Method for making photolithography mask plate
Номер патента: US11747730B2
Опубликовано: 05-09-2023
Автор(ы): Dong An, Li-Hui Zhang, Mo Chen, Qun-Qing Li, Shou-Shan Fan, Yuan-Hao Jin
Принадлежит: Hon Hai Precision Industry Co Ltd, TSINGHUA UNIVERSITY
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-09-2023
Автор(ы): Dong An, Li-Hui Zhang, Mo Chen, Qun-Qing Li, Shou-Shan Fan, Yuan-Hao Jin
Принадлежит: Hon Hai Precision Industry Co Ltd, TSINGHUA UNIVERSITY
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for making microstructures and photolithography mask plate
Номер патента: US20200150525A1. Автор: Shou-Shan Fan,Qun-Qing Li,Li-Hui Zhang,Mo Chen,Yuan-Hao Jin,Dong An. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.