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15-07-2015 дата публикации

SUBSTRATE SUPPORT UNIT, SUBSTRATE TRANSFFERING UNIT, SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер: KR0101536718B1
Автор: 주윤종, 최중봉
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 컵, 상기 컵 내부에 위치하며, 기판을 지지하는 지지 유닛, 그리고 상기 지지 유닛에 놓인 기판에 처리액을 공급하는 노즐 유닛을 포함하되 상기 지지 유닛은, 상기 기판을 지지하는 지지 플레이트와, 상기 지지 플레이트의 상면으로부터 상부로 돌출되고, 내부에 중앙홈을 형성하고, 상기 기판의 가장자리 영역을 지지하는 링 형상의 지지 돌기를 포함할 수 있다.

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Номер записи: 1
26-06-2018 дата публикации

기판처리장치

Номер: KR0101870664B1
Автор: 최기훈, 최중봉, 강병만, 김성수
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명의 실시예에 의하면, 노즐을 지지하는 지지암은 제1암몸체, 제2암몸체, 그리고 제3암몸체를 포함한다. 제2암몸체는 제1암몸체에 압입되고, 제3암몸체는 제2암몸체에 압입된다. 제2암몸체는 제1암몸체 및 제3암몸체에 비해 강도가 강한 재질로 이루어하고, 상기 제1암몸체 및 상기 제3암몸체는 상기 제2암몸체에 비해 내부식성이 강한 재질로 이루어진다.

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Номер записи: 2
04-01-2019 дата публикации

기판처리장치

Номер: KR0101910803B1
Автор: 최기훈, 최중봉, 김성수, 김춘식
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명의 실시예에 의하면, 노즐은 기판 상으로 제1약액과 제2약액이 혼합된 혼합액을 토출한다. 제1약액과 제2약액은 노즐의 토출구로부터 일정 거리 이상 떨어진 공간에서 공급된다. 제1약액과 제2약액이 서로 혼합되어 발열반응이 발생하여 토출 압력이 불안정해진다. 그러나 제1약액과 제2약액이 혼합된 혼합액은 노즐로 이동되는 동안 그 토출 압력이 안정화된다. 이로 인해 혼합액은 균일하게 토출될 수 있다.

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Номер записи: 3
04-05-2015 дата публикации

APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE

Номер: KR1020150047206A
Автор: KIM, YU HWAN, CHOI, JUNG BONG, HWANG, HO JONG
Принадлежит:

According to an embodiment of the present invention, provided is an apparatus for heating and treating a substrate. The apparatus for treating the substrate comprises: a substrate supporting unit supporting the substrate; a medicinal fluid supply unit having a nozzle supplying medicinal fluid on the substrate supported on the substrate supporting unit; and a heating unit radiating light and heating the substrate supported on the substrate supporting unit. Since a heating member heats the substrate before the medicinal fluid is supplied on the substrate, temperature difference between the substrate and the medicinal fluid can be decreased. COPYRIGHT KIPO 2015 (450) Controller ...

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Номер записи: 4
24-04-2017 дата публикации

SPIN HEAD, AND APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE INCLUDING SPIN HEAD

Номер: KR101729125B1
Автор: LEE, JI HWAN, CHOI, JUNG BONG, HEO, CHAN YOUNG, HEO, PIL KYUN
Принадлежит: SEMES CO., LTD.

The present invention relates to a spin head, and an apparatus and a method for treating a substrate including the spin head. According to an embodiment of the present invention, the spin head comprises: a support plate on which a substrate is placed; and a chuck pin placed on the support plate, and supporting a side portion of the substrate. The chuck pin has an external body and an internal body inserted into the external body and provided with a material different from the external body. The external body and the internal body are individually provided with a first material or a second material, and any one of the first material and the second material is provided with higher heat conductivity than the other one. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 5
16-09-2015 дата публикации

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер: KR0101553363B1
Автор: 허찬영, 김유환, 최중봉, 황호종
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 기판이 놓이는 기판 지지 유닛; 상기 기판 지지 유닛을 감싸도록 제공되는 용기; 상방에서 하방으로 약액을 공급하는 액 공급유닛; 및 상기 기판 지지 유닛에서 위쪽으로 설정거리 이격된 높이에 제공되고, 상기 기판 및 상기 기판에 공급된 상기 약액을 가열하는 가열 유닛을 포함한다.

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Номер записи: 6
10-01-2018 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING DEVICE

Номер: KR1020180003678A
Автор: LEE, JI HWAN, CHOI, JUNG BONG, HEO, CHAN YOUNG, HEO, PIL KYUN, KANG, BYUNG MAN
Принадлежит:

The present invention provides a substrate processing device capable of efficiently processing a substrate. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing device comprises: a spin head; a support axis connected to a lower part of the spin head, and supporting the spin head; a pin located on an upper surface of the spin head to support the substrate, and having an internal space; and a nozzle member supplying a liquid to the substrate located in the spin head. COPYRIGHT KIPO 2018 ...

