comprising:a drive circuit board that supports the transformer drive circuit; andan ion generating unit board that supports the ion generating unit,wherein at least one of the drive circuit board and the ion generating unit board is configured so as to support an inner surface of the contact board at a side opposite an ...

Подробнее
20-06-2013 дата публикации

NANOPOROUS VACUUM PUMP

Номер: US20130153763A1
Автор: Saint Andrew
Принадлежит: GBC SCIENTIFIC EQUIPMENT PTY. LTD.

The invention provides an element (), comprising: a nanoporous insulating film () (such as a thin nanoporous diamond film) and first and second conducting layers () on first and second opposed sides respectively of the film (). Also provided are a vacuum pump (), an ion source () and an ion trap (), each comprising such an element (). 1. A pump , comprising:a pumping element comprising: a nanoporous insulating film comprising a plurality of nanopores, and first and second conducting layers on first and second opposed sides respectively of said film; anda power supply configured to maintain a potential difference between said first and second conducting layers that produces a field ionizing electric field;wherein said pumping element supports a difference in gas pressure on said first and second conducting layers and supports field ionization by the electric field, and said electric field ionizes gas atoms or molecules in a proximity of said first conducting layer, transports said gas atoms or molecules once ionised through said first conducting layer into said nanopores, along said nanopores and through said second conducting layer.2. A pump as claimed in claim 1 , wherein the difference in gas pressure is one atmosphere.3. A pump as claimed in claim 1 , wherein said electric field is approximately 10 MV/cm.4. A pump as claimed in claim 1 , wherein the insulating film comprises a thin nanoporous diamond film or a thin nanoporous silicon nitride film.5. (canceled)6. A pump as claimed in claim 1 , wherein the first and second conducting layers comprise metallic layers or evaporatively deposited layers metallic layers.7. (canceled)8. An element as claimed in claim 1 , wherein said first and second conducting layers comprise molybdenum or gold.9. A pump as claimed in claim 1 , wherein the power supply is configured to maintain the first conducting layer at a negative potential relative to the second conducting layer.10. A pump as claimed in claim 1 , wherein the ...

Подробнее
20-06-2013 дата публикации

SYSTEM FOR FAST IONS GENERATION AND A METHOD THEREOF

Номер: US20130153783A1
Принадлежит:

The present invention discloses a system and method for generating a beam of fast ions. The system comprising: a target substrate having a patterned surface, a pattern comprising nanoscale pattern features oriented substantially uniformly along a common axis; and; a beam unit adapted for receiving a high power coherent electromagnetic radiation beam and providing an electromagnetic radiation beam having a main pulse and a pre-pulse and focusing it onto said patterned surface of the target substrate to cause interaction between said radiation beam and said substrate enabling creation of fast ions. 1. A system for generating a beam of fast ions , the system comprising:a target substrate having a patterned surface, a pattern comprising nanoscale pattern features oriented substantially uniformly along a common axis; and;a beam unit adapted for receiving a high power coherent electromagnetic radiation beam and providing an electromagnetic radiation beam having a main pulse and a pre-pulse and focusing it onto said patterned surface of the target substrate to cause interaction between said radiation beam and said substrate enabling creation of fast ions.2. The system of claim 1 , wherein when said electromagnetic radiation beam enters the focal region claim 1 , said target comprises a “burn off” layer having patterned nanoscale features in focal region claim 1 , leaving a sub-critical density plasma.3. The system of claim 1 , wherein said beam unit is configured to control an intensity of the pre-pulse to be in the range of about 10-10W/cm.4. The system of claim 1 , wherein said beam unit is configured to control the time period between the pre-pulse and the main pulse to be in the range of about 1-100 ns.5. The system of claim 1 , wherein said main pulse has duration less than or about equal to at least one of 1 ps; 0.5 ps; 0.2 ps; 0.1 ps; 0.03 ps.6. The system of claim 1 , comprising a high power coherent electromagnetic radiation source for generating said high power ...

Подробнее
27-06-2013 дата публикации

SWITCHING MICRO-RESONANT STRUCTURES BY MODULATING A BEAM OF CHARGED PARTICLES

Номер: US20130161529A1
Принадлежит: ADVANCED PLASMONICS, INC.

When using micro-resonant structures, a resonant structure may be turned on or off (e.g., when a display element is turned on or off in response to a changing image or when a communications switch is turned on or off to send data different data bits). Rather than turning the charged particle beam on and off, the beam may be moved to a position that does not excite the resonant structure, thereby turning off the resonant structure without having to turn off the charged particle beam. In one such embodiment, at least one deflector is placed between a source of charged particles and the resonant structure(s) to be excited. When the resonant structure is to be turned on (i.e., excited), the at least one deflector allows the beam to pass by undeflected. When the resonant structure is to be turned off, the at least one deflector deflects the beam away from the resonant structure by an amount sufficient to prevent the resonant structure from becoming excited. 1. A modulated electromagnetic radiation emitter , comprising:a charged particle generator configured to generate a beam of charged particles;at least one resonant structure configured to resonate at at least one resonant frequency higher than a microwave frequency when exposed to the beam of charged particles, anda director for directing the beam of charged particles away from the at least one resonant structure when the resonant structure is not to resonate.2. The emitter according to claim 1 , wherein the director is one from the group consisting of: a deflector claim 1 , a diffractor claim 1 , or an optical structure.3. The emitter according to claim 1 , wherein the director comprises at least one deflection plate between the charged particle generator and the at least one resonant structure.4. The emitter according to claim 1 , wherein the generator comprises a plurality of charged particle sources.5. The emitter according to claim 1 , wherein the at least one resonant structure comprises at least one silver- ...

Подробнее
27-06-2013 дата публикации

LASER ION SOURCE

Номер: US20130161530A1
Принадлежит: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

According to one embodiment, a laser ion source is configured to generate ions by application of a laser beam, the laser ion source including a case to be evacuated, an irradiation box disposed in the case and including a target which generates ions by irradiation of laser light, an ion beam extraction mechanism which electrostatically extracts ions from the irradiation box and guides the ions outside the case as an ion beam, a valve provided to an ion beam outlet of the case, the valve being opened at ion beam emission and being closed at other times, and a shutter provided between the valve and the irradiation box, the shutter being intermittently opened at ion beam emission and being closed at other times. 1. A laser ion source , comprising:a case to be evacuated;an irradiation box disposed in the case and comprising a target which generates ions by irradiation of laser light;an ion beam extraction mechanism which electrostatically extracts ions from the irradiation box and guides the ions outside the case as an ion beam;a valve provided to an ion beam outlet of the case, the valve being opened at ion beam emission and being closed at other times; anda shutter provided between the valve and the irradiation box, the shutter being intermittently opened at ion beam emission and being closed at other times.2. The laser ion source of claim 1 , wherein the ion beam extraction mechanism is an extraction electrode opposed to an ion ejection window of the irradiation box.3. The laser ion source of claim 1 , whereinthe laser light is intermittently emitted by pulse driving, andthe shutter is open for a predetermined period of time in synchronization with a drive pulse of the laser light.4. The laser ion source of claim 1 , whereinan exhaust outlet for vacuum evacuation of the case is provided in an upper surface of the case.5. The laser ion source of claim 4 , whereina blocking plate which covers the exhaust outlet when viewed from the irradiation box is provided at a ...

Подробнее
27-06-2013 дата публикации

ALL-OPTICAL METHOD AND SYSTEM FOR GENERATING ULTRASHORT CHARGED PARTICLE BEAM

Номер: US20130161539A1

A method for generating an ultrashort charged particle beam, comprising creating a high intensity longitudinal E-field by shaping and tightly focusing, in an on-axis geometry, a substantially radially polarized laser beam, and using the high intensity longitudinal E-field for interaction with a medium to accelerate charged particles. 1. A method for generating an ultrashort charged particle beam , comprising creating a high intensity longitudinal E-field by shaping and tightly focusing in an on-axis geometry a substantially radially polarized laser beam , and using the high intensity longitudinal E-field for interaction with a medium to accelerate charged particles.2. The method of claim 1 , comprising a) converting the polarization of a beam from a high peak power laser to a substantially radial polarization claim 1 , b) shaping and optimizing the intensity profile and wavefront of the beam; c) tight focusing the radially polarized laser beam in an on-axis geometry with a high numerical aperture optic; and d) accelerating charged particles from the medium by the resulting high intensity longitudinal E-field; in an interaction chamber.4. A system for generating ultrashort charged particle beam claim 1 , in an interaction chamber claim 1 , comprising:a laser system delivering an ultrashort pulse;a polarization converter unit converting a beam from said laser system into a substantially radially polarized laser beam;amplitude beam shaping and transport optics, shaping the substantially radially polarized laser beam;focusing optics tight-focusing the beam received from said transport optics in an on-axis geometry; anda first medium from which charged particles are accelerated by the tight-focused beam.5. The system of claim 4 , wherein said laser system provides ultrashort laser pulses.6. The system of claim 4 , wherein said polarization converter comprises one of: achromatic half wave plates; electro optical modulators claim 4 , Z-polarization plates claim 4 , mode ...

Подробнее
11-07-2013 дата публикации

TARGETS FOR GENERATING IONS AND TREATMENT APPARATUSES USING THE TARGETS

Номер: US20130178689A1

Provided is an ion beam treatment apparatus including the target. The ion beam treatment apparatus includes a substrate having a first surface and a second surface opposed to the first surface, and including a cone type hole decreasing in width from the first surface to the second surface to pass through the substrate, wherein an inner wall of the substrate defining the cone type hole is formed of a metal, an ion generation thin film attached to the second surface to generate ions by a laser beam incident into the cone type hole through the first surface and strengthen, and a laser that emits a laser beam to generate ions from the ion generation thin film and project the ions onto a tumor portion of a patient. The laser beam incident into the cone type hole is focused by the cone type hole and is strengthened. 1. An ion generation target comprising:a substrate having a first surface and a second surface opposed to the first surface, and comprising a cone type hole decreasing in width from the first surface to the second surface to pass through the substrate, wherein an inner wall of the substrate defining the cone type hole is formed of a metal; andan ion generation thin film attached to the second surface of the substrate to generate ions by means of a laser beam incident into the cone type hole through the first surface and strengthen.2. The ion generation target of claim 1 , wherein the substrate comprises a metal material.3. The ion generation target of claim 2 , wherein the metal material comprises silver claim 2 , copper claim 2 , gold claim 2 , or aluminum.4. The ion generation target of claim 1 , wherein the substrate comprises an insulating material.5. The ion generation target of claim 4 , further comprising a cone type metal thin film on an inner surface of the substrate exposed by the cone type hole.6. The ion generation target of claim 5 , wherein the cone type metal thin film comprises silver claim 5 , copper claim 5 , gold claim 5 , or aluminum.7. The ...

