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21-11-2016 дата публикации

액처리 장치, 액처리 방법, 및 그 액처리 방법을 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 기록 매체

Номер: KR0101678229B1
Автор: 히가시지마 지로
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은 기판의 상면측에서 가스를 공급하고 기판의 하면측에서 처리액을 공급하여, 공급된 처리액에 의해 기판의 하면을 처리하는 액처리 장치에 있어서, 톱플레이트의 위치를 고정밀도로 위치 결정할 수 있는 액처리 장치 및 액처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 기판(W)의 상면측에서 가스를 공급하고 기판(W)의 하면측에서 처리액을 공급하여, 공급된 처리액에 의해 기판(W)의 하면을 처리하는 액처리 장치(22)에서, 상면에 개구(105)를 갖는 처리 용기(100)와, 처리 용기(100) 안에 설치되며, 기판(W)의 둘레 가장자리부(WE)를 지지하는 지지부(70, 72)와, 승강 가능하게 설치되며, 하강한 상태로 개구(105)를 막는 상판부(110)와, 상판부(110)가 하강할 때에, 처리 용기(100)에 대한 상판부(110)의 상대 위치를 정해진 위치에 위치 결정하는 위치 결정 기구(130)를 갖는다.

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Номер записи: 1
02-05-2016 дата публикации

APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE WITH LIQUID

Номер: KR1020160047394A
Автор: INOUE SHIGEHISA, HIGASHIJIMA JIRO, AKIMITO MASAMI
Принадлежит:

The present invention is to provide an apparatus for processing a substrate with liquid capable of maintaining a nozzle arm to be clean while restraining pollution inside the apparatus. In the apparatus (16) for processing a substrate with liquid, a treatment liquid nozzle (41) maintained in nozzle arms (42, 43) supplies treatment liquid to a substrate (W) maintained in a substrate maintaining unit (31), and an arm cleaning tub (23) immerses the nozzle arms (42, 43) in cleaning liquid and cleans the whole surface of members of the nozzle arms. COPYRIGHT KIPO 2016 (18) Control unit ...

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Номер записи: 2
04-04-2018 дата публикации

기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체

Номер: KR1020180034438A
Автор: 이토 노리히로, 히가시지마 지로, 오가타 노부히로, 오츠카 타카히사, 도키 유이치, 하시모토 유스케, 아이우라 카즈히로, 고토 다이스케
Принадлежит:

... 기판 처리 장치는, 기판 유지부(31)를 둘러싸서 기판에 공급된 처리액 또는 처리액의 미스트를 받는 처리 용기에 대하여 상대적으로 부동인 고정 컵체(51)와, 미스트 가드(80)와, 미스트 가드를 승강시키는 가드 승강 기구(84)를 구비한다. 미스트 가드는, 고정 컵체를 둘러싸도록 고정 컵체의 외측에 마련되고, 고정 컵체의 상방을 넘어 외방으로 비산하는 액을 차단한다. 미스트 가드가, 통 형상의 통부(81)와, 통부의 상단으로부터 고정 컵체를 향하여 돌출하는 돌출부(82)를 가진다.

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Номер записи: 3
20-07-2017 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR1020170084687A
Автор: HIGASHIJIMA JIRO, OGATA NOBUHIRO, HASHIMOTO YUSUKE
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate processing apparatus and a method for cleaning a substrate processing apparatus to remove foreign materials attached to a circumferential wall portion. The substrate processing apparatus according to an embodiment comprises a holding portion, a processing liquid supply portion, a first cup, a second cup, and a cleaning liquid supply portion. The holding portion holds a substrate. The processing liquid supply portion supplies a first processing liquid and a second processing liquid to the substrate. The first cup has a circumferential wall portion, and recovers the first processing liquid through a recovery portion formed by the circumferential wall portion. The second cup is disposed to be adjacent to the first cup, and recovers the second processing liquid. The cleaning liquid supply portion supplies the cleaning liquid to the recovery portion of the first cup. In the substrate processing apparatus, the cleaning liquid supplied by the cleaning ...