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Номер записи: 7
08-07-2015 дата публикации

PROCESSING LIQUID SUPPLY UNIT

Номер: KR1020150077527A
Автор: LEE, JU HEE, KANG, BYUNG MAN, CHOI, YONG HYOUN, CHOI, JUNG BONG, HWANG, HO JONG
Принадлежит:

An embodiment of the present invention is to provide a device capable of heating a liquid. A processing liquid supply unit comprises: a treatment container having an accommodating space wherein a processing liquid is accommodated in the inner side; a heater to heat the processing liquid by being located in the accommodating space; and a reflector which is provided to surround the inner side of the treatment container and reflect an electromagnetism wavelength generated from the heater. The wasted electromagnetism wavelength from scattering or absorption is minimized because the electromagnetism wavelength capable of heating the processing liquid is reflected by the reflector. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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Номер записи: 8
10-09-2018 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101895933B1
Автор: 이지환, 최중봉, 허찬영, 허필균, 강병만
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 스핀 헤드; 상기 스핀 헤드의 하부에 연결되어 상기 스핀 헤드를 지지하는 지지축; 상기 스핀 헤드의 상면에 위치되어 기판을 지지하고 내측에 공간이 형성되어 있는 핀; 및 상기 스핀 헤드에 위치된 기판으로 액을 공급하는 노즐부재를 포함한다.

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Номер записи: 9
28-11-2018 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер: KR1020180126644A
Автор: BANG, BYUNG SUN, JUNG, BU YOUNG, CHOI, JUNG BONG, KIM, BONG JOO, LEE, YOUNG IL, SONG, GIL HUN, PARK, GUI SU, KIM, KWANG RYUL, LEE, KWANG SEOP, YU, JIN TACK
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing method includes the steps of: removing a part of a thin film by irradiating a substrate with a laser; and removing the remaining part of the thin film by supplying a chemical to the substrate. Accordingly, the present invention can effectively process the substrate. COPYRIGHT KIPO 2019 ...

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Номер записи: 10
02-12-2016 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101681183B1
Автор: 최중봉, 김성수, 허찬영, 권오진
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치에 있어서, 상부가 개방된 처리 용기와 상기 처리 용기 내에 위치되고 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과 상기 기판 지지 유닛에 놓인 기판으로 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛과 상기 기판 지지 유닛 내에 제공되어 기판을 가열하는 가열 유닛을 포함하되 상기 가열 유닛은 열을 제공하는 가열 부재와 상기 가열 부재의 열을 상부로 반사시키는 반사 부재를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 11
17-03-2023 дата публикации

기판 가열 유닛

Номер: KR102510488B1
Автор: 김유환, 황호종, 최중봉, 양창준
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 기판 가열 유닛이 개시된다. 기판 가열 유닛은 상부에 기판이 놓여지는 회전 가능한 척 스테이지; 중공형의 형상을 갖고, 상기 척 스테이지와 결합하여 상기 척 스테이지를 회전시키는 회전부; 상기 회전부 내부를 관통하여 상기 척 스테이지 상부 중앙에 구비되고, 기판의 후면으로 처리액을 분사하는 백노즐; 상기 척 스테이지의 상부로부터 이격되어 배치되고, 상기 척 스테이지의 중심에 대해 상이한 반경 거리에서 동심적으로 배열되는 링 형상의 램프들을 갖는 발열부; 상기 발열부와 상기 척 스테이지 사이에 제공되고, 상기 발열부로부터 방사된 열 에너지를 기판을 향해 반사시키는 반사 플레이트; 및 상기 램프들 각각의 온도를 측정하기 위해 상기 반사 플레이트에 설치되는 온도센서 어셈블리들을 포함한다.

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Номер записи: 12
07-12-2015 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер: KR1020150136216A
Автор: HEO, CHAN YOUNG, KIM, SEONG SOO, CHOI, JUNG BONG
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate processing apparatus. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus comprises: a container having a processing space with an opened upper part thereof; a support unit which supports a substrate positioned inside the processing space, and is able to rotate; a heating unit for heating the substrate supported by the support unit; and a liquid supply unit for supplying liquid to the substrate laid on the support unit. The heating unit comprises: a first heating unit installed in the support unit; and a second heating unit positioned in an upper part of the support unit when processing the substrate. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 13
26-07-2017 дата публикации

스핀 헤드와 이를 포함하는 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법

Номер: KR0101757813B1
Автор: 이지환, 최중봉, 허찬영, 허필균
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 스핀 헤드와 이를 포함하는 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 스핀 헤드는 기판을 놓이는 지지판과 상기 지지판에 위치하고 기판의 측부를 지지하는 척핀을 포함하며 상기 척핀은 외체와 상기 외체에 삽입되며 상기 외체와 서로 상이한 재질로 제공되는 내체를 포함하고 상기 외체와 상기 내체는 각각 제1재질 또는 제2재질 중 어느 하나로 제공되고 상기 제1재질과 상기 제2재질 중 어느 하나는 다른 하나보다 열전도율이 높고, 내열성이 좋은 재질로 제공되는 스핀 헤드를 포함한다.

