Substrate processing apparatus with electronic heater powered by power feeding coil.

Главная
Substrate processing apparatus with electronic heater powered by power feeding coil

Substrate processing apparatus with electronic heater powered by power feeding coil

Номер патента: US11862489B2
Опубликовано: 02-01-2024
Автор(ы): Kouzou Kawahara, Satoshi Morita
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20210118706A1. Автор: Satoshi Morita,Kouzou Kawahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11978654B2. Автор: Yoon Jong JU,Min Sung HAN,Wan Jae Park,Jaehoo Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230178396A1. Автор: Seok Heo,Young Ho Hwang,Eun Seok SEO,Jun O PARK,Jae Hong Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Heating plate with heating zones for substrate processing and method of use thereof

Номер патента: US09646861B2. Автор: Harmeet Singh,Neil Benjamin,Keith Comendant,Keith Gaff. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12133297B2. Автор: Yoshifumi Amano,Akira Fujita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Substrate Processing Apparatus and Furnace Opening Assembly Thereof

Номер патента: US20200187305A1. Автор: Shuhei SAIDO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Substrate processing apparatus and noise impact reducing method

Номер патента: US20220070977A1. Автор: Kazuhito Yamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20240030049A1. Автор: Yukinobu OTSUKA,Shinsuke TAKAKI,Yasuhiro Kuga,Koji Ushimaru,Ryohei FUJISE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US11798821B2. Автор: Yukinobu OTSUKA,Shinsuke TAKAKI,Yasuhiro Kuga,Koji Ushimaru,Ryohei FUJISE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Heating plate and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240155741A1. Автор: Minwoo Kim,Seunghwan KO,Kyoungwhan OH,Chulmin Cho,Wooseop SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Atomic layer deposition processing apparatus to reduce heat energy conduction

Номер патента: US09518321B2. Автор: Masanori Sakai,Kazuhiro Yuasa,Yoshihiko Yanagisawa,Mitsuro Tanabe,Yasutoshi Tsubota. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-13.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09607867B2. Автор: Yuji Kajihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, electrical power supply system, and electrical power supply method

Номер патента: US20240297054A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203702A1. Автор: Seungpil Chung,Sungik Park,Yongsu Jang,Jungyoon Yang,Inseong Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate support and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220254671A1. Автор: Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate support and substrate processing apparatus

Номер патента: US11961755B2. Автор: Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240240321A1. Автор: Jin An JUNG,Da Un Jung,In Woo BACK. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240234172A9. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240136206A1. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12042813B2. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240261814A1. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230307267A1. Автор: Takashi Nakagawa,Katsuhiko Yamamoto,Shinya Sasaki,Shuhei SAIDO,Yoshihiko Yanagisawa,Noriaki MICHITA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4258329A1. Автор: Takashi Nakagawa,Katsuhiko Yamamoto,Shinya Sasaki,Shuhei SAIDO,Yoshihiko Yanagisawa,Noriaki MICHITA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-10-11.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20200168434A1. Автор: Masanori Nakayama,Teruo Yoshino,Koichiro Harada,Hiroto Igawa,Masaki Murobayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240212989A1. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomohiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing device equipped with semicircle shaped antenna

Номер патента: US09416451B2. Автор: Il Kwang Yang,Byung Gyu Song,Song Hwan Park,Sung Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing module, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20210148760A1. Автор: Jongwoo SUN,Hyung Joo Lee,Kyeonghun KIM,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-20.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US12068140B2. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus, etching method of metal film, and manufacturing method of magnetoresistive effect element

Номер патента: US09685299B2. Автор: Yukito Nakagawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US20240371611A1. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

Plasma generating device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240249923A1. Автор: Akihiro Sato,Tsuyoshi Takeda,Yukitomo Hirochi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: US20240363309A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tsuyoshi Takeda,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210366721A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11761084B2. Автор: Hiroki ARAI,Yukihiro Mori,Yuya Nonaka. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240071772A1. Автор: Masanobu Honda,Shinya Ishikawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Gas spraying apparatus for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190157038A1. Автор: Sung Bae KIM,Cheong SON. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US12106941B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Systems and methods for eliminating flourine residue in a substrate processing chamber using a plasma-based process

Номер патента: US09601319B1. Автор: Joydeep Guha,Andrew Stratton Bravo,Amit Pharkya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and baffle structure of the substrate processing apparatus

Номер патента: US11101111B2. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-24.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and baffle structure of the substrate processing apparatus

Номер патента: US9911580B2. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomihiro Amano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-03-06.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and baffle structure of the substrate processing apparatus

Номер патента: US11948778B2. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240158917A1. Автор: Masanori Nakayama,Takeshi Yasui,Teruo Yoshino,Koichiro Harada,Tadashi Terasaki,Masaki Murobayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11776791B2. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Geon Jong KIM,Seok June YUN. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180277405A1. Автор: HIROSHI Ashihara,Naofumi Ohashi,Kazuyuki Toyoda,Satoshi Shimamoto. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-09-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213077A1. Автор: Woojin Chung,Kyungmo Kim,Jeongcheol LEE,Jungheum NAM,Myunggeun MIN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and abnormality detection method

Номер патента: US12087562B2. Автор: Katsuhito Hirose,Kazushi HIKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230317477A1. Автор: Taehoon Lee,Youngjun SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Vacuum molding apparatus, substrate processing system having the same and substrate processing method using the same

Номер патента: US20150056754A1. Автор: Seock Hyun Park. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Substrate cartridge, substrate processing apparatus, substrate processing system, control apparatus, and method of manufacturing display element

Номер патента: US8801307B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-08-12.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240290577A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Hiroki Endo,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Nozomu Nagashima,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230143327A1. Автор: Sang Ki Nam,Kyung-Sun Kim,Kangmin JEON,Nam Kyun Kim,Kuihyun YOON,Seunghan BAEK,Dongseok Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Substrate processing apparatus including plurality of electrodes

Номер патента: US20230100582A1. Автор: Dougyong Sung,Byeongsang KIM,Yunhwan Kim,Namkyun Kim,Youngjin Noh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Insulation plate and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20220172947A1. Автор: Soo Woong Kim,Dong Mok Lee,Jin II Sung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.

Power feeding coil unit and wireless power transmission device

Номер патента: US09716390B2. Автор: Tetsuya Nishiyama,Noritaka Chiyo. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Power feeding coil unit and wireless power transmission device

Номер патента: US09558882B2. Автор: Takeshi Kamono,Narutoshi Fukuzawa,Tetsuya Nishiyama,Toshinori Matsuura,Noritaka Chiyo. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Power feeding coil unit and wireless power transmission device

Номер патента: US09515493B2. Автор: Takeshi Kamono,Mitsunari Suzuki,Noritaka Chiyo. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Motor attachment bracket, motor attachment structure, and substrate processing apparatus

Номер патента: SG10201800586RA. Автор: Tanaka Hideaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Non-contact power feeding device used in torque sensor having a coil enclosed in peripheral side of a resonance coil and is magnetically coupled with the resonance coil

Номер патента: US09960641B2. Автор: Makoto Ishii,Motohiro Sasaki,Keisuke Iwaishi,Katsuei Ichikawa,Kisho Ashida,Kentarou MIYAJIMA,Atsuo Soma,Yuuya URUSHIHATA. Владелец: HITACHI AUTOMOTIVE SYSTEMS LTD. Дата публикации: 2018-05-01.

Apparatus for monitoring pulsed high-frequency power and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US11545340B2. Автор: Hong Won Lee,Shin-woo Nam,Jong Hwan AN,Jae Bak SHIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-03.

Substrate processing apparatus, stage, and temperature control method

Номер патента: US20210344288A1. Автор: Hideto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Substrate processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US11626818B2. Автор: Hideto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-11.

Contactless power feeding apparatus and contactless power feeding system

Номер патента: US09905358B2. Автор: Naoyuki Wakabayashi. Владелец: Funai Electric Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Power feeding system and power feeding method

Номер патента: US20190089198A1. Автор: Masafumi Hoshino. Владелец: Ablic Inc. Дата публикации: 2019-03-21.

Power feeding system and power feeding method

Номер патента: US10826327B2. Автор: Masafumi Hoshino. Владелец: Ablic Inc. Дата публикации: 2020-11-03.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus including processing unit

Номер патента: US09869019B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09818600B2. Автор: Takayuki Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240243019A1. Автор: Masanori Nakayama,Hiroki Kishimoto,Hiroto Igawa,Yuki Yamakado,Yuichiro Takeshima,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4104941A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia & Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US12040166B2. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Method of performing maintenance on substrate processing apparatus, and the substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339307A1. Автор: Takahiro Murakami,Takayuki Suzuki,Yuya MINOURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US20240339306A1. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10186422B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing module and laser beam providing method

Номер патента: US20240006167A1. Автор: Yunsang Kim,Kwang Ryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080526B2. Автор: Do Hyung Kim,Young Woon Kim,Woong Kyo Oh,Kwang Su YOO,Yun Gyu HA. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Cooled pin lifter paddle for semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09859145B2. Автор: Andreas Fischer,Dean Larson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium recording substrate processing program

Номер патента: US09824861B2. Автор: Junya Sato,Yoshikazu Ishikawa,Toshihiko Hamada,Toshiyuki Kobayashi,Masahiro Numakura,Shouichi Otake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09330950B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Substrate processing apparatus and control method therefor

Номер патента: US20200043708A1. Автор: Masahiko Konno. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234100A9. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240224238A1. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Kenji Shirako,Daigi KAMIMURA,Hironori Shimada,Akira Horii,Norihiro YAMASHIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus, substrate mounting table cover, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US20220415700A1. Автор: Takayuki Sato,Yuichiro Takeshima,Masaki Murobayashi,Tomokazu WAKUI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220063139A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11986978B2. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240297023A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220189779A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180305816A1. Автор: Akira Takahashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4428897A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170062245A1. Автор: Sang-Dong Kwon,Sang-Rok Oh,Jong-Woo Sun,Kwang-Nam Kim,Jung-pyo HONG,Yong-Moon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and methods

Номер патента: US09972511B2. Автор: Takashi KURATOMI,Brent Biggs. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09816183B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09431220B1. Автор: Naofumi Ohashi,Atsuhiko Suda,Kazuyuki Toyoda,Masanori Nakayama,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-30.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230395390A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20080075640A1. Автор: Teruo Yoshino,Tomohiko Takeda,Nobuo Ishimaru,Katsuyoshi Hamano,Ken Sugihara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-03-27.

Power feed member and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180374679A1. Автор: Shunichi Ito,Shinji Himori,Gen Tamamushi,Etsuji Ito,Naokazu FURUYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20070009649A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Seiichi Kaise. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180019145A1. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Substrate support plate, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US20240363331A1. Автор: Seunghwan Lee,DaeYoun Kim,Jaehyun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09799542B2. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: WO2022238622A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240105479A1. Автор: WonKi Jeong,DaeYoun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4338191A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-03-20.

Substrate stage and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240167162A1. Автор: Yihwan Kim,Minsung Kim,Byeongsang KIM,Sangchul Han,Sangyeon OH,Jihyeong LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234093A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and method of driving relay member

Номер патента: US20220037125A1. Автор: Shin Matsuura,Nobutaka Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220293398A1. Автор: WonKi Jeong,DaeYoun Kim,JuIll Lee,Hyungchul Moon,GeunHwi Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-09-15.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US09644265B2. Автор: Tetsuo Yamamoto,Takafumi Sasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus and maintenance method thereof

Номер патента: US09613837B2. Автор: Ken Horiuchi,Koji Ando,Shigeru Senzaki,Michishige Saito,Shingo Koiwa,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09524847B2. Автор: Makoto Kobayashi,Jun Tamura,Hiroshi Tsujimoto,Nobuhiro Wada,Jun Oyabu,Mamoru NAOI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20240096597A1. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and shutter

Номер патента: US20240128058A1. Автор: Takashi Aramaki,Atsushi Ogata,Gyeong Min Park,Lifu Li,Kojiro MATSUZAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006160A1. Автор: Yunsang Kim,Kwangryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411296A1. Автор: Jeong Seok Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

A substrate processing apparatus and a method

Номер патента: EP4402301A1. Автор: Jani KIVIOJA,Tom Blomberg,Juho Poutiainen,Antti KUITUNEN,Heikki Alakoski. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240266144A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Jaewon Jeong,Naohiko Okunishi,SeungBo SHIM,Kyeongtea BANG,Kihwan Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20130161187A1. Автор: Eiji Ozaki,Keisuke Ueda,Toshikazu Nakazawa,Norihito Tsukamoto. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2013-06-27.

Substrate support, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11929240B2. Автор: Takehiro Ueda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing device and dielectric plate alignment method

Номер патента: EP4394850A1. Автор: Ju-Young Park,Kwang-Sung YOO. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

A substrate processing apparatus and a method

Номер патента: WO2023041844A1. Автор: Jani KIVIOJA,Tom Blomberg,Juho Poutiainen,Antti KUITUNEN,Heikki Alakoski. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09970109B2. Автор: Jun Yoshikawa,Motoshi Fukudome. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09583360B2. Автор: Akio Ui,Hisataka Hayashi,Keisuke Kikutani. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Substrate processing apparatus and method of fabricating the same

Номер патента: US20230323558A1. Автор: Shinya Ueda,SungHoon Jun,Byeongpil Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: FI20205023A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-11.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: CA3165295A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4087955A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-16.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: WO2021140270A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240274433A1. Автор: Takayuki Komiya,Tsuyoshi Tsunatori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus, plurality of electrodes and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12094735B2. Автор: Tsuyoshi Takeda,Daisuke Hara. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Insulating film forming method and substrate processing system

Номер патента: US20240321571A1. Автор: Nobuo Matsuki,Yoshinori Morisada,Daisuke Oba,Masafumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Antenna and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240304416A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus having a middle electrode

Номер патента: US12106977B2. Автор: Jin HO KIM,Sang Hyun Sung,Sung Lae OH. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Method of conditioning vacuum chamber of semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09548188B2. Автор: Dennis Michael Hausmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Processing gas diffusing and supplying unit and substrate processing apparatus

Номер патента: US09484213B2. Автор: Toshifumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11961714B2. Автор: Yi-Cheng Liu,Yi-Yuan Huang. Владелец: Linco Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285132A1. Автор: Yi-Cheng Liu,Yi-Yuan Huang. Владелец: Linco Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230369018A1. Автор: Jaewon Shin,Sangjeong LEE,Jongwon Park,Yoonseok Choi,Kyunghun JANG,Youngun Bong,Hanlim Kang,Hyunwoo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Device for multi-level pulsing, substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US12087547B2. Автор: Hyun Jin Kim,Ja Myung GU,Jung Mo GU,Goon Ho PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12125710B2. Автор: Sho Kumakura,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230082659A1. Автор: Masaki Sawada. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240006166A1. Автор: Minyoung Kim,Hanglim Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Static electricity deflecting device, electron beam irradiating apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method and method of manufacturing substrate

Номер патента: US20070228285A1. Автор: Koji Takeya,Takashi Fuse,Tadashi Kotsugi,Kyo Tsuboi. Владелец: E Beam Corp. Дата публикации: 2007-10-04.

Static electricity deflecting device, electron beam irradiating apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method and method of manufacturing substrate

Номер патента: US20080067429A1. Автор: Koji Takeya,Takashi Fuse,Tadashi Kotsugi,Kyo Tsuboi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-03-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240120213A1. Автор: Sung Yong Park,Woo Rim LEE,Myoung Jae Seo,Sung Gil Kang,Hyun Ho Doh,In Hye Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing system and particle removal method

Номер патента: US12062557B2. Автор: Tatsuya Morioka,Daisuke Hara,Akihiro Matsui,Hideyuki Osada,Genichi Nanasaki,Hikaru Nihei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US12051571B2. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Optimization program and substrate process system

Номер патента: US09804592B2. Автор: Kazuya Fukao. Владелец: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20150179408A1. Автор: Naotaka Noro,Kouji Shimomura,Eiichi Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4328350A1. Автор: Herbert Terhorst,Werner Knaepen,Dieter Pierreux,Kelly Houben,Theodorus G.M. Oosterlaken,Subir Parui,Angelos KARAGIANNIS. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-28.

Substrate processing device, method for preparing substrate processing device, and substrate processing method

Номер патента: US20220415613A1. Автор: Won Tae Cho. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing apparatus, method of controlling the same, and storage medium having stored therein program thereof

Номер патента: US12001194B2. Автор: Seung Yeon Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20200365367A1. Автор: Teruo Yoshino,Takashi Yahata. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-11-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240076777A1. Автор: Hitoshi Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing apparatus and interlock method thereof

Номер патента: US20220262602A1. Автор: Jae Wan Lee,Sang Kyo KWON. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240068097A1. Автор: Herbert Terhorst,Werner Knaepen,Dieter Pierreux,Kelly Houben,Theodorus G.M. Oosterlaken,Subir Parui,Angelos KARAGIANNIS. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-29.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using rf plasma cycling and purging

Номер патента: US20170011893A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-12.

Substrate processing method, substrate processing device, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240120177A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Seung Bo SHIM,Tae-Hwa Kim,Ji Mo LEE,Jae Bin KIM,Dong Hyeon Na,Myeong Soo SHIN,Woong Jin CHEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Defect control and stability of dc bias in rf plasma-based substrate processing systems using molecular reactive purge gas

Номер патента: US20180347046A1. Автор: Arul Dhas,Christopher Ramsayer,Kareem Boumatar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Method and devices for qualifying substrate-processing production processes

Номер патента: AU2002351691A1. Автор: Bernd Muller,Ulrich Wittreich,Hartmut Meier. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2003-06-10.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09899195B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Electromagnetic dipole for plasma density tuning in a substrate processing chamber

Номер патента: US09779953B2. Автор: Joseph F. Aubuchon,Tza-Jing Gung,Samer Banna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09478408B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Substrate processing method, component processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US11798793B2. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Koki MUKAIYAMA,Yusuke WAKO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and substrate processing program

Номер патента: US20170040177A1. Автор: Mitsuru Sasaki,Tatsuya Miura,Ryu KITAHARA,Toshihiro OHNO,Kazumune ONO,Shoko ENDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210296090A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US11532784B2. Автор: Koji Maeda,Shinji Orimoto,Manabu NAKAGAWASAI,Motoi YAMAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11869764B2. Автор: Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240003011A1. Автор: Kwang Ryul Kim,Yun Sang Kim,Jin Hee Hong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing method

Номер патента: US11875998B2. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11881410B2. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230343609A1. Автор: Min Su Kim,Sang Jun Park,Ju Hwan Park,Byung Chul Cho,Kwang Seon JIN. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Plasma processing apparatus, wafer to wafer bonding system and wafer to wafer bonding method

Номер патента: US20240038536A1. Автор: Wooyoung Kim,Jiwon Moon,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Donggap Shin,Bumki Moon,Siwoong Woo,Sehoon JANG,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20170084480A1. Автор: Takashi Tanaka,Mitsuaki Iwashita,Nobutaka Mizutani. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and substrate processing program

Номер патента: US10128121B2. Автор: Mitsuru Sasaki,Tatsuya Miura,Ryu KITAHARA,Toshihiro OHNO,Kazumune ONO,Shoko ENDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-13.

Substrate processing system and maintenance method

Номер патента: US20240105478A1. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240105457A1. Автор: Woo Rim LEE,Myoung Jae Seo,Sung Gil Kang,In Hye Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20210280777A1. Автор: Koji Maeda,Shinji Orimoto,Manabu NAKAGAWASAI,Motoi YAMAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-09.

Substrate processing apparatus and method using the plasma

Номер патента: US20230317415A1. Автор: Dong Hun Kim,Seong Gil Lee,Dong Sub Oh,Wan Jae Park,Ji Hwan Lee,Young Je UM,Myoung Sub Noh,Du Ri Kim,Da Som Bae,Joun Taek Koo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing method

Номер патента: US20210193472A1. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Substrate processing method, component processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006168A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Koki MUKAIYAMA,Yusuke WAKO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386794A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium recording substrate processing program

Номер патента: US20160190024A1. Автор: Junya Sato,Yoshikazu Ishikawa,Toshihiko Hamada,Toshiyuki Kobayashi,Masahiro Numakura,Shouichi Otake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate processing apparatus, processing method, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240096615A1. Автор: Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230077197A1. Автор: Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20140346040A1. Автор: Akihiro Yokota,Shinji Himori,Etsuji Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-11-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12009217B2. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180226228A1. Автор: Naofumi Ohashi,Kazuyuki Toyoda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-08-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200105574A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09640382B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Substrate processing apparatus for processing substrates

Номер патента: US12040199B2. Автор: Jeroen Fluit. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus for processing substrates

Номер патента: US20240339340A1. Автор: Jeroen Fluit. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09576808B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Substrate processing system

Номер патента: US20240258147A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A2. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A3. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Board processing apparatus, board processing method, and board processing system

Номер патента: US20160161941A1. Автор: Takashi Koshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Organic solvent supplying apparatus, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203726A1. Автор: Ki Bong Kim,Yong Hyun Choi,Myung Seok Cha,Ju Yeon SONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240249964A1. Автор: Seiji Nakashima,Shinsuke TAKAKI,Akihiro TERAMOTO,Ryo SHOBU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing system and group management device

Номер патента: US20230101147A1. Автор: Ryuichi Kimura,Hiroakira MATSUI,Naruhisa MIYAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus including auxiliary gas supply port

Номер патента: US09593415B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Process apparatus with on-the-fly substrate centering

Номер патента: US09514974B2. Автор: Leigh F. Sharrock. Владелец: Brooks Automation Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Substrate transferring apparatus, and liquid processing apparatus and substrate processing equipment including same

Номер патента: US20240222174A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM,Hee Jun YOUN,Seul Gi CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240201602A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing system and its control method

Номер патента: US20240055283A1. Автор: Kenji Ikeda,Tasuku Suzuki,Nobuyuki Kawabata,Jun Kitagawa,Masato Anzai,Taichi YOSHIOKA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing apparatus and spray module of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220392790A1. Автор: Jongchul Kim,InWoo BACK,YeongSeop BYEON,InCheol YEO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing system

Номер патента: US20200257269A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12045037B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate weight measurement apparatus, a substrate processing apparatus including the same, and a method of processing a substrate using the substrate processing apparatus

Номер патента: US20230384681A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12062563B2. Автор: Itsuki Kobata,Keita Yagi,Nobuyuki Takahashi,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Katsuhide Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4420831A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi,Mao Fujisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240355644A1. Автор: Naoki Shibata,Shinsuke TAKAKI,Yoji SAKATA,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus including heat-shield plate

Номер патента: US09953850B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing method and control apparatus

Номер патента: US09798317B2. Автор: Katsuhiko Komori,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Control apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US09772624B2. Автор: Takanori Saito,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09472441B2. Автор: Takahiro Ogawa,Hisajiro NAKANO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus, operating method thereof, and photo spinner equipment

Номер патента: US20240178011A1. Автор: Ho Jin Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4407661A1. Автор: YANG Han,Xi Wang,HUI Wang,Jun Wang,Jian Wang,Hui Shen,Xiaoyan Zhang,Fuping CHEN,Shena JIA,Wenjun Wang,Yinxiao LU. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240014055A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20160189991A1. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12074048B2. Автор: Yuji Kawaguchi,Hiroki Harada,Tokutarou Hayashi,Tatsuhiko Tsujihashi,Tsuyoshi OTSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US20180097018A1. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, monitoring device of substrate processing apparatus, and monitoring method of substrate processing apparatus

Номер патента: US09927373B2. Автор: Motoi Okada,Shigeyuki IIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09895711B2. Автор: Jian Zhang,Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus including exhaust ports and substrate processing method

Номер патента: US09875895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable medium storing program

Номер патента: US09859109B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09852931B2. Автор: Masanobu Sato,Masahiro Miyagi,Hiroyuki Araki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US09673072B2. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09543220B2. Автор: Takeo Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09490151B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Satoshi TODA,Yuji Asakawa,Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449857B2. Автор: Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128111A1. Автор: Tae Yong Kim,Byungin AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240189856A1. Автор: Koichi Matsunaga,Teruhiko Kodama,Hideaki Iwasaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus, model data generation apparatus, substrate processing method, and model data generation method

Номер патента: US20240194507A1. Автор: Kiyoshi Mori,Tsuyoshi Moriya,Takayuki Yamagishi,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and processing apparatus fabrication method

Номер патента: US20240175629A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate

Номер патента: US20240162052A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A2. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-03.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20210333722A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20230161270A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-05-25.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A3. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240242985A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20210020487A1. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US12046485B2. Автор: Shusei TAKEBAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US8883030B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230062447A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230102650A1. Автор: Sungjoo An,Janghee Lee,Geuno JEONG,Seran OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US10825837B2. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-03.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20240288780A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing in a process chamber for semiconductor manufacturing and apparatus management controller with error analysis

Номер патента: US11086304B2. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152780A1. Автор: Junichi Kitano,Yuichi Douki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20200126822A1. Автор: Hitoshi Nakai,Manabu Okutani,Yasunori KANEMATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Proximity pin, substrate processing apparatus, and method of processing substrate in substrate processing apparatus

Номер патента: WO2019100201A1. Автор: Rong Li,Bin Hu,Hanlin Wang,Dawei Yang,Xinjie Zhang,Weishuai Zhang. Владелец: HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2019-05-31.

Substrate processing apparatus and method of processing a substrate and of manufacturing a processed workpiece

Номер патента: WO2019105944A8. Автор: Hartmut Rohrmann,Hubert Breuss,Heinz Felzer,Dominik Jaeger. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2020-05-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230085592A1. Автор: Jong Sik Kim,Ji Hun Lee. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240326406A1. Автор: Seong Soo JEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable storage medium recording therein substrate processing program

Номер патента: US09805957B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Yosuke Kawabuchi,Kotaro Oishi,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus and method of transferring a substrate

Номер патента: US09786532B2. Автор: Takashi Mitsuya,Keiichi Kurashina,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Kenichi Akazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768042B2. Автор: Ayumi Higuchi,Asuka WAKITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Gas injection apparatus and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US09732424B2. Автор: Jung-Hwan Lee,Woo-young Park,Tae-Ho Hahm. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09721815B2. Автор: Hiroaki Takahashi,Kentaro Tokuri. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703199B2. Автор: Takashi Taguchi,Toru Asano,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yukio Toriyama. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09696262B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, fluid supplying method and storage medium

Номер патента: US09662685B2. Автор: Gentaro Goshi,Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate conveying apparatus for use in the same

Номер патента: US09624046B2. Автор: Ichiro Mitsuyoshi,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus, substrate transfer method and substrate transfer device

Номер патента: US09530676B2. Автор: Kenichi Suzuki,Hiroshi Sotozaki,Mitsuru Miyazaki,Toshio Yokoyama,Junji Kunisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449807B2. Автор: Toshimitsu Namba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Group management apparatus, substrate processing system and method of managing files of substrate processing apparatus

Номер патента: US09400794B2. Автор: Osamu Ueda,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-07-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09396978B2. Автор: Takeshi Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240210836A1. Автор: Young Seop CHOI,Joo Sung Lee,Bok Kyu Lee,Je Myung Cha,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate Processing Apparatus, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Substrate Processing Method

Номер патента: US20220090260A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate Processing Apparatus, Substrate Processing Method, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Non-transitory Computer-readable Recording Medium

Номер патента: US20230081219A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234170A9. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and method of detecting indentation formed in substrate

Номер патента: SG10201806154TA. Автор: Takahashi Nobuyuki,Wen Zhongxin,Sakugawa Suguru. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US9337070B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240213059A1. Автор: Gyeong Won SONG,Hee Man AHN,Sung Hun Eom,Jae Seung YU. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190139791A1. Автор: Hiromi Kiyose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234173A1. Автор: Hiroki Koyama. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4404242A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150059645A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus equipped with substrate scanner

Номер патента: US20210280444A1. Автор: Hsin-Hsu Lin,Ming-Tso Chen,Kao-Hua Wu,Ming-Che Lai,Hua-Wei Peng,Chia-He Cheng,Chao-Chi Lu,Kuo-Tsai Lo,Huan-Hsin Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2021-09-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100647A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus, and magnetic recording medium manufacturing method

Номер патента: US20100025363A1. Автор: Kazuto Yamanaka,Satoshi Hitomi,David Djulianto DJAYAPRAWIRA,Masahiro Shibamoto,Ayumu Miyoshi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Method of cleaning semiconductor substrate, and method of manufacturing semiconductor device and semiconductor substrate processing apparatus for use in the same

Номер патента: US20060046500A1. Автор: MAKOTO Miyamoto. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-03-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220134375A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing method, thermal processing apparatus, and semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240186161A1. Автор: Sung Kyu Park,Sung Yong Lee,Myung Hwan Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190103291A1. Автор: Tooru Nakamura,Kouji Kimoto,Hiroaki Inadomi,Yoshihisa Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP1801860A1. Автор: Takehiko c/o Tokyo Electron AT Limited ORII,Kenji c/o Tokyo Electron AT Limited SEKIGUCHI,Noritaka c/o Tokyo Electron Kyushu Ltd. UCHIDA,Satoru c/o Tokyo Electron Kyushu Limited TANAKA,Hiroki c/o Tokyo Electron AT Limited OHNO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11587805B2. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190057890A1. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240240859A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311170A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240299971A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4447096A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4456119A1. Автор: Ju Young Park,So Jin Jeong,Seong Min Nam,Da In Kim. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09978619B2. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09972515B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09859136B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yoichi Tokunaga,Hiromitsu Namba,. Fitrianto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09852933B2. Автор: Norihiro Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09766617B2. Автор: Keiji Osada,Junichi Ogawa,Youichi Nakayama,Hiroaki DEWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09713822B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09687887B2. Автор: Atsuyasu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing apparatus, processing apparatus, and method for manufacturing device

Номер патента: US09651868B2. Автор: Masaki Kato,Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09630296B2. Автор: Tomoatsu Ishibashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and computer-readable storage medium stored with substrate processing program

Номер патента: US09627192B2. Автор: Naoyuki Okamura,Kazuki Kosai,Fumihiro Kamimura,Kazuhiro Teraoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09555437B2. Автор: Hitoshi Nakai,Yasuhiko Ohashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09530677B2. Автор: Akinori Tanaka,Daisuke Hara,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing method

Номер патента: US09477162B2. Автор: Tetsuya Hamada,Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Substrate processing apparatus, program for controlling the same, and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US09443748B2. Автор: Makoto Shirakawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-09-13.

System for monitoring failure of substrate processing apparatus, and method for monitoring failure of substrate processing apparatus

Номер патента: US09412256B2. Автор: Ichiro NAMIOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09373528B2. Автор: Mitsunori Komatsu,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240231232A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10867817B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12020936B2. Автор: Takeshi Tamura,Hirotoshi Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307262A1. Автор: Koichi Higuchi,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230116739A1. Автор: Sung-Yeol Kim,Sung Yong Lim,Woong Jin CHEON,Sung Hwi Cho,Mee Hyun LIM,Seong Ha JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-13.

Substrate processing tube, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the apparatus

Номер патента: US20240011154A1. Автор: Jaehyung Lee,Hyunju Lee,Hyouncheol Kim,Byunghwan Kong,ByeongHoon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20180218929A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200168487A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10615062B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090178762A1. Автор: Hironobu Shimizu,Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180164702A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-06-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207344A1. Автор: Seiji Nakano,Tokutarou Hayashi,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus and process control method thereof

Номер патента: US20230163003A1. Автор: Young Hwan YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253221A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and substrate support

Номер патента: US20230304149A1. Автор: Kenichi Suzaki,Yuma IKEDA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11742223B2. Автор: Yuji Kimura,Yoshihiro Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Substrate processing apparatus for supplying gas of water repellent agent and substrate processing method

Номер патента: US12042815B2. Автор: Koji Tanaka,Koji Yamashita,Yusuke Yamamoto,Kotaro Tsurusaki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253230A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210159095A1. Автор: Masami Yamashita,Gentaro Goshi,Toru Ihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240282578A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US20180342479A1. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US10833045B2. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240269862A1. Автор: Takayuki Hatanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus and substrate placing method

Номер патента: US20240274462A1. Автор: Makoto Fujiwara,Daisuke Ikemoto,Hideyuki Fukushima,Kenji SUGAKAWA,Norifumi Kohama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240280906A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20190153602A1. Автор: Shinichiro Misaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing apparatus and apparatus cleaning method

Номер патента: US12087599B2. Автор: Osamu Kuroda,Hidemasa ARATAKE,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240258107A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Ignition control method, film formation method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240312763A1. Автор: Takeshi Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate manufacturing method

Номер патента: US20240312804A1. Автор: Yohei Yamashita,Gousuke Shiraishi,Hayato TANOUE,Kento ARAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240332041A1. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4421856A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240286168A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, non-transitory computer-readable recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12106998B2. Автор: Naofumi Ohashi,Masanori Nakayama,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus for managing transfer state of substrate gas storage container based on supply flow rate

Номер патента: US09960065B2. Автор: Junichi Kawasaki,Mitsuru Funakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09875920B1. Автор: Yasuhiro Mizuguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12142483B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Seiji Nakano,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Munehisa Kodama,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US09816182B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Yuichi Wada,Iwao Nakamura,Manabu Izumi,Hideto TATENO,Keishin Yamazaki,Takurou USHIDA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09808836B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09768039B2. Автор: Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Hidetoshi Nakao,Norihiro Ito,Meitoku Aibara,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus, purging apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US09695509B2. Автор: Makoto Hirano,Akinari Hayashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09646862B2. Автор: Atsushi UMEKAWA,Akinori Ishii,Masahisa OKUNO,Katsuyoshi Hamano,Takuya Joda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180185885A1. Автор: Akio Hashizume,Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Batch-type vertical substrate processing apparatus and substrate holder

Номер патента: US09613838B2. Автор: Mitsuhiro Okada,Kazuhide Hasebe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09566616B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US09496134B2. Автор: Shinya Sasaki,Yuji Takebayashi,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234183A1. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Home port and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US20230195030A1. Автор: Tae Hoon Lee,Do Yeon Kim,Young Jun SON,Hyun Yoon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4060077A2. Автор: Taketoshi Sato,Makoto Sambu,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240157408A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Daisuke Goto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200152443A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411336A1. Автор: Masanobu Sato,Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI,Daiki UEHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194497A1. Автор: Takao Matsumoto,Hajime NISHIDE,Kwichang KANG. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180096837A1. Автор: Yi-Cheng Wang. Владелец: Wet Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240096659A1. Автор: Takashi Watanabe,Jun Takagi,Hiroyasu Iimori,Fuyuma ITO,Yuya Akeboshi,Ai MORI,Yosuke Maruyama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230085140A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani,Shun Matsui,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US11257701B2. Автор: Hidekazu Kiyama,Kazutoshi Ishimaru,Takehiro Kadokura,Takashige Suematsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063882A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230382069A1. Автор: Makoto Yamashita,Hiroshi Koizumi,Osamu Shindo,Yasuo Kato,Masashi Matsumoto,Yohei Sato,Mitsuyoshi Makida. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178047A1. Автор: Yungi Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194517A1. Автор: Jong Gun Lee,Minyoung Kim,Jumi Lee,Jaeoh Bang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150303077A1. Автор: Masatoshi Kaneda,Ryo Shimada,Kazuki NAGAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12036662B2. Автор: Yoshifumi Okada,Tomoyuki Shinohara,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230091850A1. Автор: Yuji Takebayashi,Shota Tanaka,Yusaku OKAJIMA,Hiroki HATTA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12044973B2. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Semiconductor substrate processing apparatus and the method thereof

Номер патента: US20230203654A1. Автор: Todd Dunn,Taku Omori,Cheuk Li,Aadil Vora,Paridhi GUPTA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230382070A1. Автор: Makoto Yamashita,Hiroshi Koizumi,Osamu Shindo,Yasuo Kato,Masashi Matsumoto,Yohei Sato,Toshinobu Miyagoshi,Seijiro SUNAGA,Mitsuyoshi Makida,Ryo Shindo. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Capacitively coupled plasma substrate processing apparatus

Номер патента: US20240258079A1. Автор: Seungho Lee,Taeho Shin,Buil Jeon,JungSu Park,Dooho LIM,Bumsoo ON. Владелец: Innovation For Creative Devices Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160010210A1. Автор: Hidehiro Yanai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-01-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160121373A1. Автор: Daisuke Aoki,Junya Minamida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-05.

Substrate processing apparatus and producing method of semiconductor device

Номер патента: US7892983B2. Автор: Masanori Sakai,Taketoshi Sato,Takaaki Noda,Norikazu Mizuno,Hironobu Miya. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-02-22.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20110212626A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-01.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8901011B2. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-12-02.

Substrate Processing Apparatus and Semiconductor Device Producing Method

Номер патента: US20080153309A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-06-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium of performing liquid exchange processing according to liquid exchange condition

Номер патента: US11282719B2. Автор: Kouji Takuma,Go Ayabe,Jong Won Yun,Ryo Manabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160059274A1. Автор: Katsuhiko Miya,Naozumi Fujiwara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US20190091733A1. Автор: Michinori IWAO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230282505A1. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Atsushi Moriya,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220334491A1. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Improved heater for use in substrate processing apparatus to deposit tungsten

Номер патента: EP1080485A1. Автор: Jun Zhao,Talex Sajoto,Leonid Selyutin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-03-07.

Rotating shaft sealing device and processing apparatus for semiconductor substrate using the same

Номер патента: US11764102B2. Автор: Hee Jang Rhee. Владелец: Sealink Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11735457B2. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210237221A1. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US20190055647A1. Автор: Kook Tae Kim,Bongjin Kuh,In-Sun Yi,Soojin HONG,Sukjin CHUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080572B2. Автор: Masahiro DOGOME,Masatomo KITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063883A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing apparatus and processing liquid supply method

Номер патента: US20180090306A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240242978A1. Автор: Yuichi Tanaka,Manabu Yamanaka,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki,Katsuhiro Ookawa,Tomotaka OMAGARI,Takuya ITAHASHI,Keiichi Yahata,Shuji OIE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus with capabilities of automatic device configuration and a method thereof

Номер патента: US20240210906A1. Автор: Tsutomu Makino,Trung Ngo Minh. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-27.

Batch type substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230054580A1. Автор: Minju Lee,Hyungjoon Kim,Sangyub IE,Eunyeoung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12087588B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US12091751B2. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240312800A1. Автор: Hakuba KITAGAWA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321624A1. Автор: Kenichiro Saito,Satoshi Ushida. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4432335A2. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240312849A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate supporting apparatus, substrate processing apparatus, substrate supporting method, control program of substrate supporting apparatus, and recording medium

Номер патента: US8340811B2. Автор: Majima Kazuyuki,Goshokubo Gen. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-12-25.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09970112B2. Автор: Kenichi Suzaki,Yasunobu Koshi,Akihito Yoshino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09870914B2. Автор: Yuki Yoshida,Koji Kagawa,Meitoku Aibara,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09847239B2. Автор: Yuichiro Inatomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09842754B2. Автор: Akira Takahashi,Hiroyuki Ogawa,Takeshi Yasui,Naoya Matsuura,Kazuya NABETA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-12-12.

Support information display method, maintenance support method of substrate processing apparatus, support information display control apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US09810905B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Toru Yamauchi,Toshiaki Kodama,Sensho Kobayashi,Kazuya Uoyama,Gaku Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Robot assemblies, substrate processing apparatus, and methods for transporting substrates in electronic device manufacturing

Номер патента: US09799544B2. Автор: Paul Z. Wirth. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09795999B2. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Yosuke Himori. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09790597B2. Автор: Kenichi Yamaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09728443B2. Автор: Kenji Kobayashi,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09721814B2. Автор: Masanobu Sato,Hiroyuki Yashiki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09698037B2. Автор: Yuichi Matsuda,Tomoyuki Yamada,Takashi Nogami,Shinobu Sugiura,Seiyo Nakashima. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus, substrate detection method of substrate processing apparatus and storage medium

Номер патента: US09691646B2. Автор: Kohei Mori,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing apparatus and processed substrate manufacturing method

Номер патента: US09673067B2. Автор: Mitsuru Miyazaki,Toshio Yokoyama,Junji Kunisawa,Teruaki HOMBO,Naoki TOYOMURA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Heater moving type substrate processing apparatus

Номер патента: US09644895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09601357B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Mitsukazu Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus, recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09595460B2. Автор: Tsukasa Iida. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using same

Номер патента: US09564287B2. Автор: Jun Abe,Takeshi Ohse,Norikazu Yamada,Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09548229B2. Автор: Masamichi Yachi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09455125B2. Автор: Makoto Kobayashi,Jun Tamura,Tetsuji Sato,Akihiro Yoshimura,Hiroshi Tsujimoto,Nobuhiro Wada,Masato Horiguchi,Mamoru NAOI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213043A1. Автор: Euisang Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20020160560A1. Автор: Satoshi Okada,Eisuke Nishitani,Michiko Nishiwaki,Katsuhisa Kasanami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2002-10-31.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200243350A1. Автор: Hiroshi Abe,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI,Tsutomu Osuka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4394847A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240142886A1. Автор: Dongjin Lee,Inho Choi,Injae Lee,Dohyun Jung,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Jonggu LEE,Dongsik JEONG,Daegeun YOON,Yebin Nam,Sungyong Bae,Euishin Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus including nozzle unit and substrate processing method

Номер патента: US20240091819A1. Автор: Hyeon Jun Lee,So Young PARK,Ju Hwan Lee,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240249956A1. Автор: Yohei Midorikawa,Ryo Kuwajima,Yohei NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180056470A1. Автор: Katsuhiko Tokushige,Mitsuru Miyazaki,Masayoshi Imai,Katsuhide Watanabe,Junji Kunisawa,Takeshi Iizumi,Suguru Ogura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-01.

Substrate processing apparatus, estimation method of substrate processing and recording medium

Номер патента: US12051587B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Masashi Enomoto,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307258A1. Автор: Toru Endo,Keisuke TAKAGI,Yusuke TAKEMATSU,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11733612B2. Автор: Kazuya Iwata,Norihisa Koga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20220145464A1. Автор: Shuhei SAIDO,Hiroaki Hiramatsu,Takuro Ushida. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240258083A1. Автор: Makoto Kato,Ryoma Muto,Kaisei SUGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240254628A1. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Substrate processing apparatus, alignment device, substrate processing method and alignment method

Номер патента: US20190049865A1. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240238848A1. Автор: Shuhei Takahashi,Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Akira Fujita,Takafumi Kinoshita,Tomoyuki Hashimoto,Kazuhiro Aiura,Daisuke Saiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240242977A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12065746B2. Автор: Masaki Inaba,Yasutoshi Okuno,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240282598A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240249962A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240248417A1. Автор: Hiroyuki Iwaki,Shinsuke TAKAKI,Ryohei FUJISE,Yoji SAKATA,Kenichirou Matsuyama,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo,Shingo Katsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200102654A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20170278726A1. Автор: Katsuhiko Miya. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12076820B2. Автор: Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20100285225A1. Автор: Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150241125A1. Автор: Won Sik Nam,Kang Heum YEON,Dae Seok SONG. Владелец: NPS CORP. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing apparatus, method for processing substrate, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220243337A1. Автор: Takanori FUKUSUMI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12087598B2. Автор: Takashi Tsukamoto,Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Daisuke Hara,Masahisa OKUNO,Toru Kakuda,Hideto TATENO,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12091753B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus, control method, and computer-readable storage medium

Номер патента: US12094737B2. Автор: Atsushi Yamamoto,Kenji Adachi,Masato Imamura,Tomohiko Muta,Masayuki Kajiwara,Katsunori Ichino,Takeaki Sakamoto,Daisuke Ishimaru,Takuya Tajiri,Tetsuro Iriyama,Hiroki Okaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing method, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12083553B2. Автор: Yusuke MIYAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240332047A1. Автор: Yoshitaka Miura,Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240355669A1. Автор: Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240361072A1. Автор: Kazuhiro Shoji,Tomohiro Uemura,Shuhei NEMOTO,Ryotaro SHINOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus, estimation method of substrate processing and recording medium

Номер патента: US20240355617A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Masashi Enomoto,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240332040A1. Автор: Koukichi Hiroshiro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US12068175B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09966282B2. Автор: Kunihiro Miyazaki,Kenji Minami,Yuji Nagashima,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09933702B2. Автор: Jiro Higashijima,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US09925571B2. Автор: Akihiro Kikuchi,Mitsuhiro Tomura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09911635B2. Автор: Makoto Hirano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451311A1. Автор: Kwang Sung Yoo. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Conveying method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09899245B2. Автор: Hiroshi Kikuchi,Eiki Fujii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09892942B2. Автор: Won Sik Nam,Kang Heum YEON,Dae Seok SONG. Владелец: NPS CORP. Дата публикации: 2018-02-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and method of detecting abnormality in transport container

Номер патента: US09773690B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Suguru Enokida,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703213B2. Автор: Jerry Johannes Martinus Peijster,Diederik Geert Femme Verbeek. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing apparatus for coating liquid composed of first coating liquid and second coating liquid on substrate with slit-shaped ejection port

Номер патента: US09623435B2. Автор: Yukihiro Wakamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09589819B1. Автор: Satoshi Takano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device and computer-readable recording medium

Номер патента: US09523150B2. Автор: Hideharu Itatani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-20.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09472398B2. Автор: Tatsuyuki Saito,Masanori Sakai,Yukinao Kaga,Takashi Yokogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09308559B2. Автор: Yoshifumi Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-04-12.

Method for cleaning chamber or component, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4383314A1. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Lifting device, substrate processing apparatus having lifting device, and unit transferring method

Номер патента: US20150082613A1. Автор: Tadakazu Sone,Hiroyuki Shinozaki,Hiroshi Aono,Toshio Yokoyama,Hideo Aizawa,Kenji Shinkai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-03-26.

Part for substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210178523A1. Автор: Michishige Saito,Sho Yamahira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Polishing head, substrate processing apparatus including the same and processing method of substrate using the same

Номер патента: US20210114163A1. Автор: Joon-Hwa Bae,Byoung Kwon Choo,Keun Woo Lee,Woo Jin Cho,Sung Hyeon PARK,Seung Bae Kang,Jung Gun Nam,Kyung Bo LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Shared exhaust unit and substrate processing apparatus including shared exhaust unit

Номер патента: US20240258085A1. Автор: Koei Aida. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333035A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus and method of manufacture using the same

Номер патента: US20180114714A1. Автор: Taewoo Kang,Byung Lyul Park,Kyoung Hwan Kim,Hyungjun Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070277856A1. Автор: Akio Hashizume. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230207376A1. Автор: Kiyoshi Mori,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20070231928A1. Автор: Hidehiko Ozaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-10-04.

Recipe creation method or apparatus utilizing a series of steps according to a target recipe file for semiconductor manufacturing or substrating processing

Номер патента: US12066815B2. Автор: Takatoshi Seki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Trolley and method for supporting component of substrate processing apparatus

Номер патента: US12065182B2. Автор: Jun Fujihara,Yuto FUJITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20170278729A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200135505A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2020-04-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057327B2. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US20090143890A1. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-04.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US8255072B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190206695A1. Автор: Kazuya Koyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110294280A1. Автор: Yoshiro Hirose,Yushin Takasawa,Hajime Karasawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-12-01.

Method of fixing substrate using electrostatic chuck and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20170098567A1. Автор: Chang-Oh Jeong,Su-Kyoung YANG,Gyung-Min Baek,Yoon-Yong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190094833A1. Автор: Satoshi Aizawa,Hiroto IWAKI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Rotating Device

Номер патента: US20080042328A1. Автор: Sumi Tanaka,Kouki Suzuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate placing method

Номер патента: US20240282617A1. Автор: Kimio Motoda,Norio Wada,Shintaro SUGIHARA,Hideyuki Fukushima,Kenji SUGAKAWA,Norifumi Kohama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240261932A1. Автор: Yuichi Sato,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus, substrate checking method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240321612A1. Автор: Takuya Saito,Shin Hiyama,Taiyo OKAZAKI,Shin TSUJIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing device, manufacturing method for semiconductor device, and reaction tube

Номер патента: US12062546B2. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Hidenari YOSHIDA,Shigeru Odake. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12119211B2. Автор: Changmin Lee. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09997380B2. Автор: Hitoshi Nakai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus having ground electrode

Номер патента: US09970111B2. Автор: Kohei Fukushima,Takeshi Ando,Koichi Shimada,Hiroyuki Matsuura,Yutaka Motoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09966286B2. Автор: Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Kazuma Yoshioka. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09966268B2. Автор: Arito Ogawa,Atsuro Seino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09899229B2. Автор: Naoki Fujiwara,Takashi Ota,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus, cover opening and closing mechanism,shielding mechanism, and method for purging container

Номер патента: US09887115B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Method for processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768012B2. Автор: Masanori Sakai,Tsutomu Kato,Yuji Takebayashi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate

Номер патента: US09695511B2. Автор: Hitoshi Murata,Masaaki Ueno,Tetsuya Kosugi,Masashi Sugishita. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240371661A1. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Substrate processing apparatus having a pillar support structure for preventing transformation of a ceiling portion

Номер патента: US09683290B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and non-transitory storage medium

Номер патента: US09627232B2. Автор: Keiichi Tanaka,Kousuke Yoshihara,Tomohiro Iseki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09623434B2. Автор: Yoshifumi Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09595433B2. Автор: Hiroaki Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing apparatus, method of transferring substrate, method of manufacturing semiconductor device, and state detecting program

Номер патента: US09558976B2. Автор: Junichi Kawasaki,Hajime Abiko. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09502239B2. Автор: Masahisa OKUNO,Hideto TATENO,Takuya Joda,Masamichi Kurokawa,Tooru KAKUDA. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2016-11-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09494877B2. Автор: Kazuhiro Nishimura,Yasushi Nakamura,Ryuichi Chikamori,Yasuo Kawamatsu. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Substrate Processing System

Номер патента: US20100132611A1. Автор: Yoshitaka Koyama. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2010-06-03.

Substrate mounting table, substrate processing apparatus and substrate temperature control method

Номер патента: US20090194264A1. Автор: Yasuharu Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-08-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230241634A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Processing chamber cleaning method, cleaning attachment and substrate processing system

Номер патента: US20240157410A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing device and method for manufacturing same

Номер патента: US20240136162A1. Автор: Young Gon Kim,Dongwook Kim,Jong Woo Lim,Nam Hui LEE,Min Choul HYUN,Jewook KIM. Владелец: Electro Static Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230307254A1. Автор: Yuta Segawa,Chiaki MORIYA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Schedule creation method, schedule creating device, substrate processing apparatus, substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20230041766A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara,Keisuke Inugai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240242972A1. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing device and method for manufacturing same

Номер патента: US20240234109A9. Автор: Young Gon Kim,Dongwook Kim,Jong Woo Lim,Nam Hui LEE,Min Choul HYUN,Jewook KIM. Владелец: Electro Static Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240087918A1. Автор: Katsuhiro Sato,Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12051605B2. Автор: Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Takahiro Koga,Nobuhiro Ogata,Kanta Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333036A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240079251A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing apparatus and abnormality detection method

Номер патента: US20220285197A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Hiroaki Chihaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20210210363A1. Автор: Takashi Nakazawa,Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Yusuke Takamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-08.

Centering Device, Centering Method and Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240258148A1. Автор: Itsuki Kajino,Shuhei NEMOTO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11499224B2. Автор: Tetsuaki Inada,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-11-15.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20230027653A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200027688A1. Автор: Shinji Kubota,Naohiko Okunishi,Shota Kaneko,Yosuke Tamuro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Substrate processing apparatus and monitoring method

Номер патента: US11765879B2. Автор: Junnosuke Taguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180195178A1. Автор: Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230168278A1. Автор: Daesung JUNG,Myeongock Ko,Meehyun Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12094732B2. Автор: Takashi Katayama,Keisuke Miyajima,Keiji Magara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240319707A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui,Yuji Yamaoka,Hiroshi Ekko,Kyo TAKATA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and program

Номер патента: EP4435537A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui,Yuji Yamaoka,Hiroshi Ekko,Kyo TAKATA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Substrate processing apparatus and control position setting method

Номер патента: US20240297061A1. Автор: Hiroyuki Wada,Gaku Watanabe,Ryoya TOMINAGA,Akashi FUJIO,Masami DODO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339334A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240332043A1. Автор: Yoshitaka Miura,Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12123091B2. Автор: Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Daigi KAMIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09929008B2. Автор: Yu Sasaki,Kosuke Takahashi,Masahiko Kaminishi,Yu WAMURA,Fumiaki Hayase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09887106B2. Автор: Hiroshi Sano,Itaru Furukawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Coating system and method for coating interior fluid wetted surfaces of a component of a semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09873940B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,John Michael Kerns,Robert Griffith O'Neill,Nash Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Component of substrate processing apparatus and method for forming a film thereon

Номер патента: US09828690B2. Автор: Koji Mitsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09818630B2. Автор: Akira Takahashi,Kazuyuki Toyoda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09805938B2. Автор: Naozumi Fujiwara,Yuji Sugahara,Toru EDO,Seiji Ano,Jun SAWASHIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus, storage device, and method of transporting substrate storing container

Номер патента: US09728434B2. Автор: Yukihiko Inagaki,Jun Yamamoto,Kensaku ONISHI. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09659767B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Atsushi Sano,Hidehiro Yanai,Tadashi Takasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-23.

Substrate processing method for transferring a substrate

Номер патента: US09643220B2. Автор: Hiroshi Kato. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and memory medium

Номер патента: US09601394B2. Автор: Teruhiko Kodama,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus with independently configurable integral load locks

Номер патента: EP1463677A1. Автор: David R. Beaulieu,Peter van der Meulen,Douglas R. Adams,Mitchell Drew. Владелец: Brooks Automation Inc. Дата публикации: 2004-10-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20160005592A1. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200105550A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Process Chamber and Substrate Processing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20210217636A1. Автор: Hyosan Lee,Kuntack Lee,Yong-jhin Cho,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Jung-min Oh,Yungjun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate-processing method and substrate-processing apparatus

Номер патента: US20240234162A9. Автор: Rui KANEMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US11189461B2. Автор: Yoshinori Yamamoto,Naoki Takahashi,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Processing liquid ejection nozzle, nozzle arm, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11776824B2. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura,Tatsuhiro Ueki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Liquid processing apparatus and liquid processing method

Номер патента: US20180032092A1. Автор: Hiroshi Komiya,Keigo Satake,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing apparatus and abnormality detection method

Номер патента: US20220285182A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Hiroaki Chihaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240149289A1. Автор: Ju Hwan Lee,Bu Young JUNG,Hyun Woo Bae. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US20200294767A1. Автор: Yoshinori Yamamoto,Naoki Takahashi,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US8034720B2. Автор: Eiichi Nishimura,Jun Yamawaku,Chie Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-11.

Substrate processing apparatus and nozzle cleaning method

Номер патента: US20140352730A1. Автор: Yuki Yoshida,Tetsuya Oda,Satoru Tanaka,Yoshinori Ikeda,Kazuyoshi Shinohara,Yoshihiro Kai,Meitoku Aibara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

High-pressure container, substrate processing apparatus, and method for manufacturing high-pressure container

Номер патента: US20140145390A1. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You,Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-29.

Substrate processing apparatus and a method of processing a substrate using the same

Номер патента: US20230360931A1. Автор: Sung Yong Park,Junghyun Song,Ansook Sul,Donok Choi,Jeonghun Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-09.

Substrate processing method, micropattern forming method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12057323B2. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240153811A1. Автор: Young Joon Kim,Sang Duk HWANG,Jai Hoon KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240248418A1. Автор: Hyun Woo Kim,Dong-Wook Kim,Yong Suk Choi,Cha Won Koh,Kyung Won Seo,Kyung-won Kang,Seok Heo,Sang Joon Hong,Young Il Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240207906A1. Автор: Young Joon Han,In Ki JUNG,Sang Gun LEE,Jeong Hyup YU,Se Min KANG,Ju Ha WOO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12097541B2. Автор: Masaya Kamiya,Daisuke Matsushima,Kensuke Demura. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12116666B2. Автор: Takeshi Ito,Tomoshi Taniyama,Daigi KAMIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054824B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Kiyotaka Horikawa,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09966289B2. Автор: Osamu Morita,Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Yasuaki Komae,Daigi KAMIMURA,Shigeru Odake. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Temperature measuring method, substrate processing system and component to be provided in substrate processing apparatus of the substrate processing system

Номер патента: US09952032B2. Автор: Chishio Koshimizu,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09881784B2. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09865452B2. Автор: Keisuke Egashira,Kouzou Tachibana,Kotaro Oishi,Hideaki Udou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09815093B2. Автор: Takayoshi Tanaka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Liquid treatment method, substrate processing apparatus and non-transitory storage medium

Номер патента: US09766543B2. Автор: Izumi Hasegawa,Yuichiro KUNUGIMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus and nozzle cleaning method

Номер патента: US09764345B2. Автор: Yuki Yoshida,Tetsuya Oda,Satoru Tanaka,Yoshinori Ikeda,Kazuyoshi Shinohara,Yoshihiro Kai,Meitoku Aibara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09666464B2. Автор: Hiroshi Kikuchi,Naoto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Apparatus and method for efficient materials use during substrate processing

Номер патента: US09589769B2. Автор: Vikram Singh,Richard J. Hertel,Ernest E. Allen,Vijayakumar C. Venugopal. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09587313B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Yuichi Wada,Hideto TATENO,Harunobu Sakuma. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09552987B2. Автор: Takahiro Shiozawa,Kenichi Ueda,Keiichi Tanaka,Yuichiro Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240379377A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Hideaki Yamasaki,Shinya Okabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09460893B2. Автор: Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Substrate processing apparatus for processing substrates

Номер патента: US20230395405A1. Автор: Theodorus Oosterlaken,Chris de Ridder. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-07.

Information processing apparatus, transfer position correction method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220388785A1. Автор: Tadashi Enomoto,Youngtai KANG,Keishi Shionaga,Nao Akashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Polishing pad and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230381913A1. Автор: Boun Yoon,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230381904A1. Автор: Makoto Yamashita,Hiroshi Koizumi,Osamu Shindo,Yasuo Kato,Masashi Matsumoto,Yohei Sato,Toshinobu Miyagoshi,Seijiro SUNAGA,Mitsuyoshi Makida. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230381903A1. Автор: Hiroshi Koizumi,Osamu Shindo,Masashi Matsumoto,Yohei Sato,Mitsuyoshi Makida. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12036585B2. Автор: Tadashi Iino,Yoshiteru Fukuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Inner wall and substrate processing apparatus

Номер патента: US12040198B2. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20210189560A1. Автор: Marko Pudas,Vaino Kilpi,Timo Malinen. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-06-24.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP3642386A1. Автор: Marko Pudas,Timo Malinen,V in KILPI. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2020-04-29.

Substrate processing system, load port and method

Номер патента: US20220246455A1. Автор: Chuang Li,Honghua ZHU. Владелец: TSMC China Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295821A1. Автор: Makoto Muramatsu,Hiroyuki Fujii,Keisuke Yoshida,Soichiro Okada,Yasuyuki Ido,Nanoka Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus and processing cup cleaning method

Номер патента: US20180025922A1. Автор: Hiroki Tsujikawa,Kazuhiro Fujita,Masahide Ikeda,Atsuyasu Miura,Yuya TSUCHIHASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230290610A1. Автор: Kwang su PARK,Chul Joo Hwang,Seung Youb SA,Ho Boem HER. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304439A1. Автор: Koji Akiyama,Philippe Gaubert,Hajime Nakabayashi,Chihiro Tamura,Hisashi WARASHINA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Inner Wall and substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240321602A1. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus and gas supply method thereof

Номер патента: US20240309504A1. Автор: Yeong-Been KIM,Hyun-Shik AHN. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US12112927B2. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate processing system, load port and method

Номер патента: US12112961B2. Автор: Chuang Li,Honghua ZHU. Владелец: TSMC China Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12131918B2. Автор: Sang Min Lee,Seung Hoon Oh,Yong Joon Im,Hyo Won Yang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09852935B2. Автор: Ulysses Gilchrist,Jairo T. Moura,Robert T. Caveney,Jayaraman Krishnasamy,Mitchell Drew. Владелец: Brooks Automation Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate temperature adjusting method and a method of changing the temperature control range of a heater in a substrate processing apparatus

Номер патента: US09410753B2. Автор: Toshiyuki Makabe,Taketoshi Okajo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Substrate processing system, method of controlling substrate processing system, computer-readable storage medium, and method of manufacturing article

Номер патента: US20190371637A1. Автор: Kenji Yamamoto,Mitsuhiro Masuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Substrate processing apparatus and cleaning method

Номер патента: US20240177978A1. Автор: Yusuke Kikuchi,Masato Shinada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Processing apparatus group management system, processing apparatus group management method, and program

Номер патента: US20230083863A1. Автор: Shinji Yamamoto,Kouhei NISHIKAWA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing unit, substrate transfer method, substrate cleansing process unit, and substrate plating apparatus

Номер патента: EP1920458A1. Автор: Kenichi Suzuki,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Ryo Kato,Teruyuki Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2008-05-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150020967A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota,Yuya Akanishi. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-22.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240242975A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing method

Номер патента: SG177250A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Hideto Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-02-28.

Exhaust gas processing apparatus having plasma source and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240249925A1. Автор: Jaehyun Kim,Suji Gim,Young Heo,Sunwoo YOOK,Kookjin Ann,Taijong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing method

Номер патента: US20240234189A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate process apparatus

Номер патента: WO2020252476A3. Автор: Alexander Krupyshev,Robert May,Daniel Babbs,Leigh SHARROCK. Владелец: Brooks Automation, Inc.. Дата публикации: 2021-02-04.

Substrate processing method including reprocessing rejected wafers

Номер патента: US09847263B2. Автор: Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing system having the same

Номер патента: US20230416923A1. Автор: Seung Ho Lee,Kee Jun KIM. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20240045405A1. Автор: Mitsunori Sugiyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus, linked processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11784057B2. Автор: Jong Won Yun. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20200126823A1. Автор: Keisuke Sasaki,Suguru Enokida,Masashi Tsuchiyama,Akihiro TERAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate processing method, substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US10520831B2. Автор: Yoshihiro Kondo,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-31.

Substrate processing apparatus with an air curtain in a loading/unloading part

Номер патента: US11749549B2. Автор: Dong Min Kim. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and program storage medium

Номер патента: US20090297705A1. Автор: Jiro Higashijima,Norihiro ITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-12-03.

Substrate processing system and condition monitoring method

Номер патента: US20240087936A1. Автор: Toshiaki Kodama,Takeshi NIIDOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing method, substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180076066A1. Автор: Yoshihiro Kondo,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-15.

Gas discharge unit, manufacturing method for the same, and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: WO2011139039A3. Автор: Seung Ho Lee,Sun Hong Choi,Ho Chul Lee,Sung Rok Bae,Tae Wan Lee. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220044916A1. Автор: KiChul Um,DooHan Kim,Sangyeop Lee,Sangjean Jeon. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-02-10.

Actuator to adjust dynamically showerhead tilt in a semiconductor- processing apparatus

Номер патента: US20200181776A1. Автор: John Wiltse. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Substrate processing device and determination method

Номер патента: US11461136B2. Автор: Ken Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-04.

Heating device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20110021039A1. Автор: Hitoshi Murata,Masaaki Ueno,Tetsuya Kosugi,Shinobu Sugiura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-01-27.

Discharge method, discharge system and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230052781A1. Автор: Daesoo Kim,Jimin CHOI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US12062559B2. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing method

Номер патента: US20110200949A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240278437A1. Автор: Sang Woo Park,Ji Ho Uh,Hyun Soo CHUN,Hyeon Dong SONG,Jun Young MOON,Un Ki JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Gas supply ring and substrate processing apparatus

Номер патента: US12087553B2. Автор: Yoshitomo Konta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method

Номер патента: US8367308B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-02-05.

Adjustable fluid inlet assembly for a substrate processing apparatus and method

Номер патента: US12110588B2. Автор: Marko Pudas,Vaino Kilpi,Timo Malinen. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240312765A1. Автор: Kyung Min Lee,Sung-Yeol Kim,Sang Yeol Park,Myung Jae Yoo,Sung Yong Lim,Yong Won CHO,Min Ju Jeong,Eun Suk LIM. Владелец: New Power Plasma Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Position detection method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240320837A1. Автор: Hikaru Sato,Yuta Haga,Motoi Okada,Kei Sano,Motohiro Okaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Showerhead, substrate processing apparatus including the same, and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: US20240331981A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-03.

An injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus

Номер патента: EP4446463A2. Автор: Lucian C. Jdira,Chris G.M. De Ridder. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-16.

Compact substrate processing tool with multi-station processing and pre-processing and/or post-processing stations

Номер патента: US09916995B2. Автор: Karl Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate

Номер патента: US09786527B2. Автор: Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Lifting device, substrate processing apparatus having lifting device, and unit transferring method

Номер патента: US09666469B2. Автор: Tadakazu Sone,Hiroyuki Shinozaki,Hiroshi Aono,Toshio Yokoyama,Hideo Aizawa,Kenji Shinkai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing apparatus and heating equipment

Номер патента: US09460946B2. Автор: Hitoshi Murata,Tetsuya Kosugi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-04.

Maintenance system, substrate processing apparatus, remote operation unit and communication method

Номер патента: US8171879B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-05-08.

Substrate processing apparatus, control method of the substrate processing apparatus, manufacturing method of semiconductor device and apparatus state shifting method

Номер патента: US8457774B2. Автор: Yukio Ozaki,Ichiro Nunomura,Satoru Takahata. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2013-06-04.

Substrate processing system, substrate processing method, and map creating device

Номер патента: US20230253224A1. Автор: Takeshi Akimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230416917A1. Автор: Sang Cheol Park,Bong Su Choi,Seung Han KIM,Kee Jun KIM. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Transfer robot and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: US11769681B2. Автор: Kyung Hee JEON,Dong Sun KO,Hun Hee NA. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11822318B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20230418267A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Process apparatus with on-the-fly substrate centering

Номер патента: US20230386879A1. Автор: Leigh F. Sharrock. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240017375A1. Автор: Takeshi Tamura,Tomohiro Kaneko,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

A semiconductor substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: EP1787315A1. Автор: Steven Verhaverbeke,Brian J. Brown. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-05-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230402303A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Tsunenaga Nakashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20210242084A1. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing apparatus and film forming system

Номер патента: US20120137973A1. Автор: Nobuyoshi Sato. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-06-07.

Substrate processing system

Номер патента: US20190025799A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2019-01-24.

Substrate processing apparatus and notification method

Номер патента: US20190139804A1. Автор: Rintaro TAKAO,Hiromichi Fujii,Yoshihide Kagihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240186155A1. Автор: Woo Ram Lee,Young Jun SON,Ki Sang EUM,Dong Woon Park,Jin Ho Choi. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate Processing Apparatus, Method of Processing Substrate, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Non Transitory Computer Readable Recording Medium on which Program for Performing Method of Manufacturing Semiconductor Device is Recorded

Номер патента: US20130243550A1. Автор: Hiroyuki Ogawa,Takeshi Yasui,Mitsuru Fukuda,Naoya Matsuura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2013-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210098279A1. Автор: Katsuhiro Yamazaki,Emi Matsui,Yoshikazu Ohtani,Kyouhei TOMIOKA,Shunya KUBOTA. Владелец: Shin Etsu Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Substrate processing apparatus and substrate holding apparatus

Номер патента: US20190318954A1. Автор: Tetsuji Togawa,Kenichi Kobayashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-10-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4331012A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus for temperature measurement of a moving substrate and method of measuring the temperature of a moving substrate

Номер патента: EP4298264A1. Автор: Silvio Gees,Manuel BASELGIA,Nuno Santos. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2024-01-03.

Substrate processing apparatus for temperature measurement of a moving substrate and method of measuring the temperature of a moving substrate

Номер патента: US20240068099A1. Автор: Silvio Gees,Manuel BASELGIA,Nuno Santos. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus, program and substrate processing method

Номер патента: US20150179490A1. Автор: Masahiro Yamamoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12020954B2. Автор: Toshio Yokoyama,Hirotaka Ohashi,Mizuki Nagai,Ryu Miyamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Apparatus for transferring substrate, substrate processing system and method of processing substrate

Номер патента: US20240120225A1. Автор: Akinori Shimamura,Dongwei Li,Hiromitsu Sakaue,Takehiro Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing system

Номер патента: US20200126831A1. Автор: Ting-Yu Wu,Chuan-Chang Feng,Mao-Lin Liu. Владелец: Scientech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate processing device, substrate processing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220406626A1. Автор: Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: WO2021141665A1. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate cleaning method, processing container cleaning method, and substrate processing device

Номер патента: US11504751B2. Автор: Kenji Sekiguchi,Shuuichi Nishikido,Kyoko Ikeda,Kazuya Dobashi,Tsunenaga Nakashima,Masato Nakajo,Takahiro YASUTAKE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180147609A1. Автор: Katsuhiko Miya,Naozumi Fujiwara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4415033A1. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: US12073224B2. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Machine learning platform for substrate processing

Номер патента: EP4405766A1. Автор: David Everton Norman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing method

Номер патента: US20240250064A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Yoshihiro Tsutsumi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing device, polishing device, and substrate processing method

Номер патента: US20240139782A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Daichi Kondo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240307821A1. Автор: Koji Kagawa,Mitsunori Nakamori,Yosuke Hachiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Systems and methods for monitoring of a controlled environment in a substrate processing system

Номер патента: US20240304477A1. Автор: Bert Jongbloed,Gido Van Der Star. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US09953840B2. Автор: Mitsunori Nakamori,Hiromi Kiyose,Kazuyuki Mitsuoka,Hiroshi Marumoto,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing system and substrate transfer control method

Номер патента: US09646864B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090014126A1. Автор: Yasufumi Koyama,Masami Ohtani. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-15.

Substrate processing apparatus with vertically stacked load lock and substrate transport robot

Номер патента: US6318945B1. Автор: Christopher A. Hofmeister. Владелец: Brooks Automation Inc. Дата публикации: 2001-11-20.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20040231794A1. Автор: Akihisa Hongo,Xinming Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-11-25.

Substrate processing unit and substrate processing apparatus using the same

Номер патента: US6155275A. Автор: Kaoru Shinbara. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-05.

Substrate processing apparatus, computer-readable storage medium storing a program, and substrate processing method

Номер патента: US20230230857A1. Автор: Mitsuru Miyazaki,Masayoshi Imai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and program

Номер патента: EP4307065A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240071794A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and system including the same

Номер патента: US20230402297A1. Автор: Dong Min Kim,Hyung Chul Kim,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230307264A1. Автор: Kunio Yamada,Masayuki Hayashi,Takashi Ota,Jiro Okuda,Tomoaki Aihara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and control method of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220399209A1. Автор: Tomonori Okumura,Keisuke Tsugao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-15.

Substrate processing apparatus and processing condition adjustment method

Номер патента: US11809091B2. Автор: Masashi Enomoto,Kentaro Yamamura,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Controlling apparatus for controlling operation of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220206467A1. Автор: Sang Bo Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Controlling apparatus for controlling operation of substrate processing apparatus

Номер патента: US11899429B2. Автор: Sang Bo Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Substrate processing apparatus, editing apparatus and method and non-transitory storage medium

Номер патента: US20150220136A1. Автор: Kunihiko Fujimoto,Seiichiro YUASA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-06.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11804395B2. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Substrate liquid processing apparatus

Номер патента: US11742226B2. Автор: Takao Inada,Kazuya Koyama,Takahiko Otsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230008278A1. Автор: Takeshi Matsumoto,Tomohiro Kaneko,Shuhei Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20120149208A1. Автор: Takahito Nakajima. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-06-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240055277A1. Автор: Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240068109A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190096711A1. Автор: Yoshinori Nishiwaki,Hideaki Sato,Takao Inada,Hiroki Ohno,Hisashi Kawano,Takahiko Otsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing apparatus and processing condition adjustment method

Номер патента: US20220252992A1. Автор: Masashi Enomoto,Kentaro Yamamura,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, control method for substrate processing apparatus and storage medium

Номер патента: US9389601B2. Автор: Yasunori Nakamura,Nobuhiko Nakagawa,Naohiko Kawashima. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Chamber liner for substrate processing apparatus

Номер патента: US20240150898A1. Автор: Hirotsugu Sugiura,Yoshiyuki Kikuchi,Koei Aida,Alexey REMNEV,Lingjun Xue. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-09.

Information processing apparatus and parameter control method

Номер патента: US20240087925A1. Автор: Kiwamu Ito,Yuichi Takenaga,Youngtai KANG,Rui IKEDA,Ken OKOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US11967509B2. Автор: Osamu Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240120232A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11881426B2. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210305053A1. Автор: Rintaro Higuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11450530B2. Автор: Rintaro Higuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411334A1. Автор: Masanobu Sato,Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI,Daiki UEHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200243365A1. Автор: Kenichirou Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178009A1. Автор: Junhee Choi,Yong Jun Kim,Tae-keun KIM,Kyeong Min Lee,Kang Sul KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Control device of substrate processing apparatus and control method of substrate processing apparatus

Номер патента: US20200135515A1. Автор: Jun Nonaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240173752A1. Автор: Junhee Choi,Yong Jun Kim,Tae-keun KIM,Kyeong Min Lee,Kang Sul KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and monitoring method in substrate processing apparatus

Номер патента: EP4235756A1. Автор: Shinji Shimizu,Ryo Yamada,Tatsuya Masui,Miwa MIYAWAKI,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Substrate processing apparatus and monitoring method in substrate processing apparatus

Номер патента: US20230274397A1. Автор: Shinji Shimizu,Ryo Yamada,Tatsuya Masui,Miwa MIYAWAKI,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Substrate processing system, method for controlling substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20150013722A1. Автор: Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240162054A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Method of cleaning substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20210082691A1. Автор: Shogo Fukui,Pohan HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230392262A1. Автор: Tae-Kwang Kim. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190244835A1. Автор: Nobuaki Okita,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-08.

Substrate processing apparatus, article manufacturing method, substrate processing method, substrate processing system, management apparatus, and storage medium

Номер патента: US20200333718A1. Автор: Shinichiro Koga,Takahiro Takiguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240096650A1. Автор: Masami Yamashita,Shogo Fukui,Tomofumi EMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20240071791A1. Автор: Jin Hee Lee,Tae Soon KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307277A1. Автор: Takahiro Yamaguchi,Jun SAWASHIMA,Akihisa ENSATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240173738A1. Автор: Junhee Choi,Yong Jun Kim,Tae-keun KIM,Kyeong Min Lee,Kang Sul KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210366740A1. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20170287760A1. Автор: Masahiro Yamamoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

Scheduler, substrate processing apparatus, and substrate conveyance method

Номер патента: US20180203434A1. Автор: Takashi Mitsuya,Kunio Oishi,Koji Nonobe,Ryuya KOIZUMI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

Scheduler, substrate processing apparatus, and substrate conveyance method

Номер патента: US20210011462A1. Автор: Takashi Mitsuya,Kunio Oishi,Koji Nonobe,Ryuya KOIZUMI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Substrate processing system and method for supplying processing fluid

Номер патента: US20200098594A1. Автор: Satoshi Okamura,Hiroaki Inadomi,Yasuo Kiyohara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240184208A1. Автор: Hyun Min Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Proximity pin, substrate processing apparatus, and method of processing substrate in substrate processing apparatus

Номер патента: US20210225689A1. Автор: Rong Li,Bin Hu,Hanlin Wang,Dawei Yang,Xinjie Zhang,Weishuai Zhang. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-22.

Proximity pin, substrate processing apparatus, and method of processing substrate in substrate processing apparatus

Номер патента: EP3714484A1. Автор: Rong Li,Bin Hu,Hanlin Wang,Dawei Yang,Xinjie Zhang,Weishuai Zhang. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-30.

Supercritical fluid supply apparatus, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240069451A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate Processing Apparatus, Analysis Method, Display Device, and Program

Номер патента: US20220310427A1. Автор: Shinji Yamamoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-29.

Substrate processing system, method for controlling substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US9782807B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and data processing method

Номер патента: US20240203765A1. Автор: Takashi Ota,Takashi Ikeuchi,Tetsuya Hiraoka,Hideji NAOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200246723A1. Автор: Gentaro Goshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-06.

Substrate processing system

Номер патента: WO2024151636A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation Us, Llc. Дата публикации: 2024-07-18.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing system, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230099451A1. Автор: Osamu Ueda,Kazuhide Asai,Norihito SHINOZAWA,Takanori KYOGOKU. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20060289431A1. Автор: Shinichi Ito,Tsuyoshi Shibata,Kei Hayasaki,Koutarou Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US11769677B2. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing system for removing peripheral portion of substrate, substrate processing method and computer readable recording medium thereof

Номер патента: US11752576B2. Автор: Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Package substrate processing method and protective tape

Номер патента: US20190109094A1. Автор: Youngsuk Kim,Byeongdeck Jang. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Substrate processing device, method for controlling substrate processing device, and storage medium storing a program

Номер патента: US10991605B2. Автор: Takuya Tsushima,Junitsu Yamakawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-04-27.

Substrate Processing Apparatus, Electrode Structure and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20230307212A1. Автор: Tsuyoshi Takeda,Hiroshi Nakajo,Daisuke Hara,Iichiro Tsuchikura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US20240258136A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing device

Номер патента: US20170117160A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-27.

Method, computer program product and apparatus for scheduling maintenance actions in a substrate processing system

Номер патента: US20050033463A1. Автор: Wim Tel,Harm Rossing,Suzan Auer-Jongepier. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-02-10.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US12080571B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing method

Номер патента: US20070004057A1. Автор: Toshio Kaneko,Toru Nishiwaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-04.

Substrate processing system

Номер патента: US20200411341A1. Автор: George Xinsheng Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing system

Номер патента: US20240355654A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2024-10-24.

Method, device, and non-transitory computer readable medium for determining timing of removing substrate from cassette in substrate processing device, and substrate processing device

Номер патента: US12119246B2. Автор: Hidetatsu Isokawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US12128451B2. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Kazuhiro Honsho. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Substrate processing module and substrate processing device equipped with same

Номер патента: EP4459663A1. Автор: Yasunori DEGUCHI. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Continuous substrate processing system

Номер патента: US09748125B2. Автор: Nag B. Patibandla,Li-Qun Xia,Banqiu Wu,Toshiaki Fujita,Pravin K. Narwankar,Ralf Hofmann,Jeonghoon Oh,Srinivas Satya. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate processing method

Номер патента: US09543162B2. Автор: Takashi Ota,Kazuhide Saito,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20050099629A1. Автор: Keiji Emoto,Kotaro Akutsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482429B2. Автор: Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Method for electrically discharging substrate, substrate processing apparatus and program

Номер патента: US20060215338A1. Автор: Takeshi Yokouchi,Fumiko Yagi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11180853B2. Автор: FONG-JIE Du,Yu Ishii,Makoto Kashiwagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-11-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US6053980A. Автор: Makoto Ozawa,Atsuhiko Suda,Kazuyuki Toyoda,Issei Makiguchi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US7396199B2. Автор: Yoshihiro Koyama,Yasuhiro Mizohata. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US10331034B2. Автор: Yuji Tanaka,Masahiko Harumoto,Koji Kaneyama,Masaya Asai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-25.

Substrate processing apparatus, substrate holder, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US7455734B2. Автор: Kazuhiro Morimitsu,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-11-25.

Substrate processing apparatus, control method adopted in substrate processing apparatus and program

Номер патента: US20060176928A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Toshiyuki Kobayashi,Shinichiro Hayasaka,Seiichi Kaise. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-08-10.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US10199240B2. Автор: Hiroshi Tomita,Hidekazu Hayashi,Yohei Sato,Kazuyuki Mitsuoka,Mitsuaki Iwashita,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Hisashi Okuchi,Gen You. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-02-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090229518A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,TOKUNOBU Akao. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-09-17.

Substrate processing system

Номер патента: US20060185793A1. Автор: Toshihiko Kikuchi,Yoshihide Sakamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-08-24.

Gas supply apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: WO2024055142A1. Автор: HUI Wang,Shan ZHANG,Tom Kim,Jacob Lee,William BAEK,Sulan Xie,Hongcai Fei. Владелец: Cleanchip Technologies Limited. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium therefor

Номер патента: US11926893B2. Автор: Naofumi Ohashi,Tetsuaki Inada. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240084448A1. Автор: Takafumi Sasaki,Hidetoshi Mimura,Hidenari YOSHIDA,Yusaku OKAJIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11935739B2. Автор: Akira Fujita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US20240004301A1. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240079256A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Taro Yamamoto,Suguru Enokida,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium that stores program to cause computer in substrate processing apparatus to execute substrate processing method

Номер патента: US11911868B2. Автор: Takashi Mitsuya,Ayumu Saito,Asagi Matsugu. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Substrate processing apparatus for minimizing the effect of a filling gas during substrate processing

Номер патента: US11923181B2. Автор: WonKi Jeong,Hyungchul Moon. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11915947B2. Автор: Koji Yamashita,Takumi Honda,Hironobu Hyakutake,Shinji Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240047233A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano,Tomoyuki Miyada. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200395227A1. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11908752B2. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190393028A1. Автор: Tomohiro Kaneko,Shuhei Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20210187685A1. Автор: Itsuki Kobata,Atsuo Katagiri. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US10651061B2. Автор: Takao Inada,Hiroki Ohno,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11869789B2. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Taro Yamamoto,Suguru Enokida,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200227290A1. Автор: Yuji Kimura,Yoshihiro Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240021457A1. Автор: Kenichirou Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240096666A1. Автор: Shinichiro Mori,Junichi Kawasaki,Yuri TAKEBAYASHI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and temperature regulation method

Номер патента: US20240014054A1. Автор: Tatsuya Watanabe,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus and apparatus for manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US11887868B2. Автор: Yong-Sun Ko,Kun-tack Lee,Yong-jhin Cho,Byung-kwon CHO,Young-Hoo Kim,Sang-Jine Park,Yeon-Jin Gil,Ji-Hoon Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190148176A1. Автор: Takashi Ikeda,Koji Tanaka,Hiroyuki Masutomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240021445A1. Автор: Hiroyuki Higashi,Hiroki Sakurai,Nobuhiro Ogata,Minsung Kim,Shinichi Umeno,Yenrui Hsu,Shoki MIZUGUCHI,Kazuya Goda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus and method for forming coating film on surface of reaction tube used for the substrate processing apparatus

Номер патента: US20120258565A1. Автор: Kazuyuki Toyoda,Eisuke Nishitani,Kiyoshi Miyajima,Yasuo Kunii,Tatsuya Hamaguchi,Tomohiro NAKASUJI,Kosaku HIYAMA. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-11.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11859280B2. Автор: Takafumi Sasaki,Hidetoshi Mimura,Hidenari YOSHIDA,Yusaku OKAJIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230290618A1. Автор: Naoki Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and recording medium

Номер патента: US11862486B2. Автор: Hiroshi Komiya,Gentaro Goshi,Yoshihiro Kai,Kazuki Kosai,Takahisa OTSUKA,Seiya Fujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US11961757B2. Автор: Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140290701A1. Автор: Yusuke Hashimoto,Shuichi Nagamine. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230260807A1. Автор: Yasuo Kiyohara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20170047233A1. Автор: Keisuke Yoshida,Masatoshi Kaneda,Yuzo Ohishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230056038A1. Автор: Naruaki Iida,Kousei Ide,Kazuya Matsushita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11094569B2. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-17.

Substrate processing device, substrate processing system, and data processing method

Номер патента: EP4325549A1. Автор: Takashi Ota,Takashi Ikeuchi,Tetsuya Hiraoka,Hideji NAOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230311153A1. Автор: Tae Won Yun,Sung Hun Eom,Yun Hwa Hong,Jong Kook Bae. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100573A1. Автор: Manabu Yamamoto,Takashi Izuta,Mitsutoshi Sasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240038533A1. Автор: Makoto Muramatsu,Kenichi Ueda,Keisuke Yoshida,Arnaud Alain Jean Dauendorffer,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240035168A1. Автор: Hironobu Hyakutake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11971661B2. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240149312A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240058847A1. Автор: Minako Inukai,Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11833550B2. Автор: Minako Inukai,Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Substrate processing system, controller for substrate processing system and operation method of substrate processing system

Номер патента: US20220033989A1. Автор: Hideki Wakabayashi,Yosuke Nagasawa,Tensei SATO,Kazuma Ideguchi,Shugo Midorikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate transfer method, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240006205A1. Автор: Kenichirou Matsuyama,Sho Kano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240071765A1. Автор: Yohei Yamashita,Gousuke Shiraishi,Hayato TANOUE,Kento ARAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230090997A1. Автор: Minako Inukai,Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11972958B2. Автор: Takumi Honda,Hiroyuki Masutomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US20160274469A1. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-22.

