Two-way block-type high-pressure resistant plain device
Номер патента: TW200505017A
Опубликовано: 01-02-2005
Автор(ы): Takeshi Matsushita, Yoshiyuki Kawana
Принадлежит: Success Internat Corp
Опубликовано: 01-02-2005
Автор(ы): Takeshi Matsushita, Yoshiyuki Kawana
Принадлежит: Success Internat Corp
Polyethylene having high pressure resistance and crosslinked polyethylene pipe comprising the same
Номер патента: US12065514B2. Автор: Yi Young Choi,Sol Cho,Sun Mi Kim,Hyunsup Lee,Myunghan LEE,Yeonsoo KIM. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.