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05-06-2015 дата публикации

METHOD OF CONTROLLING PROCESS UNIFORMITY, PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF LOCALLY DEFORMING A SUBSTRATE

Номер: KR0101526615B1
Автор: 순다라라잔 라드하, 첸 리, 펑크 메릿
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 시스템 또는 처리로부터 발생하는 불균일성을 포함한 불균일한 결과를 보상하기 위해 처리 중에 기판 전체에 걸쳐 반경 방향 또는 비반경 방향의 온도 분포의 제어가 이루어진다. 웨이퍼 전체에 걸쳐 열전도를 변경하기 위해 웨이퍼 지지 척[기판 지지 테이블(20, 20a)] 위의 상이한 영역들 전체에 걸쳐 후면 가스를 상이하게 흐르게 함으로써 온도를 바람직하게는 동적으로 제어한다. 지지 테이블(20, 20a) 내의 포트(26, 26a)가 그룹화되고, 시스템 및 처리 불균일성을 보상하기 위해 상기 영역 각각에서의 가스압을 제어하여 웨이퍼 온도를 공간적으로 그리고 바람직하게는 동적으로 제어하는 컨트롤러(35)에 응답하는 상이한 밸브(32)에 의해 그룹에 대한 가스가 개별적으로 제어된다. 포트(26, 26a)와 상기 포트(26, 26a) 주변의 포트(26, 26a)에의 가스 흐름에 영향을 미치는 밸브(32)를 동적으로 개별 제어함으로써, 기판의 후면에 가해진 국소력을 제어하기 위하여 상이한 포트(26, 26a)에서 후면 가스압을 개별적으로 제어하여 웨이퍼 변형에 영향을 미친다.

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Номер записи: 1
12-11-2015 дата публикации

METHOD FOR ESTABLISHING MULTI-LAYER/MULTI-INPUT/MULTI-OUTPUT(MLMIMO) MODEL AND METHOD FOR USING THE SAME

Номер: KR0101568879B1
Автор: 펑크 메릿, 순다라라잔 라드하, 이 형주, 프레이저 다이엘 제이, 야마시타 아사오
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은 다층 프로세싱 시퀀스 및 다층/다중입력/다중출력(MLMIMO : Multi-Layer/Multi-Input/Multi-Output) 모델 및 라이브러리를 이용하여 기판을 프로세싱하는 방법을 제공하고, 상기 다층/다중입력/다중출력 모델 및 라이브러리는 하나 이상의 마스킹 층 생성 프로시저, 하나 이상의 사전-프로세싱 측정 프로시저, 하나 이상의 부분-에칭(P-E) 프로시저, 하나 이상의 최종-에칭(F-E) 프로시저, 및 하나 이상의 프로세싱 이후의 측정 프로시저를 포함할 수 있다.

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Номер записи: 2
19-06-2015 дата публикации

USING MULTI-LAYER/MULTI-INPUT/MULTI-OUTPUT (MLMIMO) MODELS FOR METAL-GATE STRUCTURES

Номер: KR0101530098B1
Автор: 펑크 메릿, 순다라라잔 라드하, 야마시타 아사오, 프레이저 다이엘 제이, 이 형주
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은 하나 이상의 측정 절차, 하나 이상의 폴리 에칭(P-E)시퀀스 및 하나 이상의 금속 게이트 에칭 시퀀스를 포함할 수 있는 다층 처리 시퀀스 및 다층/다중입력/다중출력(MLMIMO; Multi-Layer/Multi-Input/Multi-Output) 모델 및 라이브러리를 이용하여 웨이퍼를 프로세싱하는 방법을 제공한다. MLMIMO 프로세스 제어는 복수층 사이의 동적 상호 행동 모델링 및/또는 복수의 프로세스 단계를 이용한다. 다층 및/또는 복수의 프로세스 단계는, 등방성 및/또는 이방성 에칭 프로세스를 이용하여 생성될 수 있는 라인, 트렌치, 비어, 스페이서, 컨택트 및 게이트 구조의 생성과 연관될 수 있다.

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Номер записи: 3