Verfahren zur Verbesserung einer Arbeitskennlinie und optischer Eigenschaften einer Fotomaske
Номер патента: DE112016001162B4
Опубликовано: 11-01-2024
Автор(ы): David Brinkley, Jeffrey E. Leclaire, Kenneth G. Roessler
Принадлежит: BRUKER NANO INC
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Автор(ы): David Brinkley, Jeffrey E. Leclaire, Kenneth G. Roessler
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Verfahren zur generativen herstellung eines bauteils für optische anordnungen und optische anordnungen für die mikrolithographie mit einem entsprechenden bauteil
Номер патента: DE102022208947A1. Автор: Christof Metzmacher,Simon Lutz,Sina Daubner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-10-13.