Apparatus and methods for end point determination in reactive ion etching

21-05-2013 дата публикации

Номер:

US8445296B2

Автор: Chien Rhone Wang, Chih-Wei Lai, Hung-Pin Chang, Tsang-Jiuh Wu, Tzu-Cheng Lin, Yu-Jen Cheng

Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd

Контакты:

Номер заявки:

Дата заявки: