Method of cleaning pipe of single-wafer processing wafer cleaning apparatus
Номер патента: US20230381834A1
Опубликовано: 30-11-2023
Автор(ы): Ryoichi Yanai
Принадлежит: Sumco Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-11-2023
Автор(ы): Ryoichi Yanai
Принадлежит: Sumco Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Cleaning method of piping of single-wafer type wafer cleaning equipment
Номер патента: KR20230043947A. Автор: 료이치 야나이. Владелец: 가부시키가이샤 사무코. Дата публикации: 2023-03-31.