Настройки

Укажите год
-

Небесная энциклопедия

Космические корабли и станции, автоматические КА и методы их проектирования, бортовые комплексы управления, системы и средства жизнеобеспечения, особенности технологии производства ракетно-космических систем

Подробнее
-

Мониторинг СМИ

Мониторинг СМИ и социальных сетей. Сканирование интернета, новостных сайтов, специализированных контентных площадок на базе мессенджеров. Гибкие настройки фильтров и первоначальных источников.

Подробнее

Форма поиска

Поддерживает ввод нескольких поисковых фраз (по одной на строку). При поиске обеспечивает поддержку морфологии русского и английского языка
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Укажите год
Укажите год

Применить Всего найдено 18. Отображено 18.
05-11-2014 дата публикации

感放射線性樹脂組成物

Номер: JP0005617504B2
Принадлежит:

Подробнее
24-02-2016 дата публикации

フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法

Номер: JP0005867298B2
Принадлежит:

Подробнее
07-10-2015 дата публикации

フォトレジスト組成物

Номер: JP0005790382B2
Принадлежит:

Подробнее
14-04-2011 дата публикации

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST AND POLYMER

Номер: JP2011075750A
Принадлежит:

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive resin composition having not only excellent sensitivity and resolution but also large depth of focus and excellent pattern peel-off resistance even on a substrate with high reflectivity. SOLUTION: The radiation sensitive resin composition for a chemically amplified resist is provided, which contains (A) a polymer having a repeating unit derived from a compound having a plurality of hydroxyl groups, such as glycerol monomethacrylate and (D) a solvent. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT ...

Подробнее
17-06-2015 дата публикации

化合物、重合体及びフォトレジスト組成物

Номер: JP0005737114B2
Принадлежит:

Подробнее
18-05-2016 дата публикации

化合物

Номер: JP0005920435B2
Принадлежит:

Подробнее
06-04-2016 дата публикации

レジストパターン形成方法

Номер: JP0005900066B2
Принадлежит:

Подробнее
12-11-2014 дата публикации

イオンプランテーション用フォトレジストパターン形成方法。

Номер: JP0005621275B2
Принадлежит:

Подробнее
07-10-2015 дата публикации

フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法

Номер: JP0005790549B2
Принадлежит:

Подробнее
24-07-2001 дата публикации

BASKET TYPE CENTRIFUGAL FILTER APPARATUS AND CENTRIFUGAL FILTERING METHOD

Номер: JP2001198489A
Принадлежит:

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optimum apparatus and a method capable of recovering a floating component, a solid and a filtrate impossible to recover heretofore by a conventional basket type centrifugal filter apparatus or capable of classifying the floating component and a sedimentation component. SOLUTION: In a basket type centrifugal filter apparatus provided with a rotary basket having filter cloth provided on the inner peripheral surface thereof under tension through a screen member to form a filter chamber, a siphon chamber provided so as to communicate with the filtrate side of the rotary basket, a siphon pipe for sucking and discharging the filtrate in the siphon chamber and variable in immersion depth, a raw liquid supply pipe for supplying a raw liquid into the rotary basket, a scraping knife for scraping off cake formed on the inner peripheral surface of the rotary basket and a discharge chute discharging the cake scraped off by the scraping knife, the height of the rim ...

Подробнее
07-10-2015 дата публикации

フォトレジスト組成物

Номер: JP0005790529B2
Принадлежит:

Подробнее
04-03-2015 дата публикации

感放射線性樹脂組成物、重合体及び化合物

Номер: JP0005678963B2
Принадлежит:

Подробнее
17-06-2015 дата публикации

液浸上層膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法

Номер: JP0005737211B2
Принадлежит:

Подробнее
18-01-1994 дата публикации

スキミング式遠心濾過機

Номер: JP0006003451U
Автор: 池田 憲彦
Принадлежит:

... 【目的】静電塗装により耐腐食性の高い合成樹脂の均一なコ-ティング膜を被膜することができる構造のスキミング式遠心濾過機を提供する 【構成】バスケットの底板の周端部を介してスキミング室に隣接して設けられる環状のリング室と,該リング室に嵌着されてバスケットのスクリ-ンと底板の周端部に設けられる開口を連通する通液孔を有する通液リングとを備えたことを特徴とするスキミング式遠心濾過機 ...

Подробнее
11-05-2016 дата публикации

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

Номер: JP0005915327B2
Принадлежит:

Подробнее
16-02-2016 дата публикации

フォトレジスト組成物

Номер: JP0005862657B2
Принадлежит:

Подробнее
02-09-2015 дата публикации

フォトレジスト組成物

Номер: JP0005772417B2
Принадлежит:

Подробнее
24-09-2015 дата публикации

フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法

Номер: JP0005783111B2
Принадлежит:

Подробнее