Substrate processing apparatus and substrate tranfser method

Номер патента: US20150270151A1. Автор: Takashi Mitsuya,Keiichi Kurashina,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Kenichi Akazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-09-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240082957A1. Автор: Yohei Yamashita,Gousuke Shiraishi,Hayato TANOUE,Kento ARAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240092591A1. Автор: Ho Chul Choi. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20240085812A1. Автор: Jongmin Baek,Woojin Lee,Wookyung You,Juhee Lee,Kyuhee Han,Kyeongbeom Park,Koungmin Ryu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180096866A1. Автор: Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing system, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20210003990A1. Автор: Naofumi Ohashi,Shun Matsui,Yasuhiro Mizuguchi,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-01-07.

Substrate processing apparatus including substrate transfer robot

Номер патента: US20230326783A1. Автор: Takahiro Murakami,Kazuhiro Nishiwaki. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20200006092A1. Автор: Yoshinori Ikeda,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Process detecting unit, substrate processing apparatus and substrate process monitoring method

Номер патента: US20240178023A1. Автор: Jong-Seok Lee,Seung-Min Oh,In-Il JUNG. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

System for monitoring failure of substrate processing apparatus, and method for monitoring failure of substrate processing apparatus

Номер патента: US20150084772A1. Автор: Ichiro NAMIOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-03-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing system including the same

Номер патента: US20180190485A1. Автор: Yong-Sun Ko,Hyun-Jung Lee,Dong-Gyun Han,Jeong-Yong Bae,Boong Kim,Woo-Young Kim,Se-Jin Park,Woo-gwan Shim,Won-Ho JANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing system including the same

Номер патента: US20200303182A1. Автор: Yong-Sun Ko,Hyun-Jung Lee,Dong-Gyun Han,Jeong-Yong Bae,Boong Kim,Woo-Young Kim,Se-Jin Park,Woo-gwan Shim,Won-Ho JANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing system including the same

Номер патента: US10707071B2. Автор: Yong-Sun Ko,Hyun-Jung Lee,Dong-Gyun Han,Jeong-Yong Bae,Boong Kim,Woo-Young Kim,Se-Jin Park,Woo-gwan Shim,Won-Ho JANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190252223A1. Автор: Tatsuya Ito,Daisuke Aoki,Junya Minamida,Yasunori Toyoda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-08-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180218930A1. Автор: Chen Yuan,Yu Yang,Wei Zhou,Weigang PENG,Chengnan HSIEH,Giseub LIM. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus and protective layer forming method

Номер патента: US20240087919A1. Автор: Jumpei Fujikata. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing system and method of determining flow rate of gas

Номер патента: US20190301912A1. Автор: Kazuyuki Miura,Hiroshi Yazaki,Yasuhiro Shoji,Norihiko Amikura,Risako Miyoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190122905A1. Автор: Takao Inada,Hiroki Ohno,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230298910A1. Автор: Shusaku Matsumoto,Koichiro Kawano,Shiguma KATO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240136205A1. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4343470A1. Автор: Shinichiro Mori,Junichi Kawasaki,Yuri TAKEBAYASHI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-27.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US12007698B2. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178024A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240170310A1. Автор: Masahito Kitamura,Hiroyuki Kitamoto,Takafumi Nitta,Tomoki MATSUNAGA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8251012B2. Автор: Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2012-08-28.

Contactless power feeding system, power feeding device, and power feeding management server

Номер патента: US12030394B2. Автор: Daiki Yokoyama,Toshiya Hashimoto. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Wireless power feeding system and method and wireless power transmission system

Номер патента: US20240266879A1. Автор: Xiang Li,Wataru Hijikata,Hideyuki Nakanishi,Shigeki Ozawa,Toshiki OHORI. Владелец: Laurel Machinery Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Power feeding device

Номер патента: US09973040B2. Автор: Osamu Ohashi,Masayoshi Koizumi,Tsuyoshi Nishio,Noriaki Asaoka. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Contactless power feeding coil assembly and power feeding system

Номер патента: EP4331892A1. Автор: Eisuke Takahashi,Nobuhisa Yamaguchi,Shimpei Takita,Yusei NAKAYASHIKI. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2024-03-06.

Wireless power feeding system having tuning adjustment circuit

Номер патента: US12095281B2. Автор: Kenji Tahara,Yasushi Sekizawa. Владелец: Raisontech Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Wireless power feeding system and method, and wireless power transmission system

Номер патента: EP4318872A1. Автор: Xiang Li,Wataru Hijikata,Hideyuki Nakanishi,Shigeki Ozawa,Toshiki OHORI. Владелец: Laurel Machinery Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Dual substrate processing

Номер патента: WO2023192773A3. Автор: Alexander Sou-Kang Ko. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2023-12-07.

Power Receiving Device, Power Feeding Device, Method Executed by Power Receiving Device, Method Executed by Power Feeding Device and Communication System

Номер патента: US20230161396A1. Автор: Shogo Fujita,Koji Onda,Kosuke Onoyama,Satoshi Miyagishima. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 2023-05-25.

Power receiving device, power feeding device, method executed by power receiving device, method executed by power feeding device and communication system

Номер патента: US12111710B2. Автор: Shogo Fujita,Koji Onda,Kosuke Onoyama,Satoshi Miyagishima. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240149582A1. Автор: Kug Jin YOON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Dual substrate processing

Номер патента: WO2023192773A2. Автор: Alexander Sou-Kang Ko. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US09558304B2. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240219837A1. Автор: Ki Won Han,Jun Ho Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09732421B2. Автор: Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer-readable storage medium storing substrate processing program

Номер патента: US09675992B2. Автор: Satoshi Kaneko,Yoshihiro Kawaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09587314B2. Автор: Taketoshi Sato,Hiroaki Hiramatsu,Yukitomo Hirochi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Adjustment apparatus for adjusting processing units provided in a substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus having such an adjustment apparatus

Номер патента: US09915938B2. Автор: Koichi Takeda,Takamasa Nakamura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate processing apparatus and method for detecting an abnormality of an ozone gas concentration

Номер патента: US09618493B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4393607A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240309506A1. Автор: Sung Hwan Lee,Kun Woo Park,Woo Young Park,Jae Jin Han. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09822450B2. Автор: Eiji Ozaki,Keisuke Ueda,Toshikazu Nakazawa,Norihito Tsukamoto. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09487863B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Kazuhiro Morimitsu,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09464353B2. Автор: Won Jun Yoon,Young Hoon Park,Dong Ho Ryu. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Substrate processing apparatus, lithography apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US09459541B2. Автор: Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Schedule creation program generating method, schedule creation program generating apparatus, schedule creating apparatus, recording medium, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240329624A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240376603A1. Автор: Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Flexible substrate processing apparatus

Номер патента: US09487880B2. Автор: Naoto Kusumoto,Minoru Takahashi,Junpei Momo,Yumiko Saito,Tamae Moriwaka. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: SG10201807288PA. Автор: Toriyabe Toyonaga. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240176256A1. Автор: Kun-Lin Chou. Владелец: Eclat Forever Machinery Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240310739A1. Автор: Jaehong Lee,Ho Young Kim,Sunghwan Kim,Kyoungwhan OH,Jaekyung PARK,Yohan CHOE. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240329547A1. Автор: Shinichi Machidori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09988717B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09869022B2. Автор: Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09606454B2. Автор: Takashi Taguchi,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing apparatus, data processing method, and data processing program

Номер патента: US20240272592A1. Автор: Yuki Kataoka,Takuro TSUTSUI,Yukiya SAITOU,Yuanchieh LING. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295024A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Makoto Takahashi,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295023A1. Автор: Makoto Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing system, substrate processing apparatus and method for accumulating data for substrate processing apparatus

Номер патента: US09720407B2. Автор: Yoshitaka Koyama,Hiroyuki Iwakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-01.

Exhaust flow rate control apparatus and substrate processing apparatus provided therewith

Номер патента: US09616545B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Gas inlet tube assembly for an improved gas mixture in a substrate processing apparatus

Номер патента: US20240124981A1. Автор: DongRak Jung,Jongsu Kim,Arun THOTTAPPAYIL. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230085449A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Inline vacuum processing apparatus, method of controlling the same, and information recording medium manufacturing method

Номер патента: SG162699A1. Автор: Masahiro Kawata. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-07-29.

Data acquisition method of substrate processing apparatus and sensing substrate

Номер патента: US09915677B2. Автор: Hikaru AKADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Level sensor and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240118072A1. Автор: Seungwoo Lee,Akinori Okubo,Sungho Jang,Jaehwang Jung,Jungchul Lee,Sangwoo Bae,Minhwan Seo,Sangjoon Hong,Jangwoon SUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Gas baffle and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240318313A1. Автор: Dae-geun YOON. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Laryngoscope with electronically controlled jet high-frequency lung ventilation

Номер патента: RU2564833C2. Автор: Да У.. Владелец: ШаньДунИхэ Медикал Технолоджи Ко., Лтд.. Дата публикации: 2015-10-10.

Gas discharge unit, manufacturing method for the same, and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: WO2011139039A2. Автор: Seung Ho Lee,Sun Hong Choi,Ho Chul Lee,Sung Rok Bae,Tae Wan Lee. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2011-11-10.

Light interference system and substrate processing apparatus

Номер патента: US20130314713A1. Автор: Kenji Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-11-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295027A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Information processing device, substrate processing device, and information processing method

Номер патента: US20240302817A1. Автор: Takamasa Nakamura,Hirofumi OTAKI,Sho ICHINOSE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US20140236556A1. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-08-21.

Information processing apparatus, information processing system, and information processing method

Номер патента: US20230020497A1. Автор: Katsuya Kobayashi,Daiki Yokoyama,Toshiya Hashimoto,Takahiro Hirano,Midori Sugiyama,Ryunosuke YAMASHITA. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2023-01-19.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: WO2018182886A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: US20180281027A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Method of substrate processing

Номер патента: RU2436882C2. Автор: Гэри П. ФАДЖИТТ,Террелл Дж. ГРИН,Скотт Э. ДЖИНТЕР,Джон У. СТОЛАРЗ,Роберт У. КАРЛСОН,Стенли Х. мл. МАКГРЮ,Стивен П. МЕЦЛЕР. Владелец: Мидвествако Корпорейшн. Дата публикации: 2011-12-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230323538A1. Автор: Yusuke Kikuchi,Masato Shinada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20030015281A1. Автор: Daniel Reed,Ronald Hoffman,Cory Worth,Nathaniel Kvamme. Владелец: Xyron Inc. Дата публикации: 2003-01-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer-readable storage medium storing substrate processing program

Номер патента: US20150165471A1. Автор: Satoshi Kaneko,Yoshihiro Kawaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-18.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: WO2024147966A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-11.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: US20240230189A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method

Номер патента: US20180134607A1. Автор: Yasushi Ito,Kenichi Ichikawa,Kaori TATEISHI. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Apparatus for Manufacturing Magnetic Recording Disk, and In-Line Type Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20070234958A1. Автор: Naoki Watanabe,Osamu Watabe,Kazunori Tani,Nobuyoshi Watanabe,Shinji Furukawa,Hiromi Sasaki. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2007-10-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230383407A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Naoki Umehara,Syuji Nozawa,Ryohei YONEDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus, semiconductor manufacturing equipment, and substrate processing method

Номер патента: US20230244150A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240092094A1. Автор: Yong Won Kim,Hyunjik JUNG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240139909A1. Автор: Matsutaro Miyamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: FI20205024A1. Автор: Marko Pudas. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-11.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4087954A1. Автор: Marko Pudas. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-16.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20230024132A1. Автор: Marko Pudas. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2023-01-26.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROLLER, MASS FLOW CONTROLLER SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND GAS FLOW RATE ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120000542A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR THERMAL BASED SUBSTRATE PROCESSING WITH VARIABLE TEMPERATURE CAPABILITY

Номер патента: US20120003388A1. Автор: Wu Kai,YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,KHANDELWAL AMIT,WANG BENJAMIN CHENG,GELATOS AVGERINOS V.,KARAZIM MICHAEL P.,LIN JING,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.