一种在线监测直拉单晶炉内长晶界面形状的方法
Номер патента: CN108950679A
Опубликовано: 07-12-2018
Автор(ы): 丁俊岭, 刘立军
Принадлежит: Xian Jiaotong University
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 07-12-2018
Автор(ы): 丁俊岭, 刘立军
Принадлежит: Xian Jiaotong University
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of growing nonpolar epitaxial heterostructures based on group iii element nitrides
Номер патента: RU2315135C2. Автор: Наум Петрович Сощин,Сергей Александрович Сахаров,Владимир Владимирович Аленков,Николай Валентинович Щербаков,Владимир Семенович Абрамов,Валерий Петрович Сушков,Владимир Александрович Горбылев. Владелец: Владимир Семенович Абрамов. Дата публикации: 2008-01-20.