Reflective mask blank for euv lithography and mask for euv lithography

05-05-2011 дата публикации

Номер:

US20110104595A1

Автор: Kazuyuki Hayashi, Toshiyuki Uno, Ken Ebihara

Принадлежит: Asahi Glass Co Ltd

Контакты:

Номер заявки:

Дата заявки:

CPC - классификация

B B8 B82 B82Y B82Y1 B82Y10 B82Y10/B82Y10/0 B82Y10/00 B82Y4 B82Y40 B82Y40/B82Y40/0 B82Y40/00 G G0 G03 G03F G03F1 G03F1/G03F1/2 G03F1/24 G03F1/5 G03F1/52 H H0 H01 H01L H01L2 H01L21 H01L21/H01L21/0 H01L21/02 H01L21/027 H01L21/0275

Получить PDF