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Номер записи: 4
31-05-2016 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер: KR1020160061263A
Автор: WAKIYAMA TERUFUMI, ITO NORIHIRO, HIGASHIJIMA JIRO, BIWA SATOSHI
Принадлежит:

The purpose of the present invention is to prevent a substrate from being stained by inhibiting processing liquid supplied to the substrate from being attached to the substrate after drying the processing liquid. The substrate processing system for processing a substrate according to the present invention comprises: a maintenance plate installed to be able to rotate about a vertical axis; a substrate maintaining member installed on the maintenance plate and maintaining the substrate; a rotation driving part for rotating the substrate, which is maintained on the substrate maintaining member, in a predetermined direction; and a processing fluid supply part for supplying processing liquid to the substrate maintained on the substrate maintaining member. The substrate maintaining member has: a first side surface part formed at a position facing the substrate; and a second side surface part and a third side surface part adjacent to the first side surface part. The first side surface part has ...

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Номер записи: 5
18-01-2018 дата публикации

기판 액처리 장치

Номер: KR0101819952B1
Автор: 히가시지마 지로, 이토 노리히로, 오가타 노부히로, 나가미네 슈이치
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은 기판을 처리액으로 처리하는 기판 액처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 기판 액처리 장치는, 기판을 보지하고, 또한 보지한 기판을 회전시키기 위한 기판 회전 기구와, 기판으로 복수 종류의 처리액을 선택적으로 공급하는 처리액 공급 기구와, 기판으로 공급한 후의 처리액을 회수하기 위한 회수 컵과, 처리액을 회수하기 위하여 회수 컵에 형성한 복수의 액 회수부와, 액 회수부로부터 회수한 처리액을 배출하기 위하여 회수 컵의 저부에 형성한 배액구와, 회수 컵의 배액구보다 상방측에 형성한 배기구와, 배기구의 상방을 소정의 간격을 두고 덮기 위하여 회수 컵에 고정한 고정 커버와, 기판으로 공급한 후의 처리액을 액 회수부로 안내하기 위하여 고정 커버의 상방에서 승강 가능하게 설치된 승강 컵과, 처리액의 종류에 따라 승강 컵을 고정 커버에 대하여 승강시키기 위한 컵 승강 기구를 가지고, 승강 컵에는 구획벽에 승강 가능하게 삽입 관통된 승강 로드가 접속되어 있고, 승강 로드는 컵 승강 기구와 접속되어 있으며, 승강 컵이 승강할 때, 배기구와 고정 커버와의 사이의 상기 소정의 간격은 일정하게 유지되어, 배기 압력의 변동을 방지한다.

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Номер записи: 6
08-02-2017 дата публикации

SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS

Номер: KR1020170015415A
Автор: HIGASHIJIMA JIRO, ITO NORIHIRO, OGATA NOBUHIRO, NAGAMINE SHUICHI
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate liquid processing apparatus for processing a substrate with a processing solution. According to the present invention, the substrate liquid processing apparatus includes: a substrate rotation unit for holding a substrate and rotating the held substrate; a processing solution supply unit for selectively supplying a plurality of kinds of processing solutions to the substrate; a collection cup for collecting the processing solutions after supplying the processing solutions to the substrate; a plurality of solution collection regions formed at the collection cup for collecting the processing solutions; a solution discharge opening formed at a bottom portion of the collection cup for discharging the processing solutions collected from the solution collection regions; an exhaust opening formed above the solution discharge opening of the collection cup; a fixed cover fixed to the collection cup for covering an upper portion of the exhaust opening with ...

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Номер записи: 7
01-06-2015 дата публикации

LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD

Номер: KR0101524903B1
Автор: 히가시지마 지로, 이토 노리히로
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은 기판의 처리 대상면을 하향으로 하여 기판을 처리할 때에, 기판 하면에 부착된 순수를 IPA로 효율적으로 치환하는 것을 목적으로 한다. 기판 처리 방법은, 처리 대상면이 하면이 되도록 기판(W)을 유지하여 회전시키는 공정과, 기판의 하면에 DIW(순수)를 공급하여 기판에 린스 처리를 실시하는 공정과, 그 후, 기판의 하면에 IPA(이소프로필알코올)과 N2 가스를 포함하는 미스트를 공급하여 DIW를 IPA로 치환하는 공정을 포함한다. 미스트의 공급은, 기판의 중심부에 대향하는 위치와 기판의 주연부에 대향하는 위치 사이에 배열된 복수의 토출구(62)를 갖고, 기판의 아래쪽에 설치된 노즐(60)에 의해 이루어진다.