Подробнее
18-07-2013 дата публикации

SWITCHABLE GAS CLUSTER AND ATOMIC ION GUN, AND METHOD OF SURFACE PROCESSING USING THE GUN

Номер: US20130180844A1
Автор: BARNARD Bryan
Принадлежит:

A method of processing one or more surfaces is provided, comprising: providing a switchable ion gun which is switchable between a cluster mode setting for producing an ion beam substantially comprising ionised gas clusters for irradiating a surface and an atomic mode setting for producing an ion beam substantially comprising ionised gas atoms for irradiating a surface; and selectively operating the ion gun in the cluster mode by mass selecting ionised gas clusters using a variable mass selector thereby irradiating a surface substantially with ionised gas clusters or the atomic mode by mass selecting ionised gas atoms using a variable mass selector thereby irradiating a surface substantially with ionised gas atoms. Also provided is a switchable ion gun comprising: a gas expansion nozzle for producing gas clusters; an ionisation chamber for ionising the gas clusters and gas atoms; and a variable (preferably a magnetic sector) mass selector for mass selecting the ionised gas clusters and ionised gas atoms to produce an ion beam variable between substantially comprising ionised gas clusters and substantially comprising ionised gas atoms. Preferably, the gun comprises an electrically floating flight tube for adjusting the energy of the ions whilst within the mass selector. 1. A method of processing one or more surfaces , the method of processing comprising:providing a switchable ion gun which is switchable between a cluster mode setting for producing an ion beam substantially comprising ionised gas clusters for irradiating a surface and an atomic mode setting for producing an ion beam substantially comprising ionised gas atoms for irradiating a surface; andselectively operating the ion gun in the cluster mode by mass selecting ionised gas clusters using a variable mass selector thereby irradiating a surface substantially with ionised gas clusters, or in the atomic mode by mass selecting ionised gas atoms using the variable mass selector thereby irradiating a surface ...

Подробнее
15-08-2013 дата публикации

Laser-Ablation Ion Source with Ion Funnel

Номер: US20130207000A1

A laser-ablation ion source for generating a low energy ion beam having low longitudinal and transverse emittance, including a supersonic nozzle, followed by an RF ion funnel. A laser source generates a laser beam which is focused by a lens to an ablation site. The ablation site is located upstream of the nozzle, at a distance of less than 10 mm from the nozzle aperture. The laser irradiates the ablation site through the nozzle aperture to generate the ions.

Подробнее
22-08-2013 дата публикации

ION GENERATING DEVICE

Номер: US20130214173A1
Принадлежит:

To prevent a reduction in an amount of an ion emission while preventing generation of electromagnetic noise. A high-voltage generating circuit section that supplies a high voltage to an ion generating element that generates ions is housed in a housing, and sealed with filled resin. An emission port for emitting the generated ions is formed in the housing, and an outer surface of the housing except the emission port is covered with a shield case. A passage port communicating with the emission port is formed in the shield case. A periphery of the passage port of the shield case is covered with an electrically insulating covering sheet so that emitted ions do not adhere to the shield case. The ions emitted from the emission port do not adhere to the shield case covered with the covering sheet. 17-. (canceled)8. An ion generating device , wherein a high-voltage generating circuit section that supplies a high voltage to an ion generating element that generates ions is housed in a housing , an emission port for emitting the generated ions is formed in the housing , an outer surface of the housing except the emission port is covered with a shield case , and the shield case is covered with an insulating section so that the emitted ions do not adhere to the shield case.9. The ion generating device according to claim 8 , wherein a passage port communicating with the emission port is formed in the shield case claim 8 , and the insulating section covers a periphery of the passage port.10. The ion generating device according to claim 8 , wherein a passage port communicating with the emission port is formed in the shield case claim 8 , and an end surface of the passage port is covered with the insulating section so as not to be exposed to the emission port.11. The ion generating device according to claim 10 , wherein a rib protruding outward is formed on a peripheral edge of the emission port in the housing claim 10 , and the rib is the insulating section that covers the end ...

Подробнее
22-08-2013 дата публикации

Liquid metal ion source and secondary ion mass spectrometric method and use thereof

Номер: US20130216427A1
Принадлежит: ION TOF Tech GmbH

A liquid metal ion source for use in an ion mass spectrometric analysis method contains, on the one hand, a first metal with an atomic weight ≧190 U and, on the other hand, another metal with an atomic weight ≦90 U. One of the two types of ions are filtered out alternately from the primary ion beam and directed onto the target as a mass-pure primary ion beam.

Подробнее
29-08-2013 дата публикации

LASER ION SOURCE

Номер: US20130221234A1
Принадлежит: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

According to one embodiment, there is provided a laser ion source. The laser ion source includes a vacuum chamber which is vacuum-exhausted and in which a target is transported and set, a valve which is opened when the target is transported into the vacuum chamber and is closed except for the transportation, a target supply chamber which holds the target to be movable, and a transportation unit which transports to the vacuum chamber the target held on the target supply chamber while opening the valve after the target supply chamber is vacuum-exhausted while closing the valve. 1. A laser ion source , comprising:a vacuum chamber which is vacuum-exhausted and in which a target generating ions by irradiation of a laser beam is transported and set;a valve which is provided on a side of the vacuum chamber, and is opened when the target is transported into the vacuum chamber and is closed except for the transportation;a target supply chamber which is attached to the vacuum chamber via the valve, holds the target to be movable, and is vacuum-exhausted independently from the vacuum chamber; anda transportation unit which transports to the vacuum chamber the target held on the target supply chamber while opening the valve after the target supply chamber is vacuum-exhausted while closing the valve.2. The laser ion source according to claim 1 , wherein the transportation unit transports the target along a guide rail that is installed from the target supply chamber to the vacuum chamber and defines a transportation direction of the target.3. The laser ion source according to claim 2 , wherein the guide rail is divided at the position of the valve so as not to interrupt the opening/closing of the valve.4. The laser ion source according to claim 1 , wherein:the target supply chamber includes a target holder which holds the target, andthe transportation unit transports the target holder.5. The laser ion source according to claim 4 , wherein:the target holder includes a magnetic ...

Подробнее
05-09-2013 дата публикации

ION SOURCE

Номер: US20130228698A1
Принадлежит: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

According to one embodiments, an ion source connected with a vacuum-exhausted downstream apparatus is provided. The ion source includes a vacuum chamber which is vacuum-exhausted, a target which is set in the vacuum chamber and generates ions by irradiation of a laser beam, a transportation unit which transports the ions generated by the target to the downstream apparatus, and a vacuum sealing unit which seals the transportation unit so as to separate vacuum-conditions of the vacuum chamber side and the downstream apparatus side before exchanging the target set in the vacuum chamber. 1. An ion source connected with a downstream apparatus which is vacuum-exhausted , the ion source comprising:a vacuum chamber which is vacuum-exhausted;a target which is set in the vacuum chamber and generates ions by irradiation of a laser beam;a transportation unit which transports the ions generated by the target to the downstream apparatus; anda vacuum sealing unit which seals the transportation unit so as to separate vacuum-conditions of the vacuum chamber side and the downstream apparatus side before exchanging the target set in the vacuum chamber.2. The ion source according to claim 1 , wherein the vacuum sealing unit drives a vacuum sealing plate connected to an actuator by using the actuator to set the vacuum sealing plate at a position to seal the transportation unit.3. The ion source according to claim 1 , wherein the vacuum sealing unit linearly drives a vacuum sealing plate connected to a linear introducer by using the linear introducer to set the vacuum sealing plate at a position to seal the transportation unit.4. The ion source according to claim 1 , wherein the vacuum sealing unit rotates a vacuum sealing plate connected to a rotary introducer by using the rotary introducer to set the vacuum sealing plate at a position to seal the transportation unit.5. The ion source according to claim 1 , wherein the vacuum sealing unit closes a valve that opens/closes a flow channel ...

Подробнее
05-09-2013 дата публикации

ION SOURCE

Номер: US20130228699A1
Принадлежит: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

According to one embodiment, there is provided an ion source. The ion source includes a vacuum-exhausted vacuum chamber, a target which is set in the vacuum chamber and generates a plurality of valences of ions by irradiation of a laser beam, an acceleration electrode which is applied with voltage in order to accelerate the ions generated by the target, and an intermediate electrode which is provided between the target and the acceleration electrode and is applied with reverse voltage of the voltage applied to the acceleration electrode. 1. An ion source , comprising:a vacuum-exhausted vacuum chamber;a target which is set in the vacuum chamber and generates a plurality of valences of ions by irradiation of a laser beam;an acceleration electrode which is applied with voltage in order to accelerate the ions generated by the target; andan intermediate electrode which is provided between the target and the acceleration electrode and is applied with reverse voltage of the voltage applied to the acceleration electrode.2. The ion source according to claim 1 , wherein the intermediate electrode is applied with pulse driving voltage to transport the ion to the acceleration electrode at a timing depending on a velocity of an ion of a predetermined valence among a plurality of valences of ions generated by the target.3. The ion source according to claim 1 , further comprising:an auxiliary electrode which is installed downstream of the acceleration electrode,wherein the auxiliary electrode is applied with pulse driving voltage to transport the ions of the predetermined valence, among the ions accelerated by the acceleration electrode, downstream of the auxiliary electrode. This application is based upon and claims the benefit of priority from Japanese Patent Application No. 2012-046416, filed Mar. 2, 2012, the entire contents of which are incorporated herein by reference.Embodiments described herein relate generally to an ion source that generates an ion by irradiation of a ...

