METHODS OF LOW TEMPERATURE DEPOSITION OF CERAMIC THIN FILMS
Номер патента: US20150329965A1
Опубликовано: 19-11-2015
Автор(ы): Dusza Peter Joseph, Gadgil Prasad Narhar
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-11-2015
Автор(ы): Dusza Peter Joseph, Gadgil Prasad Narhar
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Process for low temperature atomic layer deposition of Rh
Номер патента: US20020197814A1. Автор: Stefan Uhlenbrock,Eugene Marsh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-26.