Flux cleaning apparatus.

Flux cleaning apparatus

Номер патента: US20120006364A1
Опубликовано: 12-01-2012
Автор(ы): Jong-Guw KIM
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Flux cleaning method

Номер патента: US09555449B2. Автор: Jong-Guw KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate cleaning apparatus, substrate drying apparatus, substrate transport apparatus, substrate placing apparatus, substrate processing apparatus, charge amount control method, and charge amount control program

Номер патента: US20240145276A1. Автор: Yosuke Himori. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Cleaning apparatus

Номер патента: US10105737B2. Автор: Chun-Ming Wu,Chia-Jen Kao,Yu-Ting Shih. Владелец: Global Unichip Corp. Дата публикации: 2018-10-23.

Cleaning apparatus

Номер патента: US20170165718A1. Автор: Chun-Ming Wu,Chia-Jen Kao,Yu-Ting Shih. Владелец: Global Unichip Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Cleaning apparatus and process for cleaning electronic components

Номер патента: US20150258585A1. Автор: Gun Woo Park. Владелец: DONG GUAN COWELL OPTIC ELECTRONICS Ltd. Дата публикации: 2015-09-17.

Carrier boat for die package flux cleaning

Номер патента: US20230101770A1. Автор: Suming Hu,Farshad Ghahghahi,Andrew Kwan Wai Leung. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2023-03-30.

Polysilicon chip reclamation assembly and method of reclaiming polysilicon chips from a polysilicon cleaning apparatus

Номер патента: US20180226243A1. Автор: James C. Mundell,Jason L. Giardina,Nathaniel C. McIntee-Chmielewski. Владелец: Hemlock Semiconductor Operations LLC. Дата публикации: 2018-08-09.

Substrate cleaning apparatus, substrate processing apparatus, apparatus for cleaning cleaning member, and method for cleaning cleaning member

Номер патента: US20240165675A1. Автор: Koichi Fukaya,Yosuke Himori. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Cleaning apparatus and method of circuit boards in advanced electronic devices by making use of insulating liquids

Номер патента: US20070144560A1. Автор: Han Uhm. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-28.

Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method

Номер патента: US09842732B2. Автор: Hideaki Tanaka,Koji Maeda,Soichi Isobe,Hiroshi Shimomoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09773686B2. Автор: Hideaki Tanaka. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method

Номер патента: US09704728B2. Автор: Hideaki Tanaka,Koji Maeda,Soichi Isobe,Hiroshi Shimomoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Wafer cleaning apparatus and wafer cleaning method using the same

Номер патента: US12042828B2. Автор: Seung Min Shin,Young-Hoo Kim,Yong Jun Choi,In Gi Kim,Tae-Hong Kim,Seok Hoon Kim,Kun Tack LEE,Hun Jae JANG,Ji Hoon Cha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-23.

Semiconductor wafer cleaning apparatus

Номер патента: US20020134410A1. Автор: Han-Joo Lee,So-Lip Son. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2002-09-26.

Cleaning apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20170207106A1. Автор: HAIYANG Xu,Mitsuru Miyazaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-07-20.

Cleaning apparatus, substrate processing apparatus, and cleaning method

Номер патента: US20240321601A1. Автор: Akira Imamura,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Fumitoshi Oikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate cleaning apparatus

Номер патента: US09824903B2. Автор: Tomoatsu Ishibashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Substrate cleaning apparatus and method and brush assembly used therein

Номер патента: US09704729B2. Автор: Jun Ho SON,Moon Gi CHO. Владелец: KC Tech Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate cleaning apparatus

Номер патента: US09643215B2. Автор: Dong-Myung Shin,Seung-Jun Lee,Jung-Hwa You,Sohra Hahn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Cleaning liquid nozzle, cleaning apparatus, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20190348277A1. Автор: Ho-Young Kim,Sol Han,Boun Yoon,Chae Lyoung Kim,Tae-Hong Kim,Yungjun Kim,Joonoh Kim. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2019-11-14.

Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus

Номер патента: US12030092B2. Автор: Satoru Yamamoto,Kenji Kodera,Keisuke Uchiyama,Hokuto YAMANOBE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Cleaning liquid nozzle, cleaning apparatus, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230162970A1. Автор: Ho-Young Kim,Sol Han,Boun Yoon,Tae-Hong Kim,Yungjun Kim,Joonoh Kim,Chae Lyung Kim. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method

Номер патента: US20230381825A1. Автор: Yoshiki Okamoto,Akihiro Kubo,Yasushi Takiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method

Номер патента: US20240075503A1. Автор: Mitsuru Miyazaki,Koichi Fukaya,Fumitoshi Oikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Wafer cleaning apparatus

Номер патента: US20240238849A1. Автор: Donghoon Kwon,Jieun SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning unit

Номер патента: US20140041696A1. Автор: Hirokazu Tanaka,Kohei Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-02-13.

Electronic component cleaning apparatus

Номер патента: US20240258125A1. Автор: Hiroshi Kikuchi,Kinn RI. Владелец: Yamaha Robotics Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate cleaning apparatus and cleaning member

Номер патента: US20020004962A1. Автор: Fumitoshi Oikawa,Koji Atoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-17.

Air jet substrate cleaning apparatus

Номер патента: US20200316656A1. Автор: Ka Shing Kwan,Ajit Shriman Gaunekar,Shivang. Владелец: ASM TECHNOLOGY SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2020-10-08.

Cleaning apparatus, equipment, and method

Номер патента: US20130192628A1. Автор: Yoshihiro Mori,Teruo Haibara,Etsuko Kubo,Masashi Uchibe. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2013-08-01.

Substrate cleaning apparatus and cleaning method of substrate

Номер патента: US12100587B2. Автор: Mitsuru Miyazaki,Koichi Fukaya,Fumitoshi Oikawa,Tomoaki Fujimoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Substrate cleaning apparatus

Номер патента: US20240286176A1. Автор: Keun Woo Lee,Dae Jung Kang,Byeong Jo PARK. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Compact reflow and cleaning apparatus

Номер патента: WO2001034335A9. Автор: Randall L Rich,Shean R Dalton. Владелец: Speedline Technologies Inc. Дата публикации: 2002-08-15.

Compact reflow and cleaning apparatus

Номер патента: WO2001034335A1. Автор: Shean R. Dalton,Randall L. Rich. Владелец: Speedline Technologies, Inc.. Дата публикации: 2001-05-17.

Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method

Номер патента: US12131919B2. Автор: Masami Akimoto,Tsunenaga Nakashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Ultrasonic cleaning apparatus

Номер патента: US09901962B2. Автор: Kazunari Suzuki. Владелец: Kaijo Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Ultrasonic cleaning apparatus

Номер патента: US09815092B2. Автор: Hiroshi Hasegawa,Akihisa Nakano,Junichiro Soejima,Yasuhiro Imazeki. Владелец: Kaijo Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Cleaning method and cleaning apparatus for a mask

Номер патента: US09724735B2. Автор: Youyuan Kuang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning unit

Номер патента: US09579695B2. Автор: Hirokazu Tanaka,Kohei Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Semiconductor wafer cleaning apparatus

Номер патента: US20190088468A1. Автор: Po-Jen Shih,Wen-Hung Hsu,Ming-Sung HUNG,Chia-Lun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Circuit board cleaning apparatus, burn-in board cleaning apparatus, methods of cleaning a circuit board, and methods of cleaning a burn-in board

Номер патента: US20070246086A1. Автор: Ong Eng Guan,Tao Yo Chang,Ng Swee Lye. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-10-25.

Circuit board cleaning apparatus, burn-in board cleaning apparatus, methods of cleaning a circuit board, and methods of cleaning a burn-in board

Номер патента: SG136830A1. Автор: Ong Eng Guan,Tao Yo Chang,Ng Swee Lye. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-11-29.

