PROCESS FOR PRODUCING ARTICLE HAVING FINE PATTERN ON ITS SURFACE

To provide a process for producing an article having a fine pattern on its surface, by which peeling of a cured resin layer having a fine pattern is suppressed, and a defect of the cured resin layer by repelling when a photocurable resin composition is applied is suppressed.

モールド、その製造方法および転写微細パターンを有する基材の製造方法

【課題】光透過性、離型性、機械的強度、寸法安定性、高精度な微細パターンを有し、微細パターンの変形が少ないモールド；モールドの微細パターンを寸法精度よく転写でき、転写微細パターンの変形が少ない転写微細パターンを有する基材の製造方法を提供する。 【解決手段】中間層（Ｃ）１４が形成された表面に官能基（ｘ）に基づく化学結合を有し、含フッ素重合体（Ｉ）の線膨張係数との線膨張係数の差（絶対値）が３０ｐｐｍ／℃未満であり、熱変形温度が１００〜３００℃である透明基体（Ａ）１２、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有し、官能基（ｘ）と反応性の反応性基（ｙ）を有する含フッ素重合体（II）からなる中間層（Ｃ）１４、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有し、反応性基（ｙ）を実質的に有しない含フッ素重合体（Ｉ）からなり、表面に微細パターン１８を有する表面層（Ｂ）１６を有するモールド１０。 【選択図】図１

Mold, method for production of the mold, and method for production of substrate having replicated fine pattern

Photocurable composition and production method for formed body having fine pattern on surface

Wire-grid polarizer and process for producing the same

The present invention provides a wire-grid polarizer showing high polarization separation ability in the visible light region and is excellent in heat resistance and durability; and a process for producing such a wire-grid polarizer with high productivity, which enables to produce a polarizer of large area. A process for producing a wire-grid polarizer, comprising a step of coating a supporting substrate with a photocurable composition, a step of pressing a mold having a plurality of parallel grooves at a constant pitch against the photocurable composition so that the grooves contact with the photocurable composition, a step of curing the photocurable composition in a state that the mold is pressed against the photocurable composition, to form a light-transmitting substrate having a plurality of ridges corresponding to the grooves of the mold, a step of separating the mold from the light-transmitting substrate, and a step of forming fine metalic wires on the ridges of the light-transmitting substrate.

Mold and process for production of substrates having transferred micropatterns thereon

The invention provides a mold and a process for the production of substrates having transferred micropatterns thereon. A mold having a micropattern for forming photocurable resins, characterized by comprising a transparent base having chemical bonds resulting from functional groups (x) on one of the surfaces; an interlayer (A) formed on the surface of the transparent base on which the chemical bonds resulting from functional groups (x) are present; and a surface layer (B) which is formed on the interlayer (A) and has a micropattern on the surface, the interlayer (A) being a layer made of a fluoropolymer (1) which has a fluorinated alicyclic structure in the backbone chain and a group (y) reactive with the functional groups (x) and the surface layer (B) being a layer which has a micropattern on the surface and is made of a fluoropolymer (2) having a fluorinated alicyclic structure in the backbone chain and being substantially free from the reactive group (y).

Manufacturing method of fine structure

【課題】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が寸法精度よく形成された硬化物質を含む微細構造体を生産性よく製造できる製造方法を提供する。 【解決手段】（ａ）表面に微細構造１４に対応する反転構造が形成されかつその表面が含フッ素重合体を含むモールドの表面に、硬化性物質を含む溶液または硬化性物質からなる液体を供給して記モールドの表面に前記溶液または液体の層を形成する工程と、（ｂ）前記含フッ素重合体の軟化温度未満で前記層が溶媒を含む場合は溶媒を除去し、硬化性物質が硬化前駆体となるまで硬化反応を進める工程と、（ｄ）硬化前駆体の層を有するモールドから硬化前駆体の層を分離して硬化前駆体の成形体を得る工程と、（ｅ）硬化前駆体を硬化させて、表面に微細構造１４が形成された硬化物質１６を含む微細構造体１０を得る工程とを有する微細構造体１０の製造方法。 【選択図】図１

