Processo per la deposizione chimica di biossido di silicio da vapore a bassa pressione.
Номер патента: IT8023689A0
Опубликовано: 25-07-1980
Автор(ы): Kemlage Bernard Michael
Принадлежит: Ibm
Опубликовано: 25-07-1980
Автор(ы): Kemlage Bernard Michael
Принадлежит: Ibm
Metodo per la deposizione di sistemi supramolecolari, di biomolecole ein generale, di molecole di grandi dimensioni e/o complessita' e/o labilita' senza loro frammentazione e/o perdita delle loro proprieta' strutturali e funzionali.
Номер патента: IT1261800B. Автор: . Владелец: Enea Ente Nuove Tec. Дата публикации: 1996-06-03.