Control of plasma formation by rf coupling structures
Номер патента: US20230326720A1
Опубликовано: 12-10-2023
Автор(ы): Hema Swaroop Mopidevi, Lee Chen, Neil M.P. Benjamin, Shaun Tyler SMITH, Thomas W. Anderson
Принадлежит: Lam Research Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-10-2023
Автор(ы): Hema Swaroop Mopidevi, Lee Chen, Neil M.P. Benjamin, Shaun Tyler SMITH, Thomas W. Anderson
Принадлежит: Lam Research Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Digital control of plasma processing
Номер патента: US12068134B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-20.