POLARITY CONTROL FOR REMOTE PLASMA
Номер патента: US20150155189A1
Опубликовано: 04-06-2015
Автор(ы): Cho Tae Seung, LUBOMIRSKY DMITRY, Park Soonam, SEN Yi-Heng
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-06-2015
Автор(ы): Cho Tae Seung, LUBOMIRSKY DMITRY, Park Soonam, SEN Yi-Heng
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Pulsing remote plasma for ion damage reduction and etch uniformity improvement
Номер патента: WO2021252839A1. Автор: Wei Yi Luo,Tianqi WANG,Chih-Hsun Hsu,Huai-Suen SHIAU. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-12-16.