Production method of molding having fine pattern on surface

【課題】表面に微細パターンを有する成型体の製造方法において、スピンコート法等により薄膜に形成された光重合性組成物を保持し、精度よく微細パターンを有する成型体を製造できる方法を提供する。 【解決手段】前記微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドと基板との間に、第１の紫外線の照射により半硬化してなる光重合性組成物の半硬化層を挟持する第１の工程と、前記モールドおよび前記基板により加圧した状態で、前記光重合性組成物の半硬化層に第２の紫外線の照射を行い、前記半硬化層を硬化層とする第２の工程と、前記光重合性組成物の硬化層から前記モールドを分離する第３の工程を有する、表面に微細パターンを有する成型体の製造方法を提供する。 【選択図】図１

Photocurable composition and process for producing molded product having fine pattern on its surface

To provide a photocurable composition whereby it is possible to obtain a cured product having both a release property and flexibility, and a process whereby it is possible to produce a flexible molded product having on its surface a fine pattern having a reverse pattern of a mold precisely transferred. A photocurable composition comprising a compound (A) having at least two urethane bonds and at least two (meth)acryloyloxy groups and having a mass average molecular weight of less than 2,000, a compound (B) having a fluorine atom and at least one carbon-carbon unsaturated double bond, a compound (C) having one (meth)acryloyloxy group, a photopolymerization initiator (D), and a fluorinated surfactant (E), wherein in the total (100 mass %) of (A) to (E), (A) is from 10 to 50 mass %, (B) is from 5 to 35 mass %, (C) is from 15 to 75 mass %, (D) is from 1 to 12 mass %, and (E) is from 0.1 to 5 mass %, is used.

Resist composition

The following resist composition of chemical amplification type, which is excellent in transparency to light beams and dry etching properties and gives a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, evenness, heat resistance, etc. A resist composition which comprises a fluoropolymer (A) comprising monomer units (a) of a fluorovinyl monomer having —CF 2 —OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group) and monomer units (b) of an alicyclic ethylenic monomer, an acid-generating compound (B) which generates an acid upon irradiation with light, and an organic solvent (C).

Wire grid polarizer and method for producing the same

The present invention provides a wire-grid polarizer showing high polarization separation ability in the visible light region and is excellent in heat resistance and durability; and a process for producing such a wire-grid polarizer with high productivity, which enables to produce a polarizer of large area. A process for producing a wire-grid polarizer, comprising a step of coating a supporting substrate with a photocurable composition, a step of pressing a mold having a plurality of parallel grooves at a constant pitch against the photocurable composition so that the grooves contact with the photocurable composition, a step of curing the photocurable composition in a state that the mold is pressed against the photocurable composition, to form a light-transmitting substrate having a plurality of ridges corresponding to the grooves of the mold, a step of separating the mold from the light-transmitting substrate, and a step of forming fine metalic wires on the ridges of the light-transmitting substrate.

Fluoropolymer

A fluoropolymer suitable for use as a base polymer for resist materials for excimer lasers emitting light with a wavelength of 250 nm or shorter. The fluoropolymer has monomer units formed by the cyclopolymerization of a fluorinated diene compound represented by the following formula (3): CF2=CFCF2-C(CF3)(R5)-CH2CH=CH2 (3) wherein R5 represents either hydroxy blocked with -CHR7-O-R8 or an organic group having the hydroxy; and R8 represents an optionally substituted, cyclic, saturated hydrocarbon, e.g., cycloalkyl, or an organic group having the cyclic saturated hydrocarbon.

Photocurable composition and process for producing molded object having fine pattern in surface

A photocurable composition which can give a cured object excellent in releasability and mechanical strength; and a process for producing a molding with excellent durability which has, in a surface thereof, a fine pattern which is a precisely transferred pattern reverse to the pattern of a mold. The photocurable composition (20) comprises: 15-60 mass% compound (A) which is either an aromatic compound having two or more rings or an alicyclic compound having two or more rings and has two (meth)acryloyloxy groups; 5-40 mass% compound (B) having a fluorine atom and one or more carbon-carbon unsaturated double bonds (provided that the compound (A) is excluded); 10-55 mass% compound (C) having one (meth)acryloyloxy group (provided that the compound (B) is excluded); and 1-12 mass% photopolymerization initiator (D) (provided that (A)+(B)+(C)+(D)=100 mass%).

