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11-07-2017 дата публикации

기판 처리 시스템, 기판 반송 방법 및 컴퓨터 기억 매체

Номер: KR0101752513B1
Автор: 나까하라다 마사히로, 사까따 요오지, 미야따 아끼라, 하야시 신이찌, 에노끼다 스구루, 나까시마 쯔네나가
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 노광 전에 기판의 이면 세정을 행하는 기능을 구비한 기판 처리 시스템에 있어서, 기판 처리의 수율을 향상시키고, 기판 반송의 부하를 저감시킨다. 일양태에 따르면, 도포 현상 처리 시스템의 인터페이스 스테이션(5)은 웨이퍼를 노광 장치에 반입하기 전에 적어도 웨이퍼의 이면을 세정하는 세정 유닛(100)과, 세정 후의 웨이퍼의 이면에 대해서, 당해 웨이퍼의 노광이 가능한지 여부를 노광 장치에 반입 전에 검사하는 검사 유닛(101)과, 각 유닛(100, 101) 사이에서 기판을 반송하는 아암을 구비한 웨이퍼 반송 기구(120, 130)와, 웨이퍼 반송 기구(120, 130)의 동작을 제어하는 웨이퍼 반송 제어부를 갖고 있다. 웨이퍼 반송 제어부는, 검사 결과, 웨이퍼의 상태가 세정 유닛(100)에서의 재세정에 의해 노광 가능한 상태로 된다고 판정되면, 당해 웨이퍼를 세정 유닛(100)에 다시 반송하도록, 웨이퍼 반송 기구(120, 130)를 제어한다. 다른 양태에 따르면, 도포 현상 처리 시스템의 인터페이스 스테이션(5)은 웨이퍼를 노광 장치에 반입하기 전에 적어도 웨이퍼의 이면을 세정하는 웨이퍼 세정부(141)와, 세정 후의 웨이퍼의 이면에 대해서, 당해 웨이퍼의 노광이 가능한지 여부를 노광 장치에 반입 전에 검사하는 웨이퍼 검사부(142)와, 웨이퍼 세정부(141)와 웨이퍼 검사부(142) 사이에서 웨이퍼(W)를 반송하는 반송 수단(143)을 갖고 있다. 웨이퍼 세정부(141), 웨이퍼 검사부(142) 및 반송 수단(143)은, 하우징(140)의 내부에 설치되어 있다.

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Номер записи: 1
05-07-2017 дата публикации

SUBSTRATE TREATMENT SYSTEM, SUBSTRATE TRANSFER METHOD, AND COMPUTER STORAGE MEDIUM

Номер: KR1020170077084A
Автор: NAKAHARADA MASAHIRO, SAKATA YOJI, MIYATA AKIRA, HAYASHI SHINICHI, ENOKIDA SUGURU, NAKASHIMA TSUNENAGA
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate treatment system provided with a function for cleaning a rear surface of a substrate before light exposure, which is configured to improve the yield of substrate treatment and reduce the load of substrate transfer. According to one aspect of the present invention, an interface station (5) of a coating and developing treatment system includes: a cleaning unit (100) for cleaning at least a rear surface of a wafer before the wafer is transferred into an exposure apparatus; an inspection unit (101) for inspecting the rear surface of the cleaned wafer about whether the wafer is exposable, before the wafer is transferred into the exposure apparatus; wafer transfer mechanisms (120, 130) including arms transferring the substrate between the units; and a wafer transfer control unit for controlling operations of the wafer transfer mechanisms (120, 130). COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 2
19-10-2017 дата публикации

기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체

Номер: KR0101788334B1
Автор: 에노끼다 스구루, 나까하라다 마사히로, 미야따 아끼라, 기야마 히데까즈, 이이다 나루아끼
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 기판 처리 장치는, 좌우로 이격되어 설치된 제1 캐리어 적재부 및 제2 캐리어 적재부를 포함하는 캐리어 블록과, 복수의 계층 부분을 상하로 배치한 계층 구조를 가짐과 동시에 각 계층 부분이 기판을 반송하는 기판 반송 기구와 기판을 처리하는 처리 모듈을 갖는 처리 블록과, 각각 대응하는 계층 부분의 기판 반송 기구에 의해 기판의 전달이 행해지는 높이 위치에 배치된 복수의 기판 적재부를 포함하는 타워 유닛과, 제1 캐리어 적재부 상의 캐리어와 타워 유닛의 각 기판 적재부 사이에서 기판의 이동 탑재를 행하는 제1 기판 이동 탑재 기구와, 제2 캐리어 적재부 상의 캐리어와 타워 유닛의 각 기판 적재부 사이에서 기판의 이동 탑재를 행하는 제2 기판 이동 탑재 기구를 갖는다.

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Номер записи: 3
18-12-2018 дата публикации

기판 처리 시스템, 기판 반송 방법 및 컴퓨터 기억 매체

Номер: KR0101930555B1
Автор: 에노끼다 스구루, 나까하라다 마사히로, 기야마 히데까즈, 이이다 나루아끼, 미야따 아끼라
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명의 과제는 기판 처리 시스템의 풋프린트를 작게 하는 것이다. 복수의 처리 유닛이 상하 방향으로 다단으로 설치된 처리 스테이션(3)과, 복수매의 웨이퍼(W)를 수용하는 카세트를 적재하는 카세트 적재대(12)와, 처리 스테이션(3)과 카세트 적재대(12) 사이에 배치된 웨이퍼 반송 기구(21)를 구비한 기판 처리 시스템(1)에 있어서, 처리 스테이션(3)과 웨이퍼 반송 기구(21) 사이에는 카세트 적재대(12)와 처리 스테이션(3) 사이에서 반송되는 웨이퍼 및 각 처리 유닛의 각 단 사이에서 반송되는 기판을 일시적으로 수용하는 복수의 전달 유닛이 다단으로 설치된 전달 블록(22)이 배치되어 있다. 웨이퍼 반송 기구(21)는 카세트 적재대(12)와 전달 블록(22) 사이에서 웨이퍼를 반송하는 제1 반송 아암과, 전달 유닛의 각 단 사이에서 웨이퍼를 반송하는 제2 반송 아암을 구비하고 있다.

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Номер записи: 4