SUBSTRATE DRYING METHOD AND SUBSTRATE DRYING APPARATUS
Номер патента: US20200234980A1
Опубликовано: 23-07-2020
Автор(ы): HANAWA Yosuke, Sasaki Yuta
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-07-2020
Автор(ы): HANAWA Yosuke, Sasaki Yuta
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate drying device, substrate processing device, and substrate manufacturing method
Номер патента: EP4459665A1. Автор: Yasunori DEGUCHI,Ai ARAKI,Yoshikazu FUTAMATA. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.