SEMICONDUCTOR FABRICATION DESIGN RULE LOOPHOLE CHECKING FOR DESIGN FOR MANUFACTURABILITY OPTIMIZATION
Номер патента: US20190072846A1
Опубликовано: 07-03-2019
Автор(ы): Chieh-Yu Lin, Dongbing Shao, Kehan Tian, ZHENG Xu
Принадлежит: Globalfoundries Inc, International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 07-03-2019
Автор(ы): Chieh-Yu Lin, Dongbing Shao, Kehan Tian, ZHENG Xu
Принадлежит: Globalfoundries Inc, International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Systems and methods for identification and elimination of geometrical design rule violations of a mask layout block
Номер патента: US11853682B2. Автор: Danny Rittman,Mo Jacob. Владелец: GBT Tokenize Corp. Дата публикации: 2023-12-26.