SLURRY FOR SUSPENSION PLASMA SPRAYING, AND METHOD FOR FORMING SPRAYED COATING
Номер патента: US20200048752A1
Опубликовано: 13-02-2020
Автор(ы): IWASAKI Ryo, Takai Yasushi
Принадлежит: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-02-2020
Автор(ы): IWASAKI Ryo, Takai Yasushi
Принадлежит: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Slurry for suspension plasma spraying, and method for forming sprayed coating
Номер патента: US20200048752A1. Автор: Yasushi Takai,Ryo Iwasaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-13.