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Номер записи: 14
21-01-2016 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR1020160008065A
Автор: CHOI, JUNG BONG, KIM, SEONG SOO, HEO, CHAN YOUNG, KWON, OH JIN
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate processing apparatus which can uniformly heat a substrate when processing the substrate. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus comprises: a processing container with an opened upper part; a substrate support unit positioned inside the processing container, and supporting a substrate; a treatment liquid supply unit supplying a treatment liquid to the substrate laid on the substrate support unit; a heating unit provided inside the substrate support unit, and heating the substrate. The heating unit includes a heating member for providing heat; and a reflection member for upwardly reflecting the heat of the heating member. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 15
28-11-2018 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер: KR1020180127150A
Автор: KIM KWANG RYUL, LEE KWANG SEOP, CHOI JUNGBONG, LEE YOUNGIL, KIM BONG JOO, SONG GIL HUN, PARK GUI SU, BANG BYUNGSUN
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate treating apparatus and a substrate treating method. The substrate treating apparatus according to one embodiment of the present invention comprises: a support member supporting a substrate and provided to be rotatable; a treatment liquid feeding unit for feeding a chemical to the substrate; and a laser irradiating unit for irradiating a laser on the top surface of the substrate fed with the chemical. COPYRIGHT KIPO 2019 ...

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Номер записи: 16
08-05-2015 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер: KR1020150050287A
Автор: HEO, CHAN YOUNG, KIM, YU HWAN, CHOI, JUNG BONG, HWANG, HO JONG
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate treating apparatus and a substrate treating method. The substrate treating apparatus according to one embodiment of the present invention includes a substrate support unit on which a substrate is loaded, a container which surrounds the substrate supporter unit, a solution supply unit which supplies a chemical solution from the upper side to the lower side, and a heating unit which is located at a height separated from the substrate support unit to the upper side with a preset distance and heats the substrate and the chemical solution supplied to the substrate. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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Номер записи: 17
18-10-2018 дата публикации

브러시 유닛 및 이를 가지는 기판처리장치.

Номер: KR0101909476B1
Автор: 최중봉, 김성수
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명의 실시예는 기판을 세정하는 브러시 유닛 및 이를 가지는 기판처리장치를 제공한다. 브러시 유닛은 물리적 접촉하여 기판을 세정하는 브러시 부재 및 상기 브러시 부재에 결합되어 상기 브러시 부재를 세정하는 세정 부재를 포함한다. 이로 인해 브러시로 기판을 세정 시, 브러시의 회전에 의해 제거된 이물이 기판에 재부착되는 것을 최소화할 수 있고, 브러시로 공급되는 세정액이 비산되는 것을 최소화할 수 있다.

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Номер записи: 18
11-08-2015 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS

Номер: KR0101543699B1
Автор: 김유환, 최중봉, 황호종
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 기판 처리 장치가 개시된다. 기판 처리 장치는 상부가 개방된 처리 용기; 상기 처리 용기 내에 위치된 기판을 지지하면서 기판을 가열하는 기판 가열 유닛; 상기 기판 가열 유닛에 놓인 기판으로 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛을 포함하되, 상기 기판 가열 유닛은, 상부에 기판이 놓여지는 회전 가능한 척 스테이지; 중공형의 형상을 갖고, 상기 척 스테이지와 결합하여 상기 척 스테이지를 회전시키는 회전부; 및 상기 척 스테이지 내에 배치된 발열부를 포함한다.

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Номер записи: 19
13-12-2018 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер: KR1020180133022A
Автор: JUNG, BU YOUNG, CHOI, JUNG BONG, KIM, BONG JOO, LEE, YOUNG IL, YU, JIN TACK, SONG, GIL HUN, PARK, GUI SU, BANG, BYUNG SUN, KIM, KWANG RYUL, LEE, KWANG SEOP
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate treating apparatus and a substrate treating method. The substrate treating apparatus according to one embodiment of the present invention comprises: a support member supporting a substrate; and a laser irradiator irradiating a linear type laser having a set length with respect to the surface of the substrate so as to provide a different irradiation distance of the laser in accordance with the location of the substrate. COPYRIGHT KIPO 2019 ...