Подробнее
05-09-2013 дата публикации

METHOD AND APPARATUS FOR A POROUS ELECTROSPRAY EMITTER

Номер: US20130228700A1
Принадлежит: Massachusetts Institute of Technology

An ionic liquid ion source can include a microfabricated body including a base and a tip. The body can be formed of a porous material compatible with at least one of an ionic liquid or room-temperature molten salt. The body can have a pore size gradient that decreases from the base of the body to the tip of the body, such that the at least one of an ionic liquid or room-temperature molten salt is capable of being transported through capillarity from the base to the tip. 1. An ionic liquid ion source comprising:a body comprising a base and a tip and formed of a porous material compatible with at least one of an ionic liquid or room-temperature molten salt; andthe body having a pore size gradient that decreases from the base of the body to the tip of the body, such that the at least one of an ionic liquid or room-temperature molten salt is capable of being transported through capillarity from the base to the tip.2. The ionic liquid ion source of wherein the at least one of an ionic liquid or room-temperature molten salt is capable of being continuously transported through capillarity from the base to the tip.3. The ionic liquid ion source of wherein the body is a cylindrical needle.4. The ionic liquid ion source of wherein the body is a flat ribbon-like needle.5. The ionic liquid ion source of wherein the tip is formed by at least one of chemical wet etching claim 1 , plasma dry etching claim 1 , ion beam milling claim 1 , laser milling claim 1 , chemical vapor deposition claim 1 , physical vapor deposition claim 1 , or nano-bead deposition.6. The ionic liquid ion source of wherein the porous material comprises a dielectric material.7. The ionic liquid ion source of wherein the dielectric material comprises at least one of a ceramic material claim 6 , a glass material or other oxide material.8. The ionic liquid ion source of wherein a radius of curvature of the tip is approximately 1-20 μm.9. An ionic liquid ion source comprising:a plurality of emitters formed of a ...

Подробнее
12-09-2013 дата публикации

ION SOURCE, HEAVY PARTICLE BEAM IRRADIATION APPARATUS, ION SOURCE DRIVING METHOD, AND HEAVY PARTICLE BEAM IRRADIATION METHOD

Номер: US20130234036A1
Принадлежит: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

A laser-ablation plasma generator generates laser-ablation plasma from a target in a vacuum vessel. An ion beam extractor generates an ion beam by extracting ions included in the laser-ablation plasma from the vacuum vessel. An ion detector detects unintended ions other than intended ions, which are obtained by ionizing the elements in the target, out of ions in the vacuum vessel and outputs a detection signal representing a value which is a number of the unintended ions or a mixing ratio of the unintended ions to the intended ions as a detection result. The ion source using the laser beam makes it possible to normally monitor unintended ions other than intended ions out of ions in the vacuum vessel. 1. An ion source comprising:a laser-ablation plasma generator that generates laser-ablation plasma from a target in a vacuum vessel;an ion beam extractor that generates an ion beam by extracting ions included in the laser-ablation plasma from the vacuum vessel; andan ion detector that detects unintended ions other than intended ions, which are obtained by ionizing elements of the target, out of ions in the vacuum vessel and that outputs a detection signal representing a value which is a number of the unintended ions or a mixing ratio of the unintended ions to the intended ions as a detection result.2. The ion source according to claim 1 , wherein the ion detector detects the unintended ions by applying at least one of an electric field and a magnetic field to a portion on a surface of the target from which the laser-ablation plasma is generated and outputs the detection signal as the detection result.3. The ion source according to claim 1 , further comprising:an ion detector housing that is connected to the vacuum vessel and that houses the ion detector; andan ion-detecting gate valve that is disposed between the vacuum vessel and the ion detector housing and that is able to be opened and closed.4. The ion source according to claim 1 , further comprising an operation- ...

Подробнее
26-09-2013 дата публикации

Method and Apparatus for Actively Monitoring an Inductively-Coupled Plasma Ion Source using an Optical Spectrometer

Номер: US20130250293A1
Принадлежит: FEI Co

A method and apparatus for actively monitoring conditions of a plasma source for adjustment and control of the source and to detect the presence of unwanted contaminant species in a plasma reaction chamber. Preferred embodiments include a spectrometer used to quantify components of the plasma. A system controller is provided that uses feedback loops based on spectral analysis of the plasma to regulate the ion composition of the plasma source. The system also provides endpointing means based on spectral analysis to determine when cleaning of the plasma source is completed.

Подробнее
03-10-2013 дата публикации

TARGET FOR GENERATING ION AND TREATMENT APPARATUS USING THE SAME

Номер: US20130261369A1

Provided are an ion generation target and a treatment apparatus using the same. The treatment apparatus includes an ion generation material generating the ions by incident laser beam, the ion generation material generating a bubble having a hemispheric shape, a support supporting the bubble having the hemispheric shape, a bubble generation member for generating the bubble having the hemispheric shape on the support by using the ion generation material, and a laser radiating laser beam onto a surface of the bubble to generate ions from the ion generation material, thereby projecting the ions onto a tumor portion of a patient. 1. An ion generation target comprising:an ion generation material generating the ions by incident laser beam, the ion generation material generating a bubble having a hemispheric shape; anda support supporting the bubble having the hemispheric shape.2. The ion generation target of claim 1 , wherein the ions are protons or carbon ions.3. The ion generation target of claim 2 , wherein the ions are the protons claim 2 , and the ion generation material is water.4. The ion generation target of claim 2 , wherein the ions are the carbon ions claim 2 , and the ion generation material is oil containing a carbon component.5. The ion generation target of claim 1 , wherein the support is a transparent substrate or a ring type bubble support.6. The ion generation target of claim 1 , wherein a thickness of a membrane of the bubble is adjusted by viscosity of the ion generation material.7. The ion generation target of claim 1 , wherein the ion generation material further comprises graphene powder or graphite powder.8. An ion beam treatment apparatus comprising:an ion generation target comprising an ion generation material generating the ions by incident laser beam, the ion generation material generating a bubble having a hemispheric shape and a support supporting the bubble having the hemispheric shape;a bubble generation member for generating the bubble ...

Подробнее
10-10-2013 дата публикации

CHARGED PARTICLE EMISSION GUN AND CHARGED PARTICLE RAY APPARATUS

Номер: US20130264496A1
Автор: Arai Noriaki
Принадлежит: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION

Provided is a charged particle emission gun with which cleaning of a tip is possible without stopping the operation of the charged particle emission gun for a long time and without heating the tip. The charged particle emission gun includes a cleaning photo-irradiation apparatus that generates ultraviolet light or infrared light to irradiate a tip, and an optical fiber for guiding the ultraviolet light or the infrared light toward the tip. The cleaning photo-irradiation apparatus generates ultraviolet light or an infrared light with a predetermined wavelength and intensity to desorb a molecule adsorbed on the tip through photon stimulated desorption, or to desorb a molecule adsorbed on the tip through photon stimulated desorption and ionize the desorbed molecule. 1. A charged particle emission gun comprising:a tip;an extracting electrode having a central hole that is coaxial with the tip;an ion collector arranged between the tip and the extracting electrode, the ion collector having a central hole that is coaxial with the tip;a vacuum chamber that accommodates therein the tip, the extracting electrode, and the ion collector;a cooling apparatus for cooling the tip; anda cleaning photo-irradiation apparatus that generates ultraviolet light or infrared light to irradiate the tip.2. The charged particle emission gun according to claim 1 , wherein the cleaning photo-irradiation apparatus has an infrared laser source that generates an infrared laser ray with a peak output on the order of MW/cmand a wavelength of 1 μm or greater.3. The charged particle emission gun according to claim 1 , wherein the cleaning photo-irradiation apparatus has an ultraviolet lamp that generates ultraviolet light with a continuous spectrum of a wavelength of 400 nm or less.4. The charged particle emission gun according to claim 1 , wherein the cleaning photo-irradiation apparatus has an ultraviolet laser source that generates an ultraviolet laser ray with a pulse width on the order of ...

Подробнее
10-10-2013 дата публикации

System and method of ion neutralization with multiple-zoned plasma flood gun

Номер: US20130264498A1

An apparatus comprises a plasma flood gun for neutralizing a positive charge buildup on a semiconductor wafer during a process of ion implantation using an ion beam. The plasma flood gun comprises more than two arc chambers, wherein each arc chamber is configured to generate and release electrons into the ion beam in a respective zone adjacent to the semiconductor wafer.

Подробнее
17-10-2013 дата публикации

Use of detector response curves to optimize settings for mass spectrometry

Номер: US20130274143A1

Processes for identifying optimal mass spectrometer settings to produce the greatest confidence in sample constituent detection are provided. Data obtained on a mass spectrometer are analyzed by a quadratic variance function which accurately represents intensity variation as a variation of peak intensity. This function is then used to identify intensities that possess a minimum coefficient of variation that is useful for identifying optimal mass spectrometer settings. Inventive processes involve using a general purpose computer to identify optimal mass spectrometer settings for use in biomarker analyses, for optimizing peak detection and biomarker identification in a biological sample. The inventive processes provide for improved methods of identifying new biomarkers as well as screening subjects for the presence or absence of disease or biological condition.

Подробнее
31-10-2013 дата публикации

ION TRANSFER DEVICE

Номер: US20130284916A1
Автор: Sato Tomoyoshi
Принадлежит: ATONARP INC.