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Номер записи: 8
07-01-2016 дата публикации

LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD

Номер: KR0101583104B1
Автор: 히가시지마 지로, 오가타 노부히로, 가네코 사토시, 나가미네 슈이치, 가이 요시히로
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은, 기판의 하면을 효율적으로 세정할 수 있는 액 처리 장치를 제공한다. 기판 세정 장치(10)는, 기판 유지부에 유지된 기판(W)의 하면의 아래쪽에 위치하여 기판의 하면에 처리액을 토출하는 노즐(60)을 구비한다. 노즐은, 기판의 중앙부에 대향하는 위치로부터 기판의 주연부에 대향하는 위치 사이에 배열된 복수의 제1 토출구(61)를 갖고 있다. 제1 토출구는, 기판의 하면을 향해서 토출되는 처리액의 토출 방향이 기판의 회전 방향의 성분을 갖도록 형성되어 있다.

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Номер записи: 9
07-01-2016 дата публикации

LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD

Номер: KR0101583111B1
Автор: 히가시지마 지로
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은, 노즐을 지지하는 노즐 지지 아암에 부착된 오염에 의해 처리실 내의 기판이 오염되어 버리는 것을 방지할 수 있는 액처리 장치 및 액처리 방법을 제공한다. 본 발명의 액처리 장치(10)는, 기판(W)을 유지하는 기판 유지부(21) 및 그 기판 유지부(21)의 주위에 배치되는 컵(40)이 내부에 설치된 처리실(20)과, 기판 유지부(21)에 유지된 기판(W)에 대하여 유체를 공급하기 위한 노즐(82a)과, 노즐(82a)을 지지하는 노즐 지지 아암(82)을 구비하고 있다. 노즐 지지 아암(82)에는, 노즐 지지 아암(82)의 선단면(82e)을 향해 가스를 분출하는 가스 분출 기구(75)가 마련되어 있다.

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Номер записи: 10
09-03-2017 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR1020170027295A
Автор: HIGASHIJIMA JIRO, OGATA NOBUHIRO
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate processing apparatus which discharges processing fluid without discharge failure depending on a discharge type needed to process. The substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention comprises a nozzle and a pipe. The nozzle discharges processing fluid towards the substrate. The pipe supplies the processing fluid to the nozzle. Also, the pipe has a three-layer structure consisting of a first layer, a second layer and a third layer sequentially from the inside. The nozzle, the front end of the first layer, and the front end of the third layer are coupled, and the front end of the first layer is placed in a place that protrudes less than the front end of the second layer with respect to a discharging direction of the processing fluid. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 11
13-02-2017 дата публикации

액 처리 장치 및 액 처리 방법

Номер: KR0101699984B1
Автор: 히가시지마 지로
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은 처리실 내로 복수의 노즐 지지 아암을 진출시킬 수 있는 액 처리 장치 및 액 처리 방법을 제공한다. 본 발명의 액 처리 장치(10)는, 처리실(20)과, 기판 유지부(21)에 유지된 기판(W)에 대하여 유체를 공급하기 위한 노즐(82a)과, 노즐(82a)을 지지하는 노즐 지지 아암(82)과, 처리실(20)에 인접하여 설치되고, 이 처리실(20)로부터 후퇴한 노즐 지지 아암(82)이 대기하기 위한 아암 대기부(80)를 구비하고 있다. 액 처리 장치(10)에 있어서, 노즐 지지 아암(82p 내지 82u)은 복수 설치되어 있고, 노즐 지지 아암(82p, 82r, 82t)은 노즐 지지 아암(82q, 82s, 82u)과 높이 레벨이 다르게 되어 있다.

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Номер записи: 12
31-03-2016 дата публикации

LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD

Номер: KR0101608105B1
Автор: 히가시지마 지로, 하치야 요스케, 아이우라 가즈히로, 이토 노리히로, 신도 나오키, 이토 유키
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은, 노즐을 지지하는 노즐 지지 아암에 부착된 오물에 의하여 처리실 내의 기판이 오염되는 것을 방지할 수 있는 액 처리 장치 및 액 처리 방법을 제공한다. 본 발명의 액 처리 장치(10)는, 기판(W)을 유지하는 기판 유지부(21) 및 해당 기판 유지부(21)의 주위에 배치되는 컵(40)이 내부에 설치된 처리실(20)과, 기판 유지부(21)에 유지된 기판(W)에 대하여 유체를 공급하기 위한 노즐(82a)과, 노즐(82a)을 지지하는 노즐 지지 아암(82)을 구비하고 있다. 액 처리 장치(10)에는, 노즐 지지 아암(82)을 세정하기 위한 아암 세정부(88)가 설치된다.

