Plasma resistant coatings for plasma chamber components
Номер патента: WO2010054112A2
Опубликовано: 14-05-2010
Автор(ы): Jennifer Y. Sun, Senh Thach, Xiao-Ming He
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 14-05-2010
Автор(ы): Jennifer Y. Sun, Senh Thach, Xiao-Ming He
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method and Apparatus for Plasma Etching Dielectric Substrates
Номер патента: US20240212998A1. Автор: Andrew RUBIN,Nicolas Launay,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.