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Номер записи: 20
16-06-2015 дата публикации

SUBSTRATE HEATING UNIT

Номер: KR1020150066289A
Автор: HWANG, HO JONG, CHOI, JUNG BONG, KIM, YU HWAN, YANG, CHANG JUN
Принадлежит:

A substrate heating unit is disclosed. The substrate heating unit comprises: a rotatable chuck stage on the top of which a substrate is laid; a hollow rotation part joined to the chuck stage to rotate the chuck stage; a back nozzle which passes through the inside of the rotation part and is arranged at the upper top of the chuck stage to inject a treatment liquid to the rear side of the substrate; a heating part which is separated from the top of the chuck stage and has ring-shaped lamps concentrically arranged around the center of the chuck stage at different radial distances; and a reflective plate provided between the heating part and the chuck stage to reflect thermal energy emitted from the heating part to the substrate; and temperature sensor assemblies installed on the reflective plate to measure the temperature of each lamp. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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Номер записи: 21
25-05-2017 дата публикации

SPIN HEAD, AND APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE INCLUDING SPIN HEAD

Номер: KR1020170057805A
Автор: LEE, JI HWAN, CHOI, JUNG BONG, HEO, CHAN YOUNG, HEO, PIL KYUN
Принадлежит:

The present invention relates to a spin head, and an apparatus and a method for treating a substrate including the spin head. According to an embodiment of the present invention, the spin head comprises a supporting plate where a substrate is placed and a chuck pin placed on the supporting plate and supporting a lateral portion of the substrate, wherein the chuck pin includes an outer body and an inner body inserted into the outer body and provided with a different material from the outer body, wherein each of the outer body and the inner body is provided with any one of a first material or a second material, and wherein one material of the first material and the second material is provided with a material having lower heat conductivity and better thermal resistance than the other one. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 22
04-05-2015 дата публикации

CHEMICAL SUPPLY UNIT

Номер: KR1020150047207A
Автор: CHOI, JUNG BONG, KIM, YU HWAN, HWANG, HO JONG
Принадлежит:

The present invention provides an apparatus for supplying a chemical on a substrate. A chemical supply unit includes a chemical storage unit which stores the chemical, a nozzle which receives the chemical from the chemical storage unit and supplies the chemical, an arm which connects the nozzle to the chemical storage unit and has a supply path inside, and a heating member which heats the chemical supplied to the nozzle. The heating member has a buffer space inside and includes a body which is combined to the arm, and a heater which heats the body to heat the chemical supplied in the buffer space. The buffer space is connected to the supply path. Therefore, a temperature is maintained while the chemical is supplied to the nozzle. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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Номер записи: 23
04-05-2018 дата публикации

PRE-DISPENSE HOME PORT, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATE USING SAME

Номер: KR1020180045737A
Автор: KIM, YOUNG HOO, PARK, SUNG HYUN, LEE, HYO SAN, KIM, HYUN CHUL, CHOI, YONG JUN, KANG, BYUNG MAN, CHO, YONG JHIN, CHOI, JUNG BONG, HEO, CHAN YOUNG
Принадлежит:

The present invention provides a substrate processing apparatus which includes: a heating chuck including a heater capable of supporting a substrate and heating the substrate; a chemical liquid supply nozzle configured to supply chemical liquid to an upper surface of the substrate; a pre-dispense home port having an opened upper portion for containing non-steady chemical liquid pre-dispensed from the chemical liquid supply nozzle; and a processing chamber for containing the heating chuck, the pre-dispense home port, and the chemical liquid supply nozzle. The pre-dispense home port includes a cover portion covering the opened upper portion, where the cover portion has an opening for receiving the chemical liquid supply nozzle. According to the present invention, when the substrate processing apparatus and the pre-dispense home port are used, the generation of particles may be reduced and the defect rate may be reduced, so that the substrate may be heated without overheating and deformation ...

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Номер записи: 24
22-10-2018 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101909475B1
Автор: 최중봉, 오세훈, 박선용, 김성수
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 지지한 상태에서 회전하는 스핀헤드; 상기 스핀헤드에 놓인 기판으로 제1처리액을 분사하는 제1노즐부와, 상기 스핀헤드에 놓인 기판으로 제2처리액을 분사하는 제2노즐부를 포함하는 제1노즐유닛; 상기 스핀헤드에 놓인 기판으로 제3처리액을 분사하는 제3노즐부와, 상기 스핀헤드에 놓인 기판으로 제4처리액을 분사하는 제4노즐부를 가지며, 상기 제1노즐유닛에 인접하여 제공되는 제2노즐유닛; 및 상기 제1노즐유닛과 상기 제2노즐유닛을 독립적으로 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 제1노즐부와 상기 제2노즐부는 동일한 제1회전축을 중심으로 회전하며, 상기 제3노즐부와 상기 제4노즐부는 동일한 제2회전축을 중심으로 회전한다.

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Номер записи: 25