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Номер записи: 13
31-08-2015 дата публикации

LIQUID PROCESSING APPARATUS

Номер: KR0101548754B1
Автор: 히가시지마 지로, 난바 히로미츠
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은, 처리액이 공급되는 기판의 하면측 분위기로부터, 처리액이 공급되지 않는 기판의 상면측으로 분위기가 둘러 들어가는 것을 방지하고, 상하 양면측의 분위기를 분리하기 위해서 공급되는 퍼지 가스의 소비량을 억제하는 것이 가능한 액처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 수평으로 유지한 기판의 하면에 처리액을 공급하는 본 발명의 액처리 장치(2)에 있어서, 포위 부재(4)는 기판(W)으로부터 비산된 처리액을 받아내며, 상판부(5)는 수평으로 유지된 기판(W)의 상면에 대향하도록 배치되고, 가스 공급부(53, 531)는 상판부(5)와 기판(W) 사이에 형성되는 공간에 가압된 가스를 공급한다. 그리고, 기체 유입구(52)는, 상판부(5)와 기판(W) 사이에 형성되는 공간 내부가 부압이 되는 것에 의해, 이 공간의 외부의 분위기의 기체를 이 공간 내로 유입시킨다.

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Номер записи: 14
05-09-2017 дата публикации

기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법

Номер: KR0101770994B1
Автор: 히가시지마 지로, 이토 노리히로, 오가타 노부히로, 나가미네 슈이치
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 회수 컵과는 별개로 기액 분리 장치를 설치할 필요를 없애, 기판 액처리 장치의 소형화를 도모하는 것이다. 본 발명에서는, 처리 공간 내에서 기판을 보지하고, 또한 보지한 기판을 회전시키기 위한 기판 회전 기구와, 기판으로 복수 종류의 처리액을 선택적으로 공급하는 처리액 공급 기구와, 기판으로 공급한 후의 처리액을 회수하기 위한 회수 컵과, 처리액을 회수하기 위하여 회수 컵에 형성한 복수의 액 회수부와, 액 회수부로부터 회수한 처리액을 배출하기 위하여 회수 컵의 저부에 형성한 배액구와, 회수 컵의 배액구보다 상방측에 형성한 배기구와, 배기구의 상방을 소정의 간격을 두고 덮기 위하여 회수 컵에 형성한 고정 커버와, 기판으로 공급한 후의 처리액을 액 회수부로 안내하기 위하여 고정 커버의 상방에 설치한 승강 컵과, 처리액의 종류에 따라 승강 컵을 승강시키기 위한 컵 승강 기구를 가지도록 했다.

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Номер записи: 15
29-12-2017 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, WASHING METHOD FOR SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND RECORDING MEDIUM

Номер: KR1020170143455A
Автор: OGATA NOBUHIRO, ITO NORIHIRO, HIGASHIJIMA JIRO, HASHIMOTO YUSUKE, AIURA KAZUHIRO
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate processing device, a washing method for a substrate processing device, and a recording medium. The purpose of the present invention is to wash a protrusion unit of a cut body of a liquid receiving cup without a stain. Either a first cut body (51) or a second cup body (52) is lifted, so that the two are in a neighboring state. A first gap (G1) between the upper surface of a second protrusion unit (5202) and a gap forming unit (5106) formed on the lower surface of a first protrusion unit (5102) is smaller than a second gap (G2) between the upper surface of the second protrusion unit and a part in which there is no gap forming unit of the first protrusion unit. A washing liquid is supplied to the second gap. As the flow of the washing liquid to flow to the outer side in a radial direction is limited by the narrow first gap, a whole area of a space between the first protrusion unit and the second protrusion unit can be filled with the washing liquid ...

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Номер записи: 16
01-02-2016 дата публикации

LIQUID PROCESSING APPARATUS, LIQUID PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM

Номер: KR0101590661B1
Автор: 히가시지마 지로, 아마노 요시후미
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은 단시간에 피처리 기판의 둘레 가장자리부의 온도를 올려 약액에 의한 처리 효율을 높이는 것이 가능한 액처리 장치 등을 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 액처리 장치는, 연직축 둘레로 회전하는 피처리 기판(W)에, 약액 공급부(62)로부터 약액을 공급하여 액처리를 행하는 액처리 장치(1)에 있어서, 피처리 기판(W)의 상면에 공간을 사이에 두고 대향하도록 마련된 커버 부재(5)에는, 가스 공급구(51)가 마련되어 있고, 이 가스 공급구(51)로부터 공간을 향해 가스를 공급한다. 이 가스는 커버 부재(51)의 둘레 가장자리부에 하방측으로 돌출되어 마련된 돌출부와 피처리 기판(W) 사이의 간극을 통해 상기 공간으로부터 유출된다. 또한 이 공간에는 피처리 기판(W)의 둘레 가장자리부를 가열하는 램프 히터(61)가 피처리 기판(W)의 둘레 방향을 따라 배치되어 있고, 약액 공급부(62)로부터 공급되는 약액은 이 램프 히터(61)의 배치 위치보다 둘레 가장자리부 쪽에 공급된다.