There is provided a transfer device () that transfers ionized substances in a first direction. The transfer device () includes a drift tube () and the drift tube () includes electrode plates () and () constructing an outer wall and a plurality of ring electrodes () disposed inside the tube. The ring electrodes () forms a first AC electric field for linear driving that causes the ionized substances to travel in the first direction that is the axial direction. The electrode plates () and () form an asymmetric second AC electric field that deflects the direction of travel of the ionized substances. 115-. (canceled)16. A transfer device that transfers ionized substances in a first direction , comprising:a plurality of ring-shaped first electrodes disposed in a line in the first direction, regularly reverse a direction of electric fields formed between at least some adjacent electrodes out of the plurality of first electrodes, and form a plurality of first alternating current electric field for linear driving that causes at least some of the ionized substances to travel in the first direction; anda plurality of second electrodes that are disposed outside the plurality of first electrodes, are aligned in a second direction that is perpendicular to the first direction, and form at least part of a flow path of the ionized substances, the plurality of second electrodes forming a common second alternating current electric field in a direction that is perpendicular to the plurality of first alternating current electric fields formed by the plurality of first electrodes and forming the second alternating current electric field that is asymmetric and deflects a direction of travel of the ionized substances in the second direction.17. The transfer device according to claim 16 ,wherein the plurality of second electrodes include two facing electrodes that form a cylindrical flow path and the plurality of first electrodes are disposed along a center axis of the cylindrical flow path ...

Подробнее
31-10-2013 дата публикации

TARGETS FOR GENERATING IONS AND TREATMENT APPARATUSES INCLUDING THE TARGETS

Номер: US20130289331A1

Provided are an ion generation target and a treatment apparatus including the target. The treatment apparatus includes a grid having a net shape of nano wires, an ion generation thin film attached to a side of the grid and generating ions by means of an incident laser beam, and a laser for emitting a laser beam into the nano wire of the grid to generate ions from the ion generation thin film and project the ions onto a tumor portion of a patient. The laser beam emitted into the nano wire forms a near field, the intensity of which is higher than that of the laser beam through a nanoplasmonics phenomenon, and the near field emits the ions from the ion generation thin film. 1. An ion generation target comprising;a grid having a net shape of nano wires; andan ion generation thin film attached to a side of the grid and generating ions by means of an incident laser beam.2. The ion generation target of claim 1 , wherein the ion is a proton or a carbon ion.3. The ion generation target of claim 2 , wherein the ion is the proton claim 2 , and the ion generation thin film is formed of a material comprising hydrogen.4. The ion generation target of claim 3 , wherein the material comprising hydrogen is a silicon nitride claim 3 , a silicon oxide claim 3 , or a metal.5. The ion generation target of claim 2 , wherein the ion is the carbon ion claim 2 , and the ion generation thin film comprises graphene.6. The ion generation target of claim 1 , wherein the grid comprises silver claim 1 , copper claim 1 , gold claim 1 , or aluminum.7. The ion generation target of claim 1 , wherein the grid has a line width ranging from tens to hundreds nanometers.8. The ion generation target of claim 1 , further comprising a peripheral frame surrounding a periphery of the grid claim 1 ,wherein the ion generation thin film is attached to the peripheral frame.9. An ion beam treatment apparatus comprising:{'claim-ref': {'@idref': 'CLM-00001', 'claim 1'}, 'the ion generation target of ; and'}a laser for ...

Подробнее
14-11-2013 дата публикации

Etch remnant removal

Номер: US20130298942A1
Принадлежит: Applied Materials Inc

Methods of removing residual polymer from vertical walls of a patterned dielectric layer are described. The methods involve the use of a gas phase etch to remove the residual polymer without substantially disturbing the patterned dielectric layer. The gas phase etch may be used on a patterned low-k dielectric layer and may maintain the low dielectric constant of the patterned dielectric layer. The gas phase etch may further avoid stressing the patterned low-k dielectric layer by avoiding the use of liquid etchants whose surface tension can upset delicate low-K features. The gas phase etch may further avoid the formation of solid etch by-products which cars also deform the delicate features.

Подробнее
14-11-2013 дата публикации

APPARATUSES FOR GENERATING PROTON BEAM

Номер: US20130299716A1

Provided is an apparatus for generating a proton beam, which includes a laser system providing a laser pulse, a target generating a proton beam by using the laser pulse, and a phase conversion plate disposed between the laser system as a light source and the target to convert the laser pulse into a circularly polarized laser pulse having a spiral shape. 1. An apparatus for generating a proton beam , comprising:a laser system providing a laser pulse;a target generating a proton beam by using the laser pulse; anda phase conversion plate disposed between the laser system, the phase conversion plate circularly polarizing the laser pulse in a spiral shape.2. The apparatus of claim 1 , wherein the phase conversion plate comprises a plurality of sectors divided from a circle.3. The apparatus of claim 2 , wherein the sectors comprise first to nquarter wave plates.4. The apparatus of claim 3 , wherein the first to nquarter wave plates comprise crystal quartz that shows birefringence about the laser pulse.5. The apparatus of claim 3 , wherein the first to nquarter wave plates have thicknesses that gradually increase in a rotation direction on the circle.6. The apparatus of claim 5 , wherein each of second to nsectors of the sectors has a thickness corresponding to a multiple of the thickness of the first quarter wave plate.7. The apparatus of claim 1 , wherein the phase conversion plate comprises a plurality of sub sector blocks arrayed in a circular shape.8. The apparatus of claim 7 , wherein each of the sub sector blocks comprises a plurality of sub quarter wave plates.9. The apparatus of claim 1 , wherein the phase conversion plate comprises inner phase conversion plates arrayed in a circular shape claim 1 , and outer phase conversion plates surrounding the inner phase conversion plates.10. The apparatus of claim 9 , wherein the inner phase conversion plates comprise a plurality of inner quarter wave plates.11. The apparatus of claim 9 , wherein the outer phase conversion ...

Подробнее
14-11-2013 дата публикации

ION GENERATOR

Номер: US20130299717A1
Автор: FUKADA Yoshinari
Принадлежит: KOGANEI CORPORATION

In an ion generator, a flexible discharge electrode composed of one wire is provided to a base , and a turning motion of a free end of the discharge electrode about a fixed end of the discharge electrode is performed by repulsive force of a corona discharge generated by supplying a high voltage to the fixed end . Therefore, in comparison with a discharge electrode composed of a bundle of thin wires, it is possible to significantly reduce dust emission from the free end of the discharge electrode , and to further improve the ion generator in maintenance interval. Since the discharge electrode is compose of one wire, it is possible to reduce the discharge electrode in size, easily observe the state of the discharge electrode , and simplify its maintenance. Since the discharge electrode performs a turning motion, it is possible to transport the generated air ions EI to a wide area of a packaging film , and to enhance ionizing efficiency. 1. An ion generator comprising a flexible discharge electrode which is composed of one wire , and which has a fixed end and a free end ,wherein a turning motion of the free end about the fixed end is performed by repulsive force of a corona discharge generated by supplying a high voltage to the fixed end.2. The ion generator according to claim 1 , further comprising a turning-motion control member for controlling a turning motion of the discharge electrode.3. The ion generator according to claim 1 , wherein the discharge electrode is set to 100 micrometers or less in diameter size.4. The ion generator according to claim 1 , wherein the discharge electrode is formed of titanium alloy. The present invention relates to an ion generator for generating air ions which are used for neutralizing and eliminating static electricity from an electrically-charged object such as for example a jig for assembling electronic parts, and a packaging film made of plastic material.When a packaging film made of plastic material, a jig for assembling ...

Подробнее
21-11-2013 дата публикации

Method and apparatus for cleaning residue from an ion source component

Номер: US20130305989A1
Принадлежит: Axcelis Technologies Inc

Some techniques disclosed herein facilitate cleaning residue from a molecular beam component. For example, in an exemplary method, a molecular beam is provided along a beam path, causing residue build up on the molecular beam component. To reduce the residue, the molecular beam component is exposed to a hydro-fluorocarbon plasma. Exposure to the hydro-fluorocarbon plasma is ended based on whether a first predetermined condition is met, the first predetermined condition indicative of an extent of removal of the residue. Other methods and systems are also disclosed.

Подробнее
28-11-2013 дата публикации

EXCITED GAS INJECTION FOR ION IMPLANT CONTROL

Номер: US20130313443A1

An ion source includes an ion chamber housing defining an ion source chamber, the ion chamber housing having a side with a plurality of apertures. The ion source also includes an antechamber housing defining an antechamber. The antechamber housing shares the side with the plurality of apertures with the ion chamber housing. The antechamber housing has an opening to receive a gas from a gas source. The antechamber is configured to transform the gas into an altered state having excited neutrals that is provided through the plurality of apertures into the ion source chamber. 1. An ion source comprising:an ion chamber housing defining an ion source chamber, the ion chamber housing having a side with a plurality of apertures; andan antechamber housing defining an antechamber, the antechamber housing sharing the side with the plurality of apertures with the ion chamber housing, the antechamber housing having an opening to receive a gas from a gas source, wherein the antechamber is configured to transform the gas into an altered state comprising excited neutrals that is provided through the plurality of apertures into the ion source chamber.2. The ion source of claim 1 , further comprising a source magnet positioned proximate the ion source chamber housing and the antechamber housing claim 1 , the source magnet configured to provide a magnetic field for both the ion source chamber and the antechamber.3. The ion source of claim 1 , wherein the ion source chamber comprises a first cathode configured to emit electrons into the ion source chamber that interacts with the gas in the altered state to generate plasma in the ion source chamber.4. The ion source of claim 3 , wherein the antechamber comprises a second cathode configured to emit electrons into the antechamber that interact with the gas to transform the gas into the altered state.5. The ion source of claim 1 , wherein the plurality of apertures has a quantity and dimension to enable the antechamber to operate over an ...

