Настройки

Укажите год
-

Небесная энциклопедия

Космические корабли и станции, автоматические КА и методы их проектирования, бортовые комплексы управления, системы и средства жизнеобеспечения, особенности технологии производства ракетно-космических систем

Подробнее
-

Мониторинг СМИ

Мониторинг СМИ и социальных сетей. Сканирование интернета, новостных сайтов, специализированных контентных площадок на базе мессенджеров. Гибкие настройки фильтров и первоначальных источников.

Подробнее

Форма поиска

Поддерживает ввод нескольких поисковых фраз (по одной на строку). При поиске обеспечивает поддержку морфологии русского и английского языка
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Укажите год
Укажите год
Применить Всего найдено 2. Отображено 2.
19-03-2025 дата публикации

Substrate process apparatus substrate process system including the same plasma detect method using the same and substrate process method using the same

Номер: KR20250038530A
Автор: 강찬수, 강대원, 김민주, 김태현, 남상기, 성덕용, 양정모, 오세진, 임건희, 임준호
Принадлежит:

A substrate processing apparatus includes a process chamber providing a process space, a stage located in the process chamber and configured to support a substrate, a window coupled to a side of the process chamber, and a scintillator layer coupled to one side surface of the window. The scintillator layer covers a portion of the one side surface of the window which is less than the full window surface. A second surface corresponding to another portion of the one side surface of the window is exposed. Light emitted by a plasma in the process space passes through the window and is collected by an optical system and analyzed. Ultraviolet light passing through the scintillator is converted to longer wavelength, generally visible, light. Comparing the light passing through the bare window with the light passing through the scintillator layer enables analysis of the plasma.

Подробнее
Номер записи: 1
16-03-2023 дата публикации

플라즈마 챔버의 RF 센싱 장치 및 이를 포함하는 플라즈마 챔버

Номер: KR102509641B1
Автор: 김영도, 임성용, 강찬수, 권도훈, 김민주, 남상기, 양정모, 피종훈, 한규희
Принадлежит: 삼성전자주식회사

... 본 발명은 플라즈마 발생 챔버의 RF 센싱 장치에 관한 것으로서, 예시적인 실시예들에 따른 플라즈마 챔버의 RF 센싱 장치는, 상하 방향으로 개방된 관통부; 상기 관통부의 측면의 전부 또는 일부를 둘러싸는 주 귀환 경로부; 상기 관통부와 상기 주 귀환 경로부 사이에 위치하고, 상기 주 귀환 경로부와 이격하며, 상기 관통부의 전부 또는 일부를 둘러싸는 부 귀환 경로부를 포함하며, 상기 주 귀환 경로부 및 상기 부 귀환 경로부는 상기 상하 방향 중 어느 일 방향으로 전류가 흐르게 하는 경로를 포함할 수 있다.

Подробнее
Номер записи: 2