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Номер записи: 17
28-12-2015 дата публикации

LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD

Номер: KR0101580708B1
Автор: 히가시지마 지로, 오가타 노부히로, 가네코 사토시, 나가미네 슈이치, 가이 요시히로
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은, 기판의 하면에 효율적으로 액체 세정 및 2 유체 세정을 행할 수 있는 액 처리 장치를 제공한다. 기판 세정 장치(10)는, 기판 유지부에 유지된 기판(W)의 아래쪽에 위치하여 기판의 하면에 액체와 기체를 혼합하여 이루어지는 2 유체를 토출할 수 있도록 구성된 노즐(60)을 구비한다. 노즐은, 액체를 토출하기 위한 복수의 액체 토출로(67a)와, 기체를 토출하기 위한 복수의 기체 토출로(67b)를 갖고 있다. 노즐은, 복수의 액체 토출로에 각각 대응하는 복수의 액체 토출구(61)를 갖고 있다. 액체 토출구는, 기판 유지부에 유지된 기판의 주연부로부터 안쪽을 향하도록 기판의 아래쪽으로 연장하는 수평선상에 형성되어 있다. 액체 토출구는, 기체 토출로에 기체가 공급되지 않고 액체 토출로에 액체가 공급되고 있을 때에, 액체 토출구로부터 기판의 하면을 향해서 토출되는 액체의 토출 방향이, 기판의 하면을 포함하는 평면에 대하여 회전 구동부에 의해 회전되는 기판의 회전 방향으로 어떤 각도를 이루어 경사지도록 형성되어 있다.

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Номер записи: 18
14-09-2018 дата публикации

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Номер: KR0101899169B1
Автор: 히가시지마 지로, 아마노 요시후미, 오카모토 에이치로, 이토 유키
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은 컵체를 흡인하는 배기 장치의 부담을 저감하면서, 기판에 공급된 처리액이 기판으로부터 비산한 후에 재차 기판에 부착하는 것을 효과적으로 방지하는 것을 목적으로 한다. 기판(W)의 처리중, 링형의 커버 부재(5)는 기판 유지부(3)에 유지된 기판(W) 상면의 둘레 가장자리부를 덮고, 이 둘레 가장자리부보다 반경 방향 내측에 있는 기판의 중앙부는 커버 부재에 덮이지 않고 노출되어 있다. 커버 부재의 하면(52)은, 기판 유지부에 유지된 기판의 상면의 둘레 가장자리부와의 사이에 간극(G)을 형성한다. 컵체(2)의 내부 공간이 배기구(245)를 통해 흡인되면, 커버 부재의 위쪽에 있는 기체가, 커버 부재의 내주면(51)에 둘러싸인 공간 및 간극(G)을 통해, 컵체의 내부 공간에 도입된다.

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Номер записи: 19
08-10-2018 дата публикации

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Номер: KR1020180109911A
Автор: 다카키 야스히로, 우메노 신이치, 나가이 다카시, 모리타 히사시, 오가타 노부히로, 다카마츠 유스케, 히가시지마 지로
Принадлежит:

... 실시형태에 따른 기판 처리 장치는 저류 탱크와, 기판 처리부와, 회수 경로와, 폐기 경로와, 공급 경로와, 전환부와, 전환 제어부를 구비한다. 회수 경로는 기판 처리부에 공급된 혼합액을 저류 탱크에 복귀시킨다. 폐기 경로는 공급된 혼합액을 저류 탱크 이외의 장소에 폐기한다. 전환부는 공급된 혼합액의 유입처를 회수 경로와 폐기 경로 사이에서 전환한다. 전환 제어부는 전환부를 제어하여, 기판 처리부에 의한 혼합액의 공급이 개시되고 나서 제1 시간이 경과하기까지의 동안, 공급된 혼합액을 폐기 경로에 유입시키고, 제1 시간의 경과 후로서 미리 결정된 회수율에 기초하여 결정되는 제2 시간이 경과하기까지의 동안, 공급된 혼합액을 회수 경로에 유입시키고, 제2 시간이 경과하고 나서 혼합액의 공급이 종료되기까지의 동안, 공급된 혼합액을 폐기 경로에 유입시킨다.

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Номер записи: 20
21-11-2016 дата публикации

액 처리 장치 및 액 처리 방법

Номер: KR0101678231B1
Автор: 히가시지마 지로, 가가와 고지, 미조타 쇼고
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은 컵에 부착된 오물에 의하여 처리실 내의 기판이 오염되는 것을 방지할 수 있는 액 처리 장치 및 액 처리 방법을 제공한다. 본 발명의 액 처리 장치(10)는, 기판(W)을 유지하는 기판 유지부(21) 및 기판 유지부(21)의 주위에 배치되는 컵(42)이 내부에 설치된 처리실(20)과, 기판 유지부(21)에 유지된 기판(W)에 대하여 처리액을 공급하기 위한 노즐(82a)과, 컵(42)의 상부에 세정액을 공급함으로써 해당 컵(42)을 세정하는 컵 세정부(49, 49a)를 구비하고 있다. 컵(42)의 상부에는 오목부(42a)가 형성되어 있고, 컵 세정부(49, 49a)는, 컵(42)의 상부의 오목부(42a)에 세정액을 공급하도록 되어 있다.

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Номер записи: 21
08-05-2015 дата публикации

LIQUID PROCESSING APPARATUS

Номер: KR1020150050416A
Автор: HIGASHIJIMA JIRO, DOUKI YUICHI, AKIMOTO MASAMI, INOUE SHIGEHISA
Принадлежит:

Provided is a liquid processing apparatus which discharges process liquid to a cup while preventing the generation of mist. In a liquid processing apparatus which supplies the process liquid to a substrate (W) from a process liquid supply part (40) and performs a liquid process, a substrate holding part (31) which can rotate around a vertical axis includes a holding surface (311) for adsorbing the substrate (W) horizontally. A guide part (34) is integrated with the substrate holding part (31) and is arranged around the substrate (W) held by the substrate holding part (31). The height of the guide part is the same as or is lower than the height of the upper side of the peripheral part of the substrate (W). The guide part includes a guide surface (347) for guiding the process liquid leaked from the upper side of the substrate (W). A rotation cup (35) rotates with the substrate holding part (31) together. The rotation cup guides the process liquid to a cup (50a-50c) prepared to the outside ...

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Номер записи: 22
07-07-2015 дата публикации

SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS

Номер: KR1020150077351A
Автор: WAKIYAMA TERUFUMI, ITO NORIHIRO, HIGASHIJIMA JIRO
Принадлежит:

The purpose of the present invention is to provide a substrate liquid processing apparatus capable of discharging a plurality of processing liquids to a predetermined drain flow path. A substrate processing apparatus (16) converts the plurality of processing liquids from a processing liquid supply unit and supplies the plurality of processing liquids to a substrate (W) held in a substrate maintaining unit (31). Inner cups (50a, 50b) capable of being elevated: surround the substrate maintaining unit (31) from a side; forms a first drain flow path for the draining by guiding a first processing liquid which is supplied to the substrate (W) to the lower side; and forms a second drain flow path for the draining by guiding a second processing liquid after being supplied to the substrate (W). A cover unit (54) covers an external cup (50c) from an external side and includes shading unit (541) which is extended toward an inner side of a cylinder unit (543) from an upper side and forms an exhaust ...

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Номер записи: 23
09-09-2015 дата публикации

LIQUID PROCESSING APPARATUS

Номер: KR0101551995B1
Автор: 히가시지마 지로
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

... 본 발명은 처리실과 아암 대기부를 구획하는 벽에, 노즐 지지 아암이 통과할 수 있는 개구가 설치될 때에, 이 벽의 개구를 노즐 지지 아암에 의해 막음으로써 처리실 내의 영역과 아암 대기부의 영역을 격리할 수 있는 액 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 액 처리 장치(10)에 있어서, 처리실(20)과 아암 대기부(80)를 구획하는 벽(90)이 설치되어 있고, 이 벽(90)의 아암 세정부(88)에는 노즐 지지 아암(82)이 통과할 수 있는 개구(88a)가 마련된다. 노즐 지지 아암(82)은, 아암 대기부(80)에 대기하고 있을 때에 이 벽(90)의 아암 세정부(88)의 개구(88a)를 막게 되어 있다.

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Номер записи: 24