Photocurable composition and manufacturing method for a molded body having a fine pattern on the surface

Resist composition

Resist composition

【課題】ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線やＦ 2 エキシマレーザー等の真空紫外線に対して用いられる、放射線の透過性に優れ、耐ドライエッチング性に優れたレジスト組成物の提供。 【解決手段】フッ素原子を１つ以上含む有機基でブロック化された酸性基とブロック化されていない酸性基とを有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物（Ｂ）および有機溶媒（Ｃ）を含むことを特徴とするレジスト組成物。 【選択図】なし

Resist composition

Curable composition, process for producing fine structure, and method of forming pattern

Resistzusammensetzung

Lichthärtbare zusammensetzung und verfahren zur herstellung eines formobjekts mit feiner oberflächenstruktur

床暖房パネル構造

(57)【要約】 【課題】 確実に固定することができるものでありなが ら、外観上での見栄えを良くすることができる床暖房パ ネル構造を提供することにある。 【解決手段】 両側の側面にそれぞれ凹溝（１４）を形 成した床暖房用のパネル本体（２）があって、このパネ ル本体（２）の一側側面を上記凹溝（１４）を挟んで下 側が上側よりも側方へ突出した下突出実（９）となし、 同パネル本体（２）の他側側面を上記凹溝（１４）を挟 んで上側が下側よりも側方へ突出した上突出実（８）と なし、この上突出実（８）と下突出実（９）とが同凹溝 （１４）に嵌合するやとい実（５）を介して、しかも、 このやとい実（５）の下方に位置する固定具（７）で連 結固定されてなる。

Imprinting mold and process for its production

To provide an imprinting mold, of which a coating layer formed on its surface is hardly susceptible to peeling, and a process for its production. An imprinting mold comprising a mold body and a coating layer made of a release agent, formed on the surface of the mold body, wherein the release agent contains a compound of the following formula (1), and a process for its production: wherein R is Rf-X-, both R are the same group, Rf is a perfluoroalkyl group, X is at least one member selected from —(OC 3 F 6 )—, —(OC 2 F 4 )— and —(OCF 2 )—, provided that the sum of such units is at least 1, Y is an organic group, is an average of n is from 2 to 10, Z is —Si(R 1 ) m (R 2 ) 3-m , R 1 is a hydroxyl group or a hydrolysable group, R 2 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and m is from 1 to 3.

Imprint mold and method for production thereof

Imprinting mold and process for its production

To provide an imprinting mold, of which a coating layer formed on its surface is hardly susceptible to peeling, and a process for its production. An imprinting mold comprising a mold body and a coating layer made of a release agent, formed on the surface of the mold body, wherein the release agent contains a compound of the following formula (1), and a process for its production: wherein R is Rf—X—, both R are the same group, Rf is a perfluoroalkyl group, X is at least one member selected from —(OC 3 F 6 )—, —(OC 2 F 4 )— and —(OCF 2 )—, provided that the sum of such units is at least 1, Y is an organic group, is an average of n is from 2 to 10, Z is —Si(R 1 ) m (R 2 ) 3-m , R 1 is a hydroxyl group or a hydrolysable group, R 2 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and m is from 1 to 3.

二重床の構造

(57)【要約】 【課題】 施工済みの床パネルを剥がすことなく簡単に 目的とする支持強度に補強することができ、補強工事の 時間及びコストを大幅に削減できる。 【解決手段】 床板１の下面に脚２を突設して床パネル ３を構成し、この床パネル３の脚２をスラブのような床 基材４に載設した二重床である。床板１の脚２を設けた 部分以外の部分に補助孔５をあける。補助孔５に上方か ら装着されるナット具１２を取付ける。ナット具１２に 上方から挿入された補助脚１０の雄ねじ部１１をナット 部７に螺合する。補助脚１０を床基材４に載置する。

Surface modifier and article having coating film containing the same

Process for producing mold

ｎ型熱電変換材料およびその製造方法

(57)【要約】 （修正有） 【課題】熱電変換効率が高く、８００℃以上の耐熱性を 備え、廃熱から電気エネルギーを取り出す用途での実用 的なｎ型熱電変換材料を提供する。 【解決手段】β型炭化ケイ素を８０〜９９％、金属窒化 物を１〜１０％、金属ホウ化物を０〜５％、窒素含有有 機物を０〜８％、それぞれ含む原料を成形後、窒素ガス 雰囲気下１８００〜２３００℃で焼結してｎ型熱電変換 材料とする。

床暖房パネル構造

(57)【要約】 【課題】 表層ピースの浮き上がりを防止することがで きる床暖房パネル構造を提供することにある。 【解決手段】 表面に溝（１０）を有するように表層材 （６）が貼られている床暖房用のパネル本体（２）があ って、このパネル本体（２）内に床暖房用の配線スペー ス（１１）を設け、この配線スペース（１１）の結線部 分上方に上記溝（１０）部分で分割されて別体となした 蓋状の表層ピース（１）がそれぞれ配設され、さらに、 この表層ピース（１）が、上記表層材（６）との突き合 わせ部分（４）にそれぞれ合决り実（３）を有している ものである。

床暖房パネル構造

(57)【要約】 【課題】 敷設された際に床暖房パネルと他の床パネル との境目が外観上で違和感をなくすことができる床暖房 パネル構造を提供することにある。 【解決手段】 ヒーター（３）を内蔵し、かつ、このヒ ーター（３）の配線（７）が表側からなされるように表 配線部（４）を設けた床暖房パネル（１）があって、こ の床暖房パネル（１）を階段状にずらした形状となし、 さらに、同床暖房パネル（１）において、上記表配線部 （４）を有する一側部の突出部分（６）以外に上記ヒー ター（３）が内蔵されている。

Mold-releasing film

床暖房装置の補修方法

【課題】 床暖房パネルのパネル間接続部の位置特定を容易とし、仕上げ床材の剥離を必要最小限として接続部での配線・配管処置を簡便に、効率的に行うことのできる、改善された新しい補修方法を提供する。 【解決手段】 床暖房パネル（１）が敷設され、その上に仕上げ床材（２）が敷き詰められた床暖房装置の補修方法であって、床暖房パネル（１）の表面の配線もしくは配管の接続位置を指し示すための所定位置に位置確認プレート（３）を設け、仕上げ床材（２）の上から確認手段を用いて位置確認プレート（３）を検知することで、床暖房パネル（１）の配線もしくは配管の接続部（１１）の位置を確認し、この位置確認プレート（３）の上の仕上げ床材（２）を剥がして床暖房パネルの配線・配管処置を行い、仕上げ床材（２）を再度敷設する。 【選択図】図１

畳床暖房装置

【課題】畳床の種類を少なくしてコストを削減すると共にレイアウトを自由に変更できるようにし、簡単な施工で複数の畳床に給電でき、尚且つ本物の畳に近い外観を有する畳床暖房装置を提供する。 【解決手段】畳床２に内蔵したヒータ５により床暖房を行う畳床暖房装置１である。該畳床暖房装置１は畳床２のヒータ５に給電するための長尺状の畳縁を模した給電部材３を有している。給電部材３の側面に給電用接続部１１を設ける。畳床２の側面に給電部材接続部を設ける。畳床２を側面が給電部材３の側面に沿うように配置する。給電部材３の給電用接続部１１に畳床２の給電部材接続部を電気的に接続する。 【選択図】　　　　図１

Resist composition

Resist composition

A resist composition which can easily form a resist pattern excellent in transparency for vacuum ultraviolet rays such as an F 2 excimer laser or the like and dry etching characteristics and further excellent in sensitivity, resolution, flatness, thermal resistance and the like, is provided. The resist composition, characterized by comprising (A) a fluorine-containing polymer having an acidic group blocked with a blocking group containing a cycloalkyl group, an organic group having one or more of cycloalkyl groups, a bicycloalkyl group or the like, (B) an acid generating compound capable of generating an acid by irradiation with a light, and (C) an organic solvent.

塗布ノズル、及び、塗布方法

【課題】粘性材料を幅広く均一に塗布することができるとともに、樹脂成形がしやすく、製造コストを低減しやすい形状の塗布ノズル、及び、この塗布ノズルを用いた塗布方法を提供する。【解決手段】塗料又は接着剤等の粘性材料Ｂが内部に収容された容器Ｃの材料導出口部Ｃ１に取り付けられる塗布ノズル１００であって、基端側に設けられた前記容器Ｃの前記材料導出口部Ｃ１に取り付けられる取付口部１と、前記粘性材料Ｂが外部へ吐出される複数の吐出口３１が一列に並べて設けられた粘性材料吐出部３と、を備え、前記粘性材料吐出部３が、基端側から先端側に向かって傾斜させて設けられており、前記複数の吐出口３１のうち最も先端側に配置された吐出口３１Ａを他の吐出口３１よりも大きく形成した。【選択図】図1

Resist composition