Подробнее
05-12-2013 дата публикации

ALIGNMENT OF AN ATOM BEAM WITH AN ELECTRIC FIELD IN THE PRODUCTION OF A CHARGED PARTICLE SOURCE

Номер: US20130320202A1

A method for aligning the axis of an atom beam with the orientation of an electric field at a particular location within an enclosure for use in creating a charged particle source by photoionizing a cold atom beam. The method includes providing an atom beam in the enclosure, providing a plurality of electrically conductive devices in said enclosure, evacuating the enclosure to a pressure below about 10millibar, and aligning the axis of the atom beam with the orientation of the electric field, relative to each other, within less than about two degrees. Alignment may be facilitated by applying at least one voltage to the electrically conductive devices, mechanically tilting the atom beam's axis orientation of the electric field relative to each other and/or causing a deflection of the atom beam. 1. A method for aligning the axis of an atom beam with the orientation of an electric field at a particular location within an enclosure for use in a system for creating a charged particle source by photoionizing a cold atom beam , the method comprising:providing, by an atom beam creation device, an atom beam in the enclosure;providing a plurality of electrically conductive devices in said enclosure;providing an electric field;{'sup': '−6', 'evacuating the enclosure to a pressure below about 10millibar; and'}aligning the axis of the atom beam and the orientation of the electric field, at an angle relative to each other, within less than about two degrees.2. The method of claim 1 , wherein the electric field is generated by applying at least one voltage to the plurality of electrically conductive devices.3. The method of claim 2 , wherein the aligning step includes:adjusting the mechanical tilt of the plurality of electrically conductive devices until the atom beam axis and electric field are substantially aligned.4. The method of claim 2 , wherein the aligning step includes:adjusting the mechanical tilt of all or a portion of the atom beam creation device until the atom beam ...

Подробнее
05-12-2013 дата публикации

IMAGING AND PROCESSING FOR PLASMA ION SOURCE

Номер: US20130320229A1
Принадлежит: FEI COMPANY

Applicants have found that energetic neutral particles created by a charged exchange interaction between high energy ions and neutral gas molecules reach the sample in a ion beam system using a plasma source. The energetic neutral create secondary electrons away from the beam impact point. Methods to solve the problem include differentially pumped chambers below the plasma source to reduce the opportunity for the ions to interact with gas. 1. A charged particle beam system comprising:a plasma chamber for containing a plasma;a source electrode for biasing the plasma to a voltage of at least 10,000 V;an extraction electrode for extracting ions from the plasma chamber;a focusing lens for focusing the ions into a beam directed toward the work piece;a sample chamber for containing a work piece, the sample chamber connected to a vacuum pump; anda first intermediary vacuum chamber connected at one end to the plasma chamber and at the other end through a differential pumping aperture to the sample chamber or to one or more additional intermediary vacuum chamber, the first intermediary vacuum chamber connected to a vacuum pump, the first and the one or more additional intermediary vacuum chamber or chambers reducing the collision of the ion beam with neutral gas particles, thereby reducing the creation of energetic neutral particles that impact the work piece.2. The charged particle beam system of further comprising at least one additional intermediary vacuum chamber between the first intermediary vacuum chamber and the sample chamber claim 1 , each of the at least one additional intermediary vacuum chambers connected to a vacuum pump and separated from the preceding and succeeding chambers by differential pumping apertures.3. The charged particle beam system of in which each of the additional intermediary vacuum chamber has a lower pressure than the immediately preceding intermediary vacuum chamber.4. The charged particle beam system of in which each of the additional ...

Подробнее
12-12-2013 дата публикации

ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE ION SOURCE DEVICE

Номер: US20130327954A1

An electron cyclotron resonance ion source device includes a plasma chamber configured to contain a plasma; a high-frequency system configured to transmit a high-frequency wave into the chamber; a magnetic field generator configured to generate a magnetic field in the chamber; an accelerating tube including an isolating structure and an extraction system, the magnetic field generator for generating a magnetic field being entirely located downstream of the isolating structure. 1. An electron cyclotron resonance ion source device comprising:a plasma chamber configured to contain plasma;a magnetic field generator configured to generate a magnetic field in the plasma chamber, the plasma chamber being at a first potential, the magnetic field generator being at a second potential,a high-frequency system configured to propagate a high-frequency wave into the plasma chamber,an isolating structure including an upstream end that is at the first potential and a downstream end that is at the second potential, the magnetic field generator being arranged downstream from the isolating structure.2. The device according to claim 1 , wherein the isolating structure is disposed around at least one part of the high frequency system.3. The device according to claim 1 , comprising an evacuation sleeve disposed between the magnetic field generator and the isolating structure.4. The device according to claim 1 , comprising an extraction system capable of forming an ion beam at the outlet of the plasma chamber.5. The device according to claim 4 , wherein the extraction system is arranged downstream from the plasma chamber.6. The device according to claim 1 , wherein the plasma chamber includes a downstream side that is perforated by an outlet opening claim 1 , the extraction system comprising a first electrode disposed along the downstream side of the plasma chamber.7. The device according to claim 1 , wherein at least one part of the high frequency system is at the first potential.8. The ...

Подробнее
19-12-2013 дата публикации

ION GENERATION DEVICE

Номер: US20130336838A1
Принадлежит:

The present invention provides methods and systems for an ion generation device that includes an elongate housing having a back portion and a pair of side portions extending from the back portion and forming a cavity therein. A conductive portion is disposed within the cavity and connected to a power supply for providing power to the conductive portion. A plurality of tines are engaged to the conductive portion. 1. An ion generation device , comprising:an elongate housing having a back portion and a pair of side portions extending from the back portion and forming a cavity therein;a conductive portion disposed within the cavity and connected to a power supply for providing voltage to the conductive portion; anda plurality of tines engaged to the conductive portion.2. The ion generation device of claim 1 , further comprising an extrusion disposed within the cavity of the housing.3. The ion generation device of claim 1 , wherein the plurality of tines are composed of a polypropylene impregnated with carbon.4. The ion generation device of claim 1 , wherein the tines are composed of a homopolypropylene impregnated with carbon.5. The ion generation device of claim 1 , further comprising an extrusion composed of UL V0 rated plastic having a hollow interior portion for receiving the power supply and conductive portion.6. The ion generation device of claim 1 , further comprising a shelf positioned on the inner portion of each side portion of the housing for receiving a first rib of the extrusion.7. The ion generation device of claim 1 , wherein the tines are spaced an equal distance apart along the length of the conductive portion.8. An ion generation device claim 1 , comprising:an elongate housing having a back portion and a pair of side portions having an interior portion and exterior portion and extending generally perpendicularly from the back portion and forming a cavity therein;an extrusion disposed within the cavity of the housing and having a hollow for receiving a ...

Подробнее
26-12-2013 дата публикации

IONIZATION METHOD, MASS SPECTROMETRY METHOD, EXTRACTION METHOD, AND PURIFICATION METHOD

Номер: US20130341279A1
Принадлежит:

To achieve soft ionization more easily when a slight amount of substance is ionized under an atmosphere pressure. An ionization method for a substance contained in a liquid, including: supplying the liquid to a substrate from a probe and forming a liquid bridge made of the liquid containing the substance dissolved therein, between the probe and the substrate; oscillating the probe; and generating an electric field between an electrically conductive portion of the probe in contact with the liquid and an ion extraction electrode. 1. An ionization method for a substance contained in a liquid , comprising:(i) supplying the liquid onto a substrate from a probe and forming a liquid bridge made of the liquid containing the substance, between the probe and the substrate; and(ii) generating an electric field between an electrically conductive portion of the probe in contact with the liquid and an ion extraction electrode.2. The ionization method according to claim 1 , wherein one end of the probe is oscillated in a direction that intersects with an axis of the probe.3. The ionization method according to claim 1 , wherein a position of the one end of the probe is different between the (i) supplying and forming and the (ii) generating.4. The ionization method according to claim 1 , wherein claim 1 , in the (ii) generating claim 1 , the liquid forms a Taylor cone at an end of the probe.5. The ionization method according to claim 1 , wherein claim 1 , in the (ii) generating claim 1 , part of the liquid escapes as charged droplets from the end.6. The ionization method according to claim 5 , wherein the charged droplets escape from the Taylor cone.7. The ionization method according to claim 5 , wherein the charged droplets cause a Rayleigh fission.8. The ionization method according to claim 1 , wherein the probe includes a plurality of flow paths.9. The ionization method according to claim 1 , wherein the probe includes a protrusion.10. The ionization method according to claim 9 , ...

Подробнее
09-01-2014 дата публикации

NANOPHOTONIC PRODUCTION, MODULATION AND SWITCHING OF IONS BY SILICON MICROCOLUMN ARRAYS

Номер: US20140008528A1
Принадлежит: The George Washington University

The production and use of silicon microcolumn arrays that harvest light from a laser pulse to produce ions are described. The systems of the present invention seem to behave like a quasi-periodic antenna array with ion yields that show profound dependence on the plane of laser light polarization and the angle of incidence. By providing photonic ion sources, this enables enhanced control of ion production on a micro/nano scale and direct integration with miniaturized analytical devices. 1. A mass spectrometry system for controlling fragmentation and ion production from a sample , the system comprising:a pulsed laser source;a polarizer capable of plane polarizing radiation from the laser source and rotating the angle of plane polarized radiation from the laser source between an angle of s-polarized radiation and an angle of p-polarized radiation;an array for receiving the sample, the array being made from a semiconductor material and having quasi-periodic columnar structures; anda mass spectrometer for detecting ions formed from the sample;wherein when the radiation from the pulsed laser source is rotated so that when the angle of the plane polarization of the laser source approaches the angle of p-polarized radiation, the fragmentation and ion production from the sample is increased, and when the angle of the plane polarization of the laser source approaches the angle of s-polarized radiation, the fragmentation and ion production from the sample is decreased.2. The system of claim 1 , wherein the semiconductor material is selected from the group consisting of: p-type or n-type silicon claim 1 , germanium and gallium arsenide at various doping levels.3. The system of claim 1 , wherein the array is a laser-induced silicon microcolumn array.4. The system of claim 3 , wherein the columnar structures have a height of about 1 to 5 times the wavelength of the radiation claim 3 , a diameter equal to about one wavelength of the radiation claim 3 , and a lateral periodicity of ...

