Method for dispersing useful compounds for hydrophobic photography
Номер патента: JP3444650B2
Опубликовано: 08-09-2003
Автор(ы): 一彦 藤原, 直之 川西, 知一 安田
Принадлежит: Fuji Photo Film Co Ltd
Опубликовано: 08-09-2003
Автор(ы): 一彦 藤原, 直之 川西, 知一 安田
Принадлежит: Fuji Photo Film Co Ltd
Material for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, patterning process, and compound for forming organic film
Номер патента: US11886118B2. Автор: Seiichiro Tachibana,Daisuke Kori,Keisuke NIIDA,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.