Process fluid treatment apparatus, and wafer cleaning apparatus and semiconductor manufacturing equipment including same

Номер патента: US20240145265A1. Автор: Dong Uk Lee,Young Seop CHOI,Bok Kyu Lee,Myung A Jeon,Boo Seok YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Polysilicon chip reclamation assembly and method of reclaiming polysilicon chips from a polysilicon cleaning apparatus

Номер патента: WO2016053571A1. Автор: James C. Mundell,Jason L. Giardina,Nathaniel C. McIntee-Chmielewski. Владелец: HEMLOCK SEMICONDUCTOR CORPORATION. Дата публикации: 2016-04-07.

Cleaning apparatus for cleaning member, substrate cleaning apparatus and cleaning member assembly

Номер патента: US11848216B2. Автор: Masayoshi Imai,Takeshi Iizumi,Takayuki Kajikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Liquid cleaning apparatus for cleaning printed circuit boards

Номер патента: US20090178695A1. Автор: Eric Becker,Dirk Ellis. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2009-07-16.

Semiconductor wafer cleaning apparatus

Номер патента: US20240087878A1. Автор: Po-Jen Shih,Wen-Hung Hsu,Ming-Sung HUNG,Chia-Lun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Liquid cleaning apparatus for cleaning printed circuit boards

Номер патента: WO2009091461A2. Автор: Eric Becker,Dirk Ellis. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC.. Дата публикации: 2009-07-23.

Cleaning apparatus

Номер патента: US6092542A. Автор: Kenya Ito,Naoki Matsuda,Yoshiyuki Ohta,Takahiro Nanjo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2000-07-25.

Cleaning apparatus of a high density plasma chemical vapor deposition chamber and cleaning thereof

Номер патента: US20050211279A1. Автор: Sung Hwang,Kyoung Chin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Closed-loop dual-cycle printed circuit board cleaning apparatus and method

Номер патента: US5201958A. Автор: Paul M. Austen,Rex Breunsbach. Владелец: Electronic Controls Design Inc. Дата публикации: 1993-04-13.

Megasonic cleaning apparatus for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20030178049A1. Автор: Sang-rok Hah,Kyung-hyun Kim,Byoung-moon Yoon,Jeong-lim Nam,Hyun-Ho Jo,In-jun Yeo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-09-25.

Substrate cleaning apparatus

Номер патента: US20060185696A1. Автор: Yoshiharu Yamamoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-24.

Substrate cleaning apparatus and method and brush assembly used therein

Номер патента: US20140366913A1. Автор: Jun Ho SON,Moon Gi CHO. Владелец: KC Tech Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-18.

Semiconductor wafer cleaning apparatus

Номер патента: US11854793B2. Автор: Po-Jen Shih,Wen-Hung Hsu,Ming-Sung HUNG,Chia-Lun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Cleaning apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US11948811B2. Автор: Mitsuru Miyazaki,Takuya Inoue,Koichi Fukaya,Fumitoshi Oikawa,Tomoaki Fujimoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Wafer-cleaning apparatus including a window protector and a method of cleaning a wafer

Номер патента: US20220230872A1. Автор: Sunghyun Park,Kuntack Lee,Seungho KIM,Taehong KIM,Younghoo KIM,Seungmin SHIN,Hunjae JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-07-21.

Rotatable faraday cleaning apparatus and plasma processing system

Номер патента: US20220297168A1. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Rotatable faraday cleaning apparatus and plasma processing system

Номер патента: US12009188B2. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Electric switch cleaning apparatus and method

Номер патента: US20080029124A1. Автор: Kenneth Schroeder. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-02-07.

Cleaning apparatus

Номер патента: US09687889B2. Автор: Junji Shibata,Kazuya Omori. Владелец: Daifuku Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Wafer cleaning apparatus

Номер патента: US20220344195A1. Автор: Nam Jin KIM,Seung Dae Baek,Sung Yup Kim. Владелец: Zeus Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-27.

Cleaning Apparatus of Carrier for Secondary Battery

Номер патента: US20240335864A1. Автор: Chun Hong PARK,Hyeonwoong KANG. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Laser Cleaning Apparatus and Method

Номер патента: US20230191462A1. Автор: John Redvers Clowes. Владелец: Woodrow Scientific Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Laser cleaning apparatus and method

Номер патента: EP4157579A1. Автор: John Redvers Clowes. Владелец: Woodrow Scientific Ltd. Дата публикации: 2023-04-05.

Cleaning apparatus for surface submerged in liquid

Номер патента: EP4395163A1. Автор: Qian Yu,Cuixiao GENG. Владелец: Wybotics Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09978617B2. Автор: Hideaki Tanaka. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09466512B2. Автор: Tomoatsu Ishibashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Wafer cleaning apparatus and wafer cleaning method

Номер патента: US20220266308A1. Автор: Peng Dong. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-08-25.

Cleaning composition, cleaning apparatus, and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20190241844A1. Автор: Young-Hoo Kim,Jung-min Oh,Tae Keun Kim,Min Hee Cho,Ji Soo Jeong,Hyo San LEE,Ye Rim YEON,Mi Hyun Park,Hae Rim Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-08.

Member for semiconductor cleaning apparatus

Номер патента: US20220254659A1. Автор: Shinji Murakami,Hirokazu Yukawa,Toshiaki Masui,Keisuke Hagi. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Bonding system with cleaning apparatus for cleaning non-bonding surface of substrate

Номер патента: US11424142B2. Автор: Hiroshi Maeda,Satoshi Nishimura,Yuji MIMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-23.

Cleaning apparatus, chemical mechanical polishing system including the same, cleaning method after chemical mechanical polishing, and method of manufacturing semiconductor device including the same

Номер патента: US20180315613A1. Автор: Hyosan Lee,Sol Han,Boun Yoon,Chae Lyoung Kim,Jung-min Oh,Tae-Hong Kim,Ingi KIM,Yungjun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-11-01.

Wet cleaning apparatus and wet cleaning method

Номер патента: US20190111391A1. Автор: Daisuke Sato,Masayuki Kaneda,Koji Nakata,Hideaki Iino. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2019-04-18.

Sensor assembly cleaning apparatuses

Номер патента: US11548480B2. Автор: Anatolii VITANOV. Владелец: Pony AI Inc Cayman Islands. Дата публикации: 2023-01-10.

Substrate cleaning apparatus

Номер патента: US11761075B2. Автор: Shuji Moriya,Yukimasa Saito,Kyoko Ikeda,Kazuya Dobashi,Toshiki HINATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Tab cleaning apparatus

Номер патента: US20240225385A9. Автор: Xuesong Zhuo. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Cleaning apparatus

Номер патента: US09559634B2. Автор: Anton Jaeger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-31.

Tab cleaning apparatus

Номер патента: US20240130581A1. Автор: Xuesong Zhuo. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Tab cleaning apparatus

Номер патента: EP4360769A1. Автор: Xuesong Zhuo. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Cleaning apparatus, imaging unit including cleaning apparatus, and cleaning method

Номер патента: US11904367B2. Автор: Takaaki Mori. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Cleaning apparatus and cleaning method

Номер патента: US20200099826A1. Автор: Yohei Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-03-26.

Cleaning apparatus and method for laser cleaning of a printing plate

Номер патента: EP3801974A1. Автор: Anders Conradsen Kongstad. Владелец: Flexo Wash ApS. Дата публикации: 2021-04-14.

Universal cleaning apparatus

Номер патента: US20020112300A1. Автор: Audrey Muhr-Sweeney. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-22.

Plasma jet cleaning apparatus and method

Номер патента: US4555612A. Автор: Michael F. Collins,Francis D. Lordi. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1985-11-26.

On-board sensor cleaning apparatus and on-board sensor cleaning method

Номер патента: US20220153235A1. Автор: Ryo Sato. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Turret-type cleaning apparatus

Номер патента: US09643218B2. Автор: Hiroki Haremaki,Toru Sumiyoshi,Masaaki Sugimura. Владелец: Sugino Machine Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Cleaning apparatus and method

Номер патента: NL2029649A. Автор: NIKIPELOV Andrey,DOLGOV Alexandr,Adrianus Van De Kerkhof Marcus,Silvester Houweling Zomer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-07-13.

Cleaning apparatus and method

Номер патента: NL2029649B1. Автор: NIKIPELOV Andrey,DOLGOV Alexandr,Adrianus Van De Kerkhof Marcus,Silvester Houweling Zomer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-21.

Cleaning apparatus and method for cleaning a transport screw

Номер патента: RU2760054C2. Автор: Ойген ЙОХНЕР. Владелец: Карл Шнелль Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2021-11-22.

Integrated wafer debonding and cleaning apparatus and debonding and cleaning method

Номер патента: US20230386885A1. Автор: Chih-Cheng Wang,zong-en Wu,Yun-cheng CHIU. Владелец: Grand Process Technology Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Pipeline cleaning apparatus

Номер патента: WO2006081241A2. Автор: Richard Raymond Rozycki. Владелец: Inland Waters Pollution Control, Inc.. Дата публикации: 2006-08-03.

Pipeline cleaning apparatus

Номер патента: WO2006081241A3. Автор: Richard Raymond Rozycki. Владелец: Inland Waters Pollution Contro. Дата публикации: 2008-03-13.

Cleaning apparatus

Номер патента: EP3690380A1. Автор: Masaaki Ueda,Takayoshi Ikeda,Tsuneo Maki,Takao Ushimoto. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2020-08-05.

Cleaning apparatus and method for quartz tube

Номер патента: US12121943B2. Автор: Bin Hua,Wenxuan LI,Xunbing ZHOU,Bangyong WAN. Владелец: Zhicheng Semiconductor Equipment Technology Kunshan Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Firearm bore cleaning apparatus, systems and methods

Номер патента: US09995554B2. Автор: Ronald W. Thompson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-06-12.

Holder product range and cleaning apparatus for cleaning breathing apparatuses

Номер патента: US09884349B2. Автор: Herbert FALK,Heiko Wörner. Владелец: Meiko Maschinenbau GmbH and Co KG. Дата публикации: 2018-02-06.

Contact cleaning apparatus

Номер патента: US20240226966A9. Автор: Stephen Mitchell,Sheila Hamilton. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2024-07-11.

Cleaning apparatus for 3D printing structure and cleaning method for 3D printing structure using the same

Номер патента: US12036739B2. Автор: Hui Suk Yun,Honghyun Park. Владелец: Korea Institute of Materials Science KIMS. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate edge part cleaning apparatus and substrate edge part cleaning method

Номер патента: US20070181152A1. Автор: Shinjiro Tsuji,Ryouichirou Katano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-08-09.

Instrument cleaning apparatus and method

Номер патента: US20230356266A1. Автор: Howard Jeffrey Leventhal. Владелец: Innovative Pathology Concepts Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Cyclonic Steam Cleaning Apparatus and Methods of Using the Same

Номер патента: US20220105546A1. Автор: Clinton D. Nelson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-04-07.

Cleaning apparatus. radiation source module and fluid treatment system

Номер патента: EP2498925A1. Автор: George Traubenberg,Cristian Moglan,Allan Archer. Владелец: Trojan Technologies Inc Canada. Дата публикации: 2012-09-19.

Robotic vacuum with rotating cleaning apparatus

Номер патента: US09901234B1. Автор: Ali Ebrahimi Afrouzi,Soroush Mehrnia,Azadeh Afshar Bakooshli. Владелец: Bobsweep Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Assembling apparatus, assembling method and terminal cleaning apparatus

Номер патента: US7501038B2. Автор: Hidehiko Takata,Kouki Iwakawa. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2009-03-10.

Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120298132A1. Автор: Shigeru Kawamura,Teruyuki Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-29.

Liquid knife, liquid knife cleaning apparatus and liquid knife assembly apparatus

Номер патента: US20170266698A1. Автор: Chen Yuan,Yu Yang,LIN Huang,LIANG Yao,Wei Zhou,Liming Xu,Chengnan HSIEH,Giseub LIM,Erlun CHEN. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-21.

Portable Die Cleaning Apparatus and Method Thereof

Номер патента: US20080308121A1. Автор: JUNG Keun Oh,Do Hyun Kim,Keun Ho Lee,Hae Ryong Lee,Duk Jae Kim. Владелец: PSM Inc. Дата публикации: 2008-12-18.

Flux cleaning apparatus

Вам могут быть интересны следующие патенты