Подробнее
09-01-2014 дата публикации

METHOD AND SUBSTRATES FOR FORMING CRYSTALS

Номер: US20140008546A1
Принадлежит: SONY DADC AUSTRIA AG

A structured substrate is described which is suitable for forming and hosting a crystal array, as well as associated methods for making and using such a structured substrate. The structured substrate is made by injection molding and has on one side a combination of macro- and micro-structured features. Each macro-structured feature comprises an edge that forms a perimeter around an enclosed area containing a large number of the micro-structured features. When a droplet of a solution containing molecules of interest and a solvent is deposited onto one of the enclosed areas such that it extends somewhat beyond the perimeter, the droplet slowly dries and shrinks through evaporation of the solvent, during which the edge acts to seed crystallization of the molecules, and the micro-structured features act to direct crystal growth from the seed into the enclosed area. The crystal thus forms over the whole of the enclosed area in a shape that conforms to the perimeter. Crystals of a desired size and shape can therefore be formed. 1. A method of forming a crystal array on a structured substrate comprising:providing a structured substrate having on one side a combination of macro-structured features and micro-structured features, each macro-structured feature comprising an edge that forms a perimeter around an enclosed area containing a large number of the micro-structured features;depositing on one of the enclosed areas a droplet of a solution containing molecules of interest and a solvent, wherein the volume of the solution deposited is controlled to ensure the droplet initially overfills the enclosed area to extend laterally beyond the perimeter onto adjacent surface portions;forming a crystal substantially confined to the enclosed area by allowing the droplet to dry and shrink through evaporation of the solvent, during which the edge acts to seed crystallization of the molecules at one or more locations on the perimeter and the micro-structured features act to direct ...

Подробнее
09-01-2014 дата публикации

LOW TEMPERATURE PLASMA PROBE AND METHODS OF USE THEREOF

Номер: US20140011282A1
Принадлежит: PURDUE RESEARCH FOUNDATION

The present invention generally relates to a low temperature plasma probe for desorbing and ionizing at least one analyte in a sample material and methods of use thereof. In one embodiment, the invention generally relates to a low temperature plasma probe including: a housing having a discharge gas inlet port, a probe tip, two electrodes, and a dielectric barrier, in which the two electrodes are separated by the dielectric barrier, in which application of voltage from a power supply generates a low temperature plasma, and in which the low temperature plasma is propelled out of the discharge region by the electric field and/or the discharge gas flow. 160-. (canceled)61. A low temperature plasma probe , the probe comprising:a hollow body having an open distal end;a discharge gas inlet port coupled to the body such that gas may be injected through the port and into the body; andan electrode at least partially disposed within the body; wherein the probe is configured such that injected gas interacts with the electrode to form a low temperature plasma that is ejected from the distal end of the body.62. The probe according to claim 61 , wherein the electrode is axially centered within the distal end of the body.63. The probe according to claim 61 , further comprising a power supply.64. The probe according to claim 61 , wherein a discharge gas is supplied to the probe through the discharge gas inlet port.65. The probe according to claim 61 , wherein the discharge gas assists in propelling the low temperature plasma out of the probe tip.66. The probe according to claim 61 , wherein the discharge gas is nitrogen.67. The probe according to claim 61 , wherein the probe is operably coupled to a sample stage such that low temperature plasma generated by the probe is directed from the probe to interact with a sample on the sample stage.68. The probe according to claim 66 , wherein a mass analyzer is located distal the sample stage to receive ions generated by the interaction of ...

Подробнее
30-01-2014 дата публикации

Systems and Methods Extending the Laserspray Ionization Mass Spectrometry Concept from Atmospheric Pressure to Vacuum

Номер: US20140027631A1
Автор: Trimpin Sarah
Принадлежит: WAYNE STATE UNIVERSITY

Disclosed herein are systems and methods that allow analysis of macromolecular structures using laserspray ionization at intermediate pressure or high vacuum using commercially available mass spectrometers with or without modification and with the application of heat. The systems and methods produce multiply-charged ions for improved analysis in mass spectrometry. 1. A method of producing multiply-charged analyte ions from a matrix/analyte association comprisingcontacting the matrix/analyte association with a force that generates transfer and receipt of charge between the matrix and analyte;allowing the matrix/analyte association to enter the gas phase of an ion source of a mass spectrometer wherein the gas phase comprises an intermediate pressure zone or a high vacuum zone such that the matrix/analyte association is exposed to a decrease in pressurethereby producing the multiply-charged analyte ions.2. A method of wherein the gas phase comprises an intermediate pressure zone with a pressure from about 10Torr to about 200 Torr.3. A method of wherein the gas phase comprises a high vacuum zone with a pressure from about 10Torr to about 10Torr.4. A method of wherein the method further comprises heating an ionization region comprising a sample stage on which the matrix/analyte association is contacted with the force.5. A method of wherein the force is a laser beam.6. A method of wherein the laser beam contacts the matrix/analyte association through transmission geometry or through reflection geometry.7. A method of wherein the matrix is an organic composition that comprises a compound of Scheme 1.8. A method of wherein the analyte is an intact claim 1 , enzymatically digested claim 1 , oxidized claim 1 , acetylated claim 1 , methylated claim 1 , sulfonated claim 1 , or phosphorylated protein or peptide.9. A method of wherein the oxidation claim 8 , acetylation or phosphorylation of the protein or peptide is indicative of a disease state.10. A method of wherein the ...

Подробнее
13-02-2014 дата публикации

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ION SOURCE WITH MULTIPLE ANTENNAS FOR WIDE ION BEAM

Номер: US20140042337A1

A wide ion beam source includes a plurality of RF windows arranged in a predetermined relationship, a single plasma chamber disposed on a first side of the plurality of RF windows, a plurality of RF antennas, each RF antenna of the plurality of RF antennas disposed on a second side of a respective RF window of the plurality of RF windows, the second side being opposite the first side, and a plurality of RF sources, each RF source coupled to a respective RF antenna of the plurality of RF antennas, wherein a difference in frequency of a first RF signal produced by a first RF source coupled to a first RF antenna from that of a second RF signal produced by a second RF source coupled to an RF antenna adjacent to the first RF antenna is greater than 10 kHz. 1. A wide ion beam source comprising:a plurality of RF windows arranged in a predetermined relationship;a single plasma chamber disposed on a first side of the plurality of RF windows;a plurality of RF antennas, each RF antenna of the plurality of RF antennas disposed on a second side of a respective RF window of the plurality of RF windows, the second side being opposite the first side; anda plurality of RF sources, each RF source coupled to a respective RF antenna of the plurality of RF antennas, wherein a difference in frequency of a first RF signal produced by a first RF source coupled to a first RF antenna from that of a second RF signal produced by a second RF source coupled to an RF antenna adjacent to the first RF antenna is greater than 10 kHz.2. The wide ion beam source of claim 1 , wherein the difference in frequency is less than 100 kHz.3. The wide ion beam source of claim 1 , wherein the difference in frequency of the first RF signal produced by the first RF source from that of the second RF signal produced by the second RF source is at least 5% and less than 1.0%.4. The wide ion beam source of claim 1 , wherein an end-to-end dimension of the plurality of RF windows is at least two meters.5. The wide ion ...

Подробнее
27-02-2014 дата публикации

METHOD AND APPARATUS FOR A POROUS ELECTROSPRAY EMITTER

Номер: US20140054809A1
Принадлежит: Massachusetts Institute of Technology

An ionic liquid ion source can include a microfabricated body including a base and a tip. The body can be formed of a porous material compatible with at least one of an ionic liquid or room-temperature molten salt. The body can have a pore size gradient that decreases from the base of the body to the tip of the body, such that the at least one of an ionic liquid or room-temperature molten salt is capable of being transported through capillarity from the base to the tip. 1. A method of forming one or more emitter bodies made of porous ceramic xerogel comprising:preparing a gel solution comprising a solvent, an acidic aluminum salt, a polymer, and a proton scavenger;providing a mold for one or more emitter bodies, each emitter body of the one or more emitter bodies comprising a base and a tip;pouring the gel solution into the mold;drying the gel solution in the mold to form the one or more emitter bodies made from the porous ceramic xerogel.2. The method of further comprising:mixing aluminum chloride hexahydrate, polyethylene oxide, water, ethanol, and propylene oxide to form the gel solution.3. The method of further comprising:mixing 1 part by mass of polyethylene oxide, 50 parts by mass water, 54.4 parts by mass ethanol, 54.4 parts by mass propylene oxide, and 54 parts by mass of aluminum chloride hexahydrate to form the gel solution.4. The method of further comprising:forming the mold from one or more of polydimethylsiloxane (PDMS), polytetrafluoroethylene (PTFE), polymers, fluoropolymers, paraffin wax, silica, glass, aluminum, and stainless steel.5. The method of claim 1 , wherein the porous ceramic xerogel is alumina xerorgel.6. The method of claim 1 , wherein the porous ceramic xerogel comprises pores approximately 3-5 μm in diameter.7. A method of forming one or more emitter bodies made from porous ceramic material comprising:preparing a slurry of at least silica, water, and a ceramic component;providing a mold for one or more emitter bodies, each emitter body ...

Подробнее
06-03-2014 дата публикации

SILICON-CONTAINING DOPANT COMPOSITIONS, SYSTEMS AND METHODS OF USE THEREOF FOR IMPROVING ION BEAM CURRENT AND PERFORMANCE DURING SILICON ION IMPLANTATION

Номер: US20140061501A1
Принадлежит:

A novel composition, system and method thereof for improving beam current during silicon ion implantation are provided. The silicon ion implant process involves utilizing a first silicon-based co-species and a second species. The second species is selected to have an ionization cross-section higher than that of the first silicon-based species at an operating arc voltage of an ion source utilized during generation and implantation of active silicon ions species. The active silicon ions produce an improved beam current characterized by maintaining or increasing the beam current level without incurring degradation of the ion source when compared to a beam current generated solely from SiF4. 1. A dopant gas composition comprising:a silicon-based dopant gas composition comprising a first silicon-based species and a second species, wherein said second species is selected to have a ionization cross-section higher than that of the first silicon-based species at an operating arc voltage of an ion source utilized during generation and implantation of active silicon ions;wherein said silicon-based dopant gas composition improves the ion beam current so as to maintain or increase beam current without degradation of said ion source in comparison to a beam current generated from silicon tetrafluoride (SiF4).2. The dopant gas composition of claim 1 , wherein said first silicon-based species is selected from the group consisting of SiH2Cl2 claim 1 , Si2H6 claim 1 , SiH4 SiF2H2 claim 1 , SiF4 and any combination thereof.3. The dopant composition of claim 1 , wherein said first silicon-based species is SiF4.4. The dopant composition of claim 1 , wherein said first silicon-based species is SiF4 and the second species is disilane (S2H6).5. The dopant composition of claim 4 , wherein said S2H6 has a concentration of less than 50% based on the overall volume of said composition.6. The dopant composition of claim 5 , wherein said S2H6 has a concentration of about 10% or less.7. A system ...

Подробнее
06-03-2014 дата публикации

Ion generation method and ion source

Номер: US20140062286A1
Автор: Masateru Sato
Принадлежит: SEN Corp

An ion generation method uses a direct current discharge ion source provided with an arc chamber formed of a high melting point material, and includes: generating ions by causing molecules of a source gas to collide with thermoelectrons in the arc chamber and producing plasma discharge; and causing radicals generated in generating ions to react with a liner provided to cover an inner wall of the arc chamber at least partially. The liner is formed of a material more reactive to radicals generated as the source gas is dissociated than the material of the arc chamber.

Подробнее
06-03-2014 дата публикации

SYSTEMS AND METHODS FOR MONITORING FAULTS, ANOMALIES, AND OTHER CHARACTERISTICS OF A SWITCHED MODE ION ENERGY DISTRIBUTION SYSTEM

Номер: US20140062495A1
Принадлежит: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.

Systems, methods and apparatus for regulating ion energies in a plasma chamber and chucking a substrate to a substrate support are disclosed. An exemplary method includes placing a substrate in a plasma chamber, forming a plasma in the plasma chamber, controllably switching power to the substrate so as to apply a periodic voltage function (or a modified periodic voltage function) to the substrate, and modulating, over multiple cycles of the periodic voltage function, the periodic voltage function responsive to a defined distribution of energies of ions at the surface of the substrate so as to effectuate the defined distribution of ion energies on a time-averaged basis. 1. A system for monitoring of a plasma processing chamber , the system comprising:a plasma processing chamber configured to contain a plasma;a substrate support positioned within the plasma processing chamber and disposed to support a substrate,an ion-energy control portion, the ion-energy control portion provides at least one ion-energy control signal responsive to at least one ion-energy distribution setting that is indicative of a desired ion energy distribution at the surface of the substrate;a switch-mode power supply coupled to the substrate support and the ion-energy control portion, the switch-mode power supply including one or more switching components configured to apply power to the substrate as a periodic voltage function;an ion current compensation component coupled to the substrate support, the ion current compensation component adding an ion compensation current to the periodic voltage function to form a modified periodic voltage function; anda controller coupled to the substrate support, the controller determining an ion current in the plasma processing chamber from the ion compensation current and comparing the ion current to a reference current waveform.2. The system of claim 1 , wherein the controller compares the modified periodic voltage function to a reference voltage waveform.3. ...

Подробнее
13-03-2014 дата публикации

Advanced penning ion source

Номер: US20140070701A1
Принадлежит: UNIVERSITY OF CALIFORNIA

This disclosure provides systems, methods, and apparatus for ion generation. In one aspect, an apparatus includes an anode, a first cathode, a second cathode, and a plurality of cusp magnets. The anode has a first open end and a second open end. The first cathode is associated with the first open end of the anode. The second cathode is associated with the second open end of the anode. The anode, the first cathode, and the second cathode define a chamber. The second cathode has an open region configured for the passage of ions from the chamber. Each cusp magnet of the plurality of cusp magnets is disposed along a length of the anode.

Подробнее
20-03-2014 дата публикации

ION GENERATION APPARATUS AND ELECTRIC EQUIPMENT USING THE SAME

Номер: US20140077701A1
Автор: Nishida Hiromu
Принадлежит: SHARP KABUSHIKI KAISHA

In this ion generation apparatus, an induction electrode is formed on a surface of a first printed substrate, a hole is opened on the inside of the induction electrode, a needle electrode is mounted on a second printed substrate, and a tip end portion of the needle electrode is inserted in the hole. Therefore, even if the ion generation apparatus is placed in a high-humidity environment with dust accumulating on the first and the second printed substrates, the ion generation apparatus can prevent a current from leaking between the needle electrode and the induction electrode. 1. An ion generation apparatus generating ions including an induction electrode and a needle electrode , comprising:a first substrate having a hole opened therein; anda second substrate provided to face one surface of said first substrate,said induction electrode being provided around said hole in said first substrate,said needle electrode having a base end portion provided in said second substrate, and a tip end portion inserted in said hole.2. The ion generation apparatus according to claim 1 , further comprising a lid member provided to cover another surface of said first substrate and having a cylindrical boss at a position corresponding to said hole claim 1 , whereinsaid boss is inserted in said hole, and said needle electrode is inserted in said boss.3. The ion generation apparatus according to claim 2 , wherein the tip end portion of said needle electrode penetrates through said boss and protrudes from said lid member.4. The ion generation apparatus according to claim 1 , wherein said induction electrode is annularly formed around said hole in said first substrate.5. The ion generation apparatus according to claim 1 , whereinsaid first substrate is a printed substrate, andsaid induction electrode is formed of a wiring layer of said printed substrate.6. Electric equipment claim 1 , comprising:{'claim-ref': {'@idref': 'CLM-00001', 'claim 1'}, 'the ion generation apparatus according to ; ...

Подробнее
27-03-2014 дата публикации

Cluster beam generating apparatus, substrate processing apparatus, cluster beam generating method, and substrate processing method

Номер: US20140083976A1
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd

A cluster beam generating method that generates a cluster beam includes steps of mixing a gas source material and a liquid source material in a mixer; supplying a cluster beam including clusters originating from the gas source material and clusters originating from the liquid source material that are mixed in the mixer from a nozzle; and adjusting a temperature of the nozzle using a temperature adjusting portion that adjusts a temperature of the nozzle, thereby controlling a ratio of the clusters originating from the gas source material and the clusters originating from the liquid source material in the cluster beam.

Подробнее
27-03-2014 дата публикации

Matrix Assisted Laser Desorption Ionisation Mass Spectrometry Imaging (MALDI-MSI)

Номер: US20140084151A1
Принадлежит: SHEFFIELD HALLAM UNIVERSITY

A method of preparing a sample for matrix assisted laser desorption ionisation mass spectrometry imaging analysis by a two-step process. Firstly, a MALDI matrix is dusted on to the sample followed by a spray of a suitable solvent onto the dusted sample. The present method has been successfully applied to the detection and mapping of several analyte classes in latent fingermarks. Using the present two-step method, fingermark enhancement, recovery and analysis from different substrate surfaces is now possible enabling visual and chemical information to be obtained simultaneously via remote testing. 1. A method of preparing a matrix assisted laser desorption ionisation mass spectrometry imaging (MALDI-MSI) sample comprising:dusting a sample with a MALDI-MSI matrix powder;removing excess matrix powder from the sample;spraying the dusted sample with a solvent in which both the matrix powder and the sample are soluble.2. The method as claimed in wherein the sample is a fingermark.3. The method as claimed in further comprising lifting the sample from a surface upon which the sample is deposited using an adhesive backed strip claim 2 , pad or tape.4. The method as claimed in wherein the strip claim 3 , pad or tape is crime scene investigation (CSI) tape.5. The method as claimed in wherein the step of spraying the dusted sample comprises spraying the sample adhered to the strip claim 4 , pad or tape with the solvent.6. The method as claimed in further comprising introducing the lifted sample on the strip claim 5 , pad or tape into a MALDI mass spectrometer with imaging capabilities.7. The method as claimed in further comprising obtaining at least one image of the sample by MALDI-MSI.8. The method as claimed in wherein a particle size of the matrix powder is in the range 5 μm to 120 μm.9. The method as claimed in wherein a particle size of the matrix powder is in the range 10 μm to 30 μm.10. The method as claimed in wherein the matrix is an absorber of UV radiation and/or ...

Подробнее
10-04-2014 дата публикации

Method and apparatus for thermal control of ion sources and sputtering targets

Номер: US20140099782A1
Автор: Neil J. Bassom

A method and apparatus are disclosed for controlling a semiconductor process temperature. In one embodiment a thermal control device includes a heat source and a housing comprising a vapor chamber coupled to the heat source. The vapor chamber includes an evaporator section and a condenser section. The evaporator section has a first wall associated with the heat source, the first wall having a wick for drawing a working fluid from a lower portion of the vapor chamber to the evaporator section. The condenser section coupled to a cooling element. The vapor chamber is configured to transfer heat from the heat source to the cooling element via continuous evaporation of the working fluid at the evaporator section and condensation of the working fluid at the condenser section. Other embodiments are disclosed and claimed.

Подробнее
05-01-2017 дата публикации

ION GENERATOR MOUNTING DEVICE

Номер: US20170000921A1
Принадлежит: Global Plasma Solutions, LLC

The present invention provides methods and systems for an ion generator mounting device for application of bipolar ionization to airflow within a conduit, the device includes a housing for mounting to the conduit having an internal panel within the enclosure, and an arm extending from the housing for extension into the conduit and containing at least one opening. At least one coupling for mounting an ion generator to the arm oriented with an axis extending between a pair of electrodes of the ion generator being generally perpendicular to a flow direction of the airflow within the conduit. 1. An ion generator mounting device , comprising: 'a base,', 'a housing comprising [ 'at least one opening within the housing;', 'a top portion; and'}, 'a retention means extending outwardly from the housing; and', 'at least one coupling for mounting the ion generator., 'a first and second pair of spaced-apart, opposed sidewalls projecting from the base to collectively form an interior storage compartment and to define an upper edge;'}2. The ion generator mounting device of claim 1 , further comprising an ion generator disposed within the interior storage compartment.3. The ion generator mounting device of claim 1 , further comprising an ion generator containing at least one electrode for dispersing ions from the ion generator that is disposed within the interior storage compartment claim 1 , whereby at least one electrode is disposed adjacent that at least one opening.4. The ion generator mounting device of claim 1 , further comprising a power supply.5. The ion generator mounting device of claim 1 , further comprising a switch.6. The ion generator mounting device of claim 1 , further comprising a retention means disposed on one of the sidewalls and extending therefrom.7. The ion generator mounting device of claim 1 , further comprising an indicator disposed on the housing.8. An ion generator mounting device claim 1 , comprising:an elongate arm, comprising a first side and a second ...

Подробнее
07-01-2016 дата публикации

Apparatus For Dynamic Temperature Control Of An Ion Source

Номер: US20160005564A1
Принадлежит:

An apparatus for controlling the temperature of an ion source is disclosed. The ion source includes a plurality of walls defining a chamber in which ions are generated. To control the temperature of the ion source, one or more heat shields is disposed exterior to the chamber. The heat shields are made of high temperature and/or refractory material designed to reflect heat back toward the ion source. In a first position, these heat shields are disposed to reflect a first amount of heat back toward the ion source. In a second position, these heat shields are disposed to reflect a lesser second amount of heat back toward the ion source. In some embodiments, the heat shields may be disposed in one or more intermediate positions, located between the first and second positions. 1. An apparatus comprising:an ion source having a plurality of walls defining a chamber; anda movable heat shield disposed outside the chamber and proximate at least one of the walls, where the movable heat shield has a first position where a first amount of heat is reflected back toward the chamber and a second position where a second amount of heat is reflected back toward the chamber, the second amount of heat being less than the first amount of heat.2. The apparatus of claim 1 , wherein the plurality of walls comprises a bottom wall claim 1 , a top wall with an aperture claim 1 , two end walls and two side walls claim 1 , where a cathode is disposed proximate one of the two end walls claim 1 , and wherein the movable heat shield is disposed proximate one of the two end walls.3. The apparatus of claim 2 , wherein the movable heat shield moves in a direction parallel to a plane of a first of the two end walls and in the first position claim 2 , the movable heat shield overlaps a portion of a first end wall claim 2 , and in the second position claim 2 , the movable heat shield overlaps a smaller portion of the first end wall.4. The apparatus of claim 2 , wherein the movable heat shield rotates ...

Подробнее
13-01-2022 дата публикации

SINGLE BEAM PLASMA SOURCE

Номер: US20220013324A1
Автор: FAN Qi Hua

A single beam plasma or ion source apparatus, including multiple and different power sources, is provided. An aspect of the present apparatus and method employs simultaneous excitation of an ion source by DC and AC, or DC and RF power supplies. Another aspect employs an ion source including multiple magnets and magnetic shunts arranged in a generally E cross-sectional shape. 1. An ion source apparatus comprising:(a) an anode comprising at least one magnetic conductor and an open plasma area being located within a hollow central area of the anode;(b) a cathode comprising a cap having an outlet opening therethough;(c) a direct current power source connected to the anode;(d) an alternating current or radio frequency power source connected to the anode; and(e) ionization operably occurring within the plasma area inside the anode at least partially due to excitation by the direct and alternating current power sources.2. The apparatus of claim 1 , wherein the at least one magnetic conductor comprises multiple magnets or magnetic shunts which create a magnetic flux with a central dip in an open space wherein the plasma is created.3. The apparatus of claim 2 , wherein the magnets or magnetic shunts are arranged in a substantially E cross-sectional shape claim 2 , and with a body or the cap of the cathode being a magnetic metal.4. The apparatus of claim 1 , wherein:the cap of the cathode is magnetic and removable;the cap is isolated from a body of the anode which surrounds the at least one magnetic conductor of the anode; andan ion source discharge voltage is between 1-10 volts.5. The apparatus of claim 1 , further comprising:a sputtering source acted upon by ions emitted through the outlet opening; anda vacuum chamber within which is located the anode and the cathode, the chamber having an operating pressure of 1 mTorr to 500 mTorr.6. The apparatus of claim 1 , further comprising ions emitted through the outlet opening performing cleaning or evaporation deposition of thin ...

Подробнее
04-01-2018 дата публикации

Vaporizer For Ion Source

Номер: US20180005793A1
Принадлежит:

A vaporizer with several novel features to prevent vapor condensation and the clogging of the nozzle is disclosed. The vaporizer is designed such that there is an increase in temperature along the path that the vapor travels as it flows from the crucible to the arc chamber. The vaporizer uses a nested architecture, where the crucible is installed within an outer housing. Vapor leaving the crucible exits through an aperture and travels along the volume between the crucible and the outer housing to the nozzle, where it flows to the arc chamber. In certain embodiments, the aperture in the crucible is disposed at a location where liquid in the crucible cannot reach the aperture. 1. A vaporizer , comprising:a crucible in which a dopant material may be disposed, having an aperture passing through a sidewall of the crucible;an outer housing surrounding the crucible;a vapor channel disposed between the outer housing and the crucible, wherein the aperture is in communication with the vapor channel; anda gas nozzle attached to one end of the outer housing in communication with the vapor channel.2. The vaporizer of claim 1 , wherein the crucible and the outer housing are concentric cylinders.3. The vaporizer of claim 1 , comprising a heat source disposed outside of the outer housing.4. The vaporizer of claim 1 , comprising a heat source embedded in the outer housing.5. The vaporizer of claim 1 , wherein a temperature in the vapor channel is greater than a temperature in the crucible.6. The vaporizer of claim 1 , wherein the aperture is disposed in a location so that liquid in the crucible cannot reach the aperture.7. The vaporizer of claim 1 , wherein vapor travels in a path from the crucible through the aperture into the vapor channel and to the gas nozzle claim 1 , and wherein a temperature is increasing as the vapor flows along the path from the aperture to the gas nozzle.8. The vaporizer of claim 1 , comprising a spacer disposed between the crucible and the outer housing ...

Подробнее
07-01-2021 дата публикации

GeH4/Ar Plasma Chemistry For Ion Implant Productivity Enhancement

Номер: US20210005416A1
Принадлежит:

A method for improving the beam current for certain ion beams, and particularly germanium and argon, is disclosed. The use of argon as a second gas has been shown to improve the ionization of germane, allowing the formation of a germanium ion beam of sufficient beam current without the use of a halogen. Additionally, the use of germane as a second gas has been shown to improve the beam current of an argon ion beam. 1. A method of generating an argon ion beam , comprising:introducing germane and argon into an ion source;ionizing the germane and argon to form a plasma; andextracting argon ions from the ion source to form the argon ion beam, wherein a flow rate of germane is between 0.35 and 1.00 sccm.2. The method of claim 1 , wherein the ion source comprises an indirectly heated cathode ion source.3. The method of claim 1 , wherein the ion source comprises an RF ion source.4. The method of claim 1 , wherein the ion source comprises a Bernas source claim 1 , a capacitively coupled plasma source claim 1 , an inductively coupled source claim 1 , or a microwave coupled plasma source.5. The method of claim 1 , wherein no halogen gasses are introduced into the ion source.6. The method of claim 1 , wherein the ion source is a component of a beam-line implantation system.7. A method of generating an argon ion beam claim 1 , comprising:introducing germane and argon into an ion source;ionizing the germane and argon to form a plasma; and extracting argon ions from the ion source to form the argon ion beam,wherein a flow rate of germane is such that a beam current of the argon ion beam is increased at least 10% relative to an argon ion beam generated without use of germane at a same extraction current.8. The method of claim 7 , wherein a flow rate of germane is such that a beam current of the argon ion beam is increased at least 15% relative to the argon ion beam generated without use of germane at a same extraction current.9. The method of claim 7 , wherein no halogen gasses ...

Подробнее
04-01-2018 дата публикации

ION TO NEUTRAL CONTROL FOR WAFER PROCESSING WITH DUAL PLASMA SOURCE REACTOR

Номер: US20180005852A1
Принадлежит:

The disclosed techniques relate to methods and apparatus for etching a substrate. A plate assembly divides a reaction chamber into a lower and upper sub-chamber. The plate assembly includes an upper and lower plate having apertures therethrough. When the apertures in the upper and lower plates are aligned, ions and neutral species may travel through the plate assembly into the lower sub-chamber. When the apertures are not aligned, ions are prevented from passing through the assembly while neutral species are much less affected. Thus, the ratio of ion flux:neutral flux may be tuned by controlling the amount of area over which the apertures are aligned. In certain embodiments, one plate of the plate assembly is implemented as a series of concentric, independently movable injection control rings. Further, in some embodiments, the upper sub-chamber is implemented as a series of concentric plasma zones separated by walls of insulating material. 1. A plate assembly for a reaction chamber comprising a plasma source , the plate assembly comprising:a first plate; anda second plate comprising at least two substantially concentric plate sections that are independently rotatable with respect to the first plate, wherein the first plate and second plate have apertures extending through the thickness of each plate, and wherein the first plate and second plate are substantially parallel and vertically aligned with one another such that either (i) the first plate is above the second plate, or (ii) the first plate is below the second plate.2. The plate assembly of claim 1 , wherein the second plate comprises at least three substantially concentric plate sections.30204. The plate assembly of claim 1 , wherein at least some of the apertures in at least one of the plates of the plate assembly have an aspect ratio between about .-..4. The plate assembly of claim 1 , wherein at least one of the plates of the plate assembly has an open area between about 40-60%.5. The plate assembly of ...

Подробнее