Universal metrology model.

Universal metrology model

Номер патента: US12078601B2
Опубликовано: 03-09-2024
Автор(ы): Amnon Manassen, Nireekshan K. Reddy, Vladimir Levinski
Принадлежит: KLA Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Universal metrology model

Номер патента: US20230384237A1. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Nireekshan K. Reddy. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Universal metrology model

Номер патента: WO2023235165A1. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Nireekshan K. Reddy. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-12-07.

Optical metrology model optimization for process control

Номер патента: US7395132B2. Автор: Lawrence Lane,Daniel Prager,Jason Ferns,Dan Engelhard. Владелец: TEL Timbre Technologies Inc. Дата публикации: 2008-07-01.

Optical metrology model optimization based on goals

Номер патента: US20070135959A1. Автор: Shifang Li,Junwei Bao,Vi Vuong,Emmanuel Drege. Владелец: TEL Timbre Technologies Inc. Дата публикации: 2007-06-14.

Optical metrology model optimization based on goals

Номер патента: US7171284B2. Автор: Junwei Bao,Vi Vuong,Emmanuel Drege,Shifang Ll. Владелец: TEL Timbre Technologies Inc. Дата публикации: 2007-01-30.

Optical metrology models for in-line film thickness measurements

Номер патента: US12062583B2. Автор: Todd J. Egan,Edward Budiarto,Eric Chin Hong Ng,Sergey STARIK. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Optical metrology models for in-line film thickness measurements

Номер патента: WO2022191969A1. Автор: Todd J. Egan,Edward Budiarto,Eric Chin Hong Ng,Sergey STARIK. Владелец: Applied Materials Isreal Ltd.. Дата публикации: 2022-09-15.

Universal metrology file, protocol, and process for maskless lithography systems

Номер патента: WO2021071472A1. Автор: Jang Fung Chen,Tamer Coskun,Douglas Joseph VAN DEN BROEKE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-15.

Optical metrology model optimization based on goals

Номер патента: US20060064280A1. Автор: Shifang Li,Junwei Bao,Vi Vuong,Emmanuel Drege. Владелец: TEL Timbre Technologies Inc. Дата публикации: 2006-03-23.

Optical metrology models for in-line film thickness measurements

Номер патента: US20220290974A1. Автор: Todd J. Egan,Edward Budiarto,Eric Chin Hong Ng,Sergey STARIK. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2022-09-15.

Method and apparatus for developing, improving and verifying virtual metrology models in a manufacturing system

Номер патента: US20110190917A1. Автор: James Moyne. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-04.

Virtual metrology model based seasoning optimization

Номер патента: US12032355B2. Автор: Koichiro Nakamura,Yutaka Hirooka,Jun Shinagawa,Brian Gessler,Brian Pfeifer,John Solis. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Virtual metrology model based seasoning optimization

Номер патента: US20230315047A1. Автор: Koichiro Nakamura,Yutaka Hirooka,Jun Shinagawa,Brian Gessler,Brian Pfeifer,John Solis. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Method of regenerating diffraction signals for optical metrology systems

Номер патента: US8570531B2. Автор: Shifang Li. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-29.

Virtual cross metrology-based modeling of semiconductor fabrication processes

Номер патента: US20230066516A1. Автор: Juan Andres Torres Robles. Владелец: Siemens Industry Software Inc. Дата публикации: 2023-03-02.

프로세스 및 설비 제어용 계측 데이터를 관리 및 이용하는방법

Номер патента: KR20090011593A. Автор: 준웨이 바오,비 부옹,마누엘 비 마드리어가. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2009-02-02.

Method to obtain information to control a manufacturing process for a stacked semiconductor device and detection system using such method

Номер патента: WO2024078883A1. Автор: Johannes Ruoff,Stratis Tzoumas,Christian LUTZWEILER. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-18.

System and method for implementing a virtual metrology advanced process control platform

Номер патента: US8437870B2. Автор: Po-Feng Tsai,Andy Tsen,Jin-Ning Sung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-05-07.

Method and system for universal target based inspection and metrology

Номер патента: US09576861B2. Автор: Michael Adel,Ady Levy,Mark Wagner,Allen Park,Kris Bhaskar,Ellis Chang,Amir Widmann,Songnian Rong. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Virtual metrology method using convolutional neural network and computer program product thereof

Номер патента: US20220026861A1. Автор: Chin-Yi Lin,Fan-Tien Cheng,Yu-Ming Hsieh,Tan-Ju WANG,Li-Hsuan PENG. Владелец: National Cheng Kung University NCKU. Дата публикации: 2022-01-27.

Virtual metrology method based on convolutional autoencoder and transfer learning and system thereof

Номер патента: US20230419107A1. Автор: Chin-Yi Lin,Fan-Tien Cheng,Yu-Ming Hsieh,Yueh-Feng Tsai. Владелец: National Cheng Kung University NCKU. Дата публикации: 2023-12-28.

Virtual metrology method using convolutional neural network and computer program product thereof

Номер патента: US11921474B2. Автор: Chin-Yi Lin,Fan-Tien Cheng,Yu-Ming Hsieh,Tan-Ju WANG,Li-Hsuan PENG. Владелец: National Cheng Kung University NCKU. Дата публикации: 2024-03-05.

Universal metrology model

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты