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24-04-2017 дата публикации

SPIN HEAD, AND APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE INCLUDING SPIN HEAD

Номер: KR101729125B1
Автор: LEE, JI HWAN, CHOI, JUNG BONG, HEO, CHAN YOUNG, HEO, PIL KYUN
Принадлежит: SEMES CO., LTD.

The present invention relates to a spin head, and an apparatus and a method for treating a substrate including the spin head. According to an embodiment of the present invention, the spin head comprises: a support plate on which a substrate is placed; and a chuck pin placed on the support plate, and supporting a side portion of the substrate. The chuck pin has an external body and an internal body inserted into the external body and provided with a material different from the external body. The external body and the internal body are individually provided with a first material or a second material, and any one of the first material and the second material is provided with higher heat conductivity than the other one. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 1
10-01-2018 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING DEVICE

Номер: KR1020180003678A
Автор: LEE, JI HWAN, CHOI, JUNG BONG, HEO, CHAN YOUNG, HEO, PIL KYUN, KANG, BYUNG MAN
Принадлежит:

The present invention provides a substrate processing device capable of efficiently processing a substrate. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing device comprises: a spin head; a support axis connected to a lower part of the spin head, and supporting the spin head; a pin located on an upper surface of the spin head to support the substrate, and having an internal space; and a nozzle member supplying a liquid to the substrate located in the spin head. COPYRIGHT KIPO 2018 ...

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Номер записи: 2
10-09-2018 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101895933B1
Автор: 이지환, 최중봉, 허찬영, 허필균, 강병만
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 스핀 헤드; 상기 스핀 헤드의 하부에 연결되어 상기 스핀 헤드를 지지하는 지지축; 상기 스핀 헤드의 상면에 위치되어 기판을 지지하고 내측에 공간이 형성되어 있는 핀; 및 상기 스핀 헤드에 위치된 기판으로 액을 공급하는 노즐부재를 포함한다.

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Номер записи: 3
08-07-2015 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер: KR1020150077536A
Автор: HEO, PIL KYUN, CHOI, YONG HYOUN, KIM, KI BONG
Принадлежит:

The present invention provides a substrate treating apparatus. The substrate treating apparatus includes a dry chamber which dries a substrate by solving an organic solvent on the substrate by a fluid which is supplies as a supercritical fluid, a supply unit which supplies the fluid to the dry chamber, a reproducing unit which includes a buffer tank which stores the fluid discharged from the dry chamber, reproduces the fluid by separating the organic solvent from the fluid, and supplies the reproduced fluid to the supply unit, and a circulation line which successively connects the dry chamber, the supply unit, and the reproducing unit. The supply unit includes a condenser, a feeding tank which receives and stores the fluid which is liquefied in the condenser, a pump which is installed on the circulation line between the condenser and the feeding tank and supplies the fluid to the feeding tank, and a connection line which supplies the fluid supplied through the pump to the buffer tank. The ...

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Номер записи: 4
26-07-2017 дата публикации

스핀 헤드와 이를 포함하는 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법

Номер: KR0101757813B1
Автор: 이지환, 최중봉, 허찬영, 허필균
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 스핀 헤드와 이를 포함하는 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 스핀 헤드는 기판을 놓이는 지지판과 상기 지지판에 위치하고 기판의 측부를 지지하는 척핀을 포함하며 상기 척핀은 외체와 상기 외체에 삽입되며 상기 외체와 서로 상이한 재질로 제공되는 내체를 포함하고 상기 외체와 상기 내체는 각각 제1재질 또는 제2재질 중 어느 하나로 제공되고 상기 제1재질과 상기 제2재질 중 어느 하나는 다른 하나보다 열전도율이 높고, 내열성이 좋은 재질로 제공되는 스핀 헤드를 포함한다.

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Номер записи: 5
11-04-2017 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND METHOD

Номер: KR1020170039467A
Автор: JANG, SOO ILL, HEO, PIL KYUN
Принадлежит:

An embodiment of the present invention provides an apparatus and a method for liquid-treating a substrate. The substrate treating apparatus includes a substrate support unit for supporting a substrate and a liquid supply unit for supplying a treatment liquid onto the substrate supported by the substrate support unit. The substrate support unit includes a body, a rotating shaft for rotating the body, and a chuck pin projecting upward from the body and supporting a side of the substrate. The liquid supply unit includes a nozzle for discharging the treatment liquid and a heat treatment member for thermally treating a region of the substrate in contact with the chuck pin. As a result, reactivity due to the treatment liquid can be uniformly provided between one region of the substrate which is in contact with the chuck pin and another region. COPYRIGHT KIPO 2017 (520) Power source unit (600) Controller ...

