10-10-2016 дата публикации
Номер: KR0101663629B1
... 본 발명은 비대칭형 나노구조체의 형성방법에 관한 것으로서, 기판 또는 박막 상에 형성되며, 패턴의 형태가 변형이 가능한 가변형 임프린트용 스탬프를 이용하여 형성되는 비대칭형 금속 또는 금속산화물 나노구조체를 포함하여 이루어지며, 상기 비대칭형 금속 또는 금속산화물 나노구조체는, 기판 또는 박막 상에 임프린트층을 형성하는 제1단계와, 상기 임프린트층 상에 플렉시블한 재질의 가변형 임프린트용 스탬프를 위치시켜, 상기 가변형 임프린트용 스탬프의 패턴이 휘어짐 변형이 유발되는 압력 또는 방향으로 가변형 임프린트용 스탬프를 가압하고, 경화 공정을 수행하여 비대칭 패턴층을 형성하는 제2단계와, 상기 비대칭 패턴층의 잔류막을 제거하여 기판 또는 박막의 일부 영역을 노출시키는 제3단계와, 상기 노출된 기판 또는 박막 영역 및 비대칭 패턴층 상에 금속 또는 금속산화물을 증착하는 제4단계와, 상기 비대칭 패턴층을 제거하여 기판 또는 박막 상에 금속 또는 금속산화물 패턴을 형성하는 제5단계;를 포함하여 구성되고, 상기 제1단계의 임프린트층의 두께는, 상기 가변형 임프린트용 스탬프로 상기 임프린트층을 가압시 임프린트층이 상기 가변형 임프린트용 스탬프 패턴 사이로 충진이 완전히 되지 않도록 상기 가변형 임프린트용 스탬프 패턴의 두께보다 상대적으로 더 얇게 형성되고, 상기 제2단계는, 상기 가변형 임프린트용 스탬프의 패턴을 변형시키기 위해 1.1bar~50bar의 압력으로 가변형 임프린트용 스탬프를 가압시키고, 선택적으로, 상기 가변형 임프린트용 스탬프의 패턴을 변형시키기 위해 상기 임프린트층과 가변형 임프린트용 스탬프의 계면에 평행한 방향으로 가변형 임프린트용 스탬프를 가압시키는 것에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 가변형 임프린트용 스탬프를 이용한 비대칭형 금속 또는 금속산화물 나노구조체를 기술적 요지로 한다. 이에 의해 간단한 공정에 의해 대면적의 비대칭형 금속 또는 금속산화물 나노구조체를 얻을 수 있으며, 상기 가변형 임프린트용 스탬프의 압력 또는 방향에 따라 패턴의 비대칭성 ...
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