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05-07-2018 дата публикации

APPARATUS FOR MANUFACTURING PHOTOVOLTAIC ELEMENT AND METHOD THEREFOR

Номер: WO2018124632A1
Принадлежит:

An apparatus for manufacturing a photovoltaic element according to the present invention may comprise: a first heating unit for heating a wafer to a temperature higher than or equal to a heating temperature; a cooling unit for cooling the wafer that has passed through the first heating unit to a temperature lower than or equal to a cooling temperature; a second heating unit for reheating the wafer that has passed through the cooling unit to a temperature higher than or equal to a maintaining temperature; a maintaining unit for maintaining the wafer that has passed through the second heating unit to be at the maintaining temperature for a set time period; and an illumination unit, disposed at the maintaining unit or disposed at the rear end of the maintaining unit, for illuminating the wafer at a temperature higher than or equal to an illumination temperature.

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09-01-2018 дата публикации

인라인 퍼니스 장치

Номер: KR0101815881B1
Принадлежит: 주식회사 한화

... 본 발명의 인라인 퍼니스 장치는 외부의 열 또는 광을 차단하는 열 챔버 유니트;와상기 열 챔버 유니트의 일측 입구로부터 타측 출구까지 웨이퍼를 반송하는 컨베이어 벨트부; 를 포함하고, 상기 웨이퍼는 소수 캐리어(Minority Carrier)에 따라 태양광 흡수 성능이 영향을 받도록 P형 반도체에 N 도핑된 웨이퍼로서, 상기 컨베이어 벨트부에 의하여 상기 열 챔버 유니트 내부로 이송될 때, 상기 열 챔버 유니트는 상기 웨이퍼의 N형 반도체 영역에서 결합된 붕소(Boron)가 상기 웨이퍼의 실리콘과 결합되도록, 각기 개별 제어되는 제1 인자와 제2 인자를 상기 웨이퍼에 한꺼번에 가할 수 있다.

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24-11-2016 дата публикации

유량 모니터링 장치

Номер: KR0101678883B1

... 본 발명의 유량 모니터링 장치는 공압에 의해 챔버의 게이트 셔터를 개폐시키는 개폐 유니트; 상기 개폐 유니트로 상기 공압을 유발하는 공기를 공급하는 공급 유니트; 및 상기 개폐 유니트와 상기 공급 유니트의 사이에서 상기 공기의 유량을 측정하는 제1 유량 측정부;를 포함할 수 있다.

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04-01-2018 дата публикации

INLINE FURNACE APPARATUS

Номер: KR1020180000882A
Принадлежит:

An inline furnace apparatus according to the present invention includes: a heat chamber unit for blocking external heat or light; and a conveyor belt unit for conveying a wafer from one side inlet to the other side outlet of the heat chamber unit. The wafer is a wafer N-doped with a P-type semiconductor so that solar absorption performance is influenced by a minority carrier. When the wafer is conveyed into the heat chamber unit by the conveyor belt unit, the heat chamber unit applies a first factor and a second factor which are individually controlled to the wafer at the same time so that boron bonded on an N-type semiconductor region of the wafer is combined with silicon of the wafer. Accordingly, the present invention can prevent the efficiency deterioration of a solar cell. COPYRIGHT KIPO 2018 ...

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14-01-2019 дата публикации

광기전력 소자 제조 장치 및 제조 방법

Номер: KR0101912772B1
Принадлежит: 주식회사 한화

... 본 발명의 광기전력 소자 제조 장치는 웨이퍼를 가열 온도 이상으로 가열하는 제1 가열부; 상기 제1 가열부를 통과한 상기 웨이퍼를 냉각 온도 이하로 냉각시키는 냉각부; 상기 냉각부를 통과한 상기 웨이퍼를 유지 온도 이상으로 재가열하는 제2 가열부; 상기 제2 가열부를 통과한 상기 웨이퍼를 설정 시간동안 상기 유지 온도로 유지시키는 유지부; 상기 유지부에 배치되거나 상기 유지부의 후단에 배치되고, 상기 웨이퍼를 조명 온도 이상에서 조명하는 조명부;를 포함할 수 있다.

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06-09-2016 дата публикации

FLOW RATE MONITOR DEVICE

Номер: KR1020160104832A
Принадлежит:

A flow rate monitor device of the present invention comprises: an opening/closing unit which opens/closes a gate shutter of a chamber by air pressure; a supply unit which supplies air inducing the air pressure to the opening/closing unit; and a first flow rate measuring unit which measures a flow rate of the air between the opening/closing unit and the supply unit. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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04-07-2018 дата публикации

APPARATUS FOR MANUFACTURING PHOTOVOLTAIC ELEMENT AND METHOD THEREOF

Номер: KR1020180075305A
Принадлежит:

According to the present invention, an apparatus for manufacturing a photovoltaic element with increased efficiency and safety of a silicon substrate comprises: a first heating unit for heating a wafer at a heating temperature or more; a cooling unit cooling the wafer passed through the first heating unit at a cooling temperature or less; a second heating unit reheating the wafer passed through the cooling unit at a temperature higher than a holding temperature; a holding unit holding the wafer passed through the second heating unit at the holding temperature for a set time; and an illumination unit disposed in the holding unit or disposed at a rear end of the holding unit and illuminating the wafer at an illumination temperature or higher. COPYRIGHT KIPO 2018 ...

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