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Номер записи: 6
11-05-2015 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND RECYCLING METHOD USING SAME

Номер: KR1020150051110A
Автор: JUNG, EUN SUN, LEE, YOUNG IL, HEO, PIL KYUN
Принадлежит:

Provided is a substrate treating apparatus. The substrate treating apparatus includes: a process chamber which dissolves an organic solvent on a substrate by using fluid provided as supercritical fluid and dries the substrate, a reproduction unit which reproduces the fluid by separating the organic solvent from the fluid discharged from the process chamber, a circulation line which connects the process chamber and the reproduction unit and circulates the fluid, and a concentration measuring unit which measures the concentration of the organic solvent included in the reproduced fluid. The concentration measuring unit includes: a measuring pipe which is branched from the circulation line, a concentration measuring device which is connected to the measuring pipe, a valve installed to the measuring pipe, and a controller which controls the concentration measuring device. The controller can control the concentration measuring device to start measuring concentration after the fluid flows through ...

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Номер записи: 7
25-05-2017 дата публикации

SPIN HEAD, AND APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE INCLUDING SPIN HEAD

Номер: KR1020170057805A
Автор: LEE, JI HWAN, CHOI, JUNG BONG, HEO, CHAN YOUNG, HEO, PIL KYUN
Принадлежит:

The present invention relates to a spin head, and an apparatus and a method for treating a substrate including the spin head. According to an embodiment of the present invention, the spin head comprises a supporting plate where a substrate is placed and a chuck pin placed on the supporting plate and supporting a lateral portion of the substrate, wherein the chuck pin includes an outer body and an inner body inserted into the outer body and provided with a different material from the outer body, wherein each of the outer body and the inner body is provided with any one of a first material or a second material, and wherein one material of the first material and the second material is provided with a material having lower heat conductivity and better thermal resistance than the other one. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 8
14-07-2017 дата публикации

기판 처리 장치 및 방법

Номер: KR0101757821B1
Автор: 장수일, 허필균
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명의 실시예는 기판을 액 처리하는 장치 및 방법을 제공한다. 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 유닛 및 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 상기 기판 지지 유닛은 몸체, 상기 몸체를 회전시키는 회전축, 그리고 상기 몸체로부터 위로 돌출되어 기판의 측부를 지지하는 척핀을 포함하고, 상기 액 공급 유닛은 처리액을 토출하는 노즐 및 상기 척핀과 접촉된 기판의 영역을 열 처리하는 열 처리 부재를 포함한다. 이로 인해 척핀과 접촉되는 기판의 영역 및 이와 다른 영역 간에는 처리액에 의한 반응성을 균일하게 제공할 수 있다.

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Номер записи: 9
17-05-2016 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND RECYCLING METHOD

Номер: KR0101621485B1
Автор: 정은선, 이영일, 허필균
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 초임계유체로 제공되는 유체를 이용하여 기판 상의 유기용제를 용해하여 상기 기판을 건조시키는 공정챔버, 상기 공정챔버로부터 배출된 유체로부터 상기 유기용제를 분리하여 상기 유체를 재생하는 재생 유닛, 상기 공정 챔버와 상기 재생 유닛을 연결하고 상기 유체를 순환시키는 순환 라인 그리고 상기 재생된 유체에 함유된 상기 유기용제의 농도를 측정하는 농도 측정 유닛을 포함하되, 상기 농도 측정 유닛은, 상기 순환라인으로부터 분기되는 측정 배관, 상기 측정 배관에 연결되는 농도 계측기, 상기 측정 배관에 설치된 밸브, 그리고 상기 농도 계측기를 제어하는 제어기를 포함하되, 상기 제어기는 상기 농도를 측정할 때 상기 유체가 상기 농도 계측기로 설정시간 동안 흐른 이후에 농도 측정을 시작하도록 상기 농도 계측기를 제어할 수 있다.

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Номер записи: 10