Настройки

Укажите год
-

Небесная энциклопедия

Космические корабли и станции, автоматические КА и методы их проектирования, бортовые комплексы управления, системы и средства жизнеобеспечения, особенности технологии производства ракетно-космических систем

Подробнее
-

Мониторинг СМИ

Мониторинг СМИ и социальных сетей. Сканирование интернета, новостных сайтов, специализированных контентных площадок на базе мессенджеров. Гибкие настройки фильтров и первоначальных источников.

Подробнее

Форма поиска

Поддерживает ввод нескольких поисковых фраз (по одной на строку). При поиске обеспечивает поддержку морфологии русского и английского языка
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Укажите год
Укажите год
Применить Всего найдено 2. Отображено 2.
15-05-2017 дата публикации

SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND SUBSTRATE CLEANING METHOD USING SAME

Номер: KR1020170052866A
Автор: AN, JOON HO, LEE, YOUNG KYUN, YOON, CHAN SANG, KIM, YOUNG A
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate cleaning apparatus. The substrate cleaning apparatus includes a substrate support for supporting a substrate; and a cleaning brush which touches and cleans the substrate while rotating, and has a separation distance for maintaining a contact state between the center of rotation and the substrate surface which varies during a cleaning process. The frictional force of a cleaning brush for pressing the substrate is changed by varying the distance between the rotation center of the cleaning brush and the substrate. It is possible to greatly improve the removal effect of not only large defect of 100μm or more but also fine defect of 40μm to 100 nm remaining on the surface of the substrate. COPYRIGHT KIPO 2017 (AA) Part A ...

Подробнее
Номер записи: 1
29-03-2018 дата публикации

기판 세정 장치 및 이를 이용한 기판 세정 방법

Номер: KR0101829640B1
Автор: 안준호, 이영균, 윤찬상, 김영아
Принадлежит: 주식회사 케이씨텍

... 본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 기판을 지지하는 기판 지지부와; 회전하면서 기판을 접촉 세정하되, 회전 중심과 상기 기판 표면까지 접촉 상태를 유지하는 이격 거리가 세정 공정 중에 변동되는 세정 브러쉬를; 포함하여 구성되어, 세정 브러쉬의 회전중심과 기판과의 거리를 변동시키는 것에 의하여 기판을 가압하는 세정 브러쉬의 마찰력이 변동하면서, 기판의 표면에 잔류하는 100㎛ 이상의 큰 이물질 뿐만 아니라 40㎛ 내지 100nm 이하의 미세 이물질의 제거 효과를 크게 향상시킬 수 있는 기판 세정 장치를 제공한다.

Подробнее
Номер записи: 2