Cleaning composition following CMP and methods related thereto
Номер патента: US10100272B2
Опубликовано: 16-10-2018
Автор(ы): Cheng-Yuan Ko, Fred Sun, Roman Ivanov
Принадлежит: Cabot Microelectronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-10-2018
Автор(ы): Cheng-Yuan Ko, Fred Sun, Roman Ivanov
Принадлежит: Cabot Microelectronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Cleaning composition, method of cleaning metal-containing film and method of manufacturing semiconductor device
Номер патента: EP4282945A2. Автор: Hyosan Lee,Kyuyoung HWANG,Jiwon Kim,Cheol Ham,Byoungki CHOI,Sungmin Kim,Byungjoon KANG,Jungmin Oh,